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公开(公告)号:JPWO2020158506A1
公开(公告)日:2021-12-09
申请号:JP2020001917
申请日:2020-01-21
Applicant: 株式会社フジキン
Abstract: 濃度測定装置100は、ガスが流れる流路を有する測定セル4と、測定セルへの入射光を発する光源1と、測定セルから出射した光を検出する光検出器7と、測定セル内のガス圧力を検出する圧力センサ20と、測定セル内のガス温度を検出する温度センサ22と、圧力センサの出力P、温度センサの出力T、光検出器の出力I、および、吸光係数αに基づいてガスの濃度を演算する演算回路8とを備え、演算回路8は、温度センサ22の出力に基づいて決定された吸光係数αを用いて濃度を演算するように構成されている。
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公开(公告)号:JPWO2020066769A1
公开(公告)日:2021-08-30
申请号:JP2019036481
申请日:2019-09-18
Applicant: 株式会社フジキン
Abstract: 被測定流体が流れる測定セルと、測定セルへの入射光を発する光源と、測定セルからの出射光を検出する光検出器と、光検出器の出力に基づいて被測定流体の吸光度および濃度を演算する演算部と、被測定流体の温度を測定する温度センサとを有する濃度測定装置において実行される濃度測定方法は、被測定流体として温度によって分子構造が変化するガスを測定セル内に流す工程と、被測定流体によって吸光される波長の光を光源から測定セルへ入射させるとともに、測定セルから出射した光の強度を光検出器によって測定する工程と、温度センサによって測定された温度と光検出器の出力とに基づいて被測定流体の濃度を演算する工程とを含む。
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公开(公告)号:JPWO2019159959A1
公开(公告)日:2021-02-04
申请号:JP2019005082
申请日:2019-02-13
Applicant: 株式会社フジキン
Abstract: 圧電アクチュエータの使用範囲温度を超える温度の流体でも制御可能なように構成された圧電素子駆動式バルブ100は、弁体2を弁座5に離着座させるための圧電素子10bと、弁体2と圧電素子10bとの間に配置された断熱スペーサ40と、圧電素子10bに固定された歪センサ20とを有し、断熱スペーサ40には、断熱スペーサ40と圧電素子10bとの積層方向D1に交差する方向に沿って貫通する複数の孔40Hが設けられている。
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公开(公告)号:JP2020106435A
公开(公告)日:2020-07-09
申请号:JP2018246230
申请日:2018-12-27
Applicant: 株式会社フジキン
Abstract: 【課題】 機械的加工を必要とせずに反射部材の表裏を識別する方法を提供する。 【解決手段】 測定セルと、測定セルに入射した光を反射する反射部材であって第1の面および第2の面を有する透光性プレートと透光性プレートの第1の面のみに形成された反射層とを有する反射部材と、測定セルから出射した光を検出する光検出器とを備える濃度測定装置において行う反射部材の表裏判別方法であって、第1の面に対して照射したときの反射率と、第2の面に対して照射したときの反射率とが異なる波長である第1の波長の光を第1の面および第2の面に照射して反射率の測定を行う工程と、第1の波長の光を照射するとともに反射率を測定することによって反射部材の表裏を識別する工程とを含む。 【選択図】図1
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公开(公告)号:JP2020057671A
公开(公告)日:2020-04-09
申请号:JP2018186185
申请日:2018-09-29
Applicant: 株式会社フジキン
IPC: H01L21/302
Abstract: 【課題】HF等の活性ガスがチャンバ内壁へ吸着又は反応する問題を考慮し、Use Pointで常に目標の活性ガス流量が得られるよう、チャンバへ供給する活性ガスの流量を補正するシステムを提供する。 【解決手段】 半導体基板を活性ガスで処理するチャンバ6へ該活性ガスを供給するシステム100であって、前記活性ガスの供給量を制御する質量流量制御装置1と、該質量流量制御装置を制御するコントローラ2と、半導体基板の処理の際の前記活性ガスの前記チャンバ6の内壁との推定反応量を記憶する記憶装置3とを含み、前記コントローラ2は、半導体基板の処理の際、前記推定反応量に基づいて、前記供給量を補正するように前記質量流量制御装置1を制御するシステム。 【選択図】図1
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公开(公告)号:JPWO2017170174A1
公开(公告)日:2019-02-14
申请号:JP2017011851
申请日:2017-03-23
Applicant: 株式会社フジキン
IPC: G05D7/06
Abstract: 圧力式流量制御装置(8)は、絞り部(2)と、絞り部上流の制御弁(6)と、上流圧力検出器(3)および下流圧力検出器(4)と、制御弁と絞り部との間の流路における圧力降下データと基準圧力降下データとを用いて流量制御を診断するコントローラ(7)とを備え、下流圧力検出器の下流側には遮断弁(9)が設けられ、流量自己診断機能を実行するとき、制御弁と遮断弁とに閉命令が出され、コントローラ(7)は、制御弁を閉じてからの上流圧力検出器および下流圧力検出器の出力を用いて所定の臨界膨張条件を満足しているか否かを判定し、所定の臨界膨張条件を満足する期間の圧力降下データを用いて流量制御を診断する。
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