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    光配向用露光装置及び光配向用露光方法
    1.
    发明专利
    光配向用露光装置及び光配向用露光方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2020129028A

    公开(公告)日：2020-08-27

    申请号：JP2019020692

    申请日：2019-02-07

    Applicant: 株式会社ブイ・テクノロジー ,  シャープ株式会社

    Inventor： 吉田 祐治 ,  池田 聡 ,  新井 敏成 ,  片山 崇 ,  花岡 一孝

    IPC: G02B5/26 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1337

    Abstract: 【課題】プレチルト角を安定して出現させる斜め露光法を行う光配向露光装置において、安価な散乱光源(体積光源)を用いることができ、コンパクトな形態であっても均一な光照射を可能にする。 【解決手段】光配向用露光装置は、光配向膜となる被照射面に対して偏光走査露光を行うものであり、被照射面に向けて散乱光を出射する光源と、光源から出射された光のうち、光配向膜の感光波長を選択的に出射する光学フィルタと、光学フィルタを通過した光を走査方向の前後方向で非対称に制限する光制限部材とを備え、光学フィルタは、走査方向に沿った照射角度が被照射面の法線方向に対して設定角度以上の斜め露光で、感光波長の光の透過率がピークになる波長透過特性を有する。 【選択図】図1

    光照射装置
    3.
    发明专利
    光照射装置 审中-公开

    公开(公告)号：JP2019211725A

    公开(公告)日：2019-12-12

    申请号：JP2018110258

    申请日：2018-06-08

    Applicant: 株式会社ブイ・テクノロジー ,  岩崎電気株式会社

    Inventor： 吉田 祐治 ,  池田 聡 ,  新井 敏成

    IPC: G02F1/1337

    Abstract: 【課題】散乱光を被露光面に照射する光照射装置において、感光性材料の波長依存性に応じて、適正な波長の光を照射できるようにする。 【解決手段】光照射装置は、被露光面に向けて散乱光を出射する光源部と、光源部から出射された光を透過させる光学フィルタを備え、光源部は、光学フィルタにおいて設定されている選択波長の短波長側の帯域をカットした光を出射する。 【選択図】図1

    パターン露光装置及びパターン露光方法
    8.
    发明专利
    パターン露光装置及びパターン露光方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2021124523A

    公开(公告)日：2021-08-30

    申请号：JP2020015332

    申请日：2020-01-31

    Applicant: 株式会社ブイ・テクノロジー

    Inventor： 新井 敏成 ,  竹下 琢郎

    IPC: G03F7/20

    Abstract: 【課題】DMDなどのパターン形成装置に入力する制御データの処理時間による走査速度の制限を緩和して、高速走査を可能にし、露光時間の短縮化を図る。 【解決手段】パターン露光装置は、露光ヘッドと、走査部と、制御部とを備え、露光ヘッドのパターン形成装置は、走査方向に沿って露光エリアを複数の分割露光エリアに等分割する複数の分割変調領域を備え、制御部は、制御データが分割変調領域におけるフレーム毎のデータとして格納されるデータ格納部と、データ格納部に格納された制御データを参照して、パターン形成装置を分割変調領域毎に駆動する駆動部を備え、駆動部は、第1の分割変調領域の駆動を、走査タイミング毎に格納されている制御データの参照先を順次変えることで行い、第1の分割変調領域の後走査側に隣接する第2の分割変調領域の駆動を、分割露光エリアの走査幅に相当する走査タイミングだけ前に参照した制御データにて行う。 【選択図】図6

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