公开(公告)号：CN106238036B

公开(公告)日：2019-11-12

申请号：CN201610534760.X

申请日：2013-05-31

Applicant: 株式会社东芝 ,  东芝高新材料公司

Inventor： 福士大辅 ,  日下隆夫 ,  佐藤光 ,  中野佳代 ,  新田晃久 ,  乾由贵子 ,  大田博康

IPC: B01J23/30 ,  B01J35/02 ,  B01J37/02

Abstract: 本发明提供水系分散液，实施方式的水系分散液具备：含有氧化钨和氧化锆的可见光响应型光催化复合微粒、以及分散有光催化复合微粒的水系分散介质。光催化复合微粒中，氧化锆的质量相对于氧化钨的质量的比例为0.05％以上200％以下的范围，且粒度分布中的D50粒径在20nm以上10μm以下的范围。水系分散液的pH在1以上9以下的范围。

公开(公告)号：CN106756169B

公开(公告)日：2018-07-17

申请号：CN201611146152.8

申请日：2012-12-20

Applicant: 株式会社东芝 ,  东芝高新材料公司

Inventor： 山本慎一 ,  中野佳代 ,  堀江宏道 ,  佐野孝 ,  南淑子 ,  山口悟

IPC: C22C1/05 ,  C22C27/04 ,  C22C32/00 ,  C22F1/18 ,  H01J23/05

CPC classification number: C22C27/04 ,  B22F3/1007 ,  C22C1/045 ,  C22C43/00 ,  C22F1/18 ,  H01J23/05

Abstract: 本发明的目的是得到一种不使用作为放射性物质的钍也具有与含钍的钨合金相同或在其以上的发射特性的钨合金，以及提供使用该钨合金的放电灯、发射管和磁控管。本发明的钨合金中，在0.1wt％以上3wt％以下的范围内含有以HfC换算计的含有HfC的Hf成分。

公开(公告)号：CN103998634B

公开(公告)日：2017-03-08

申请号：CN201280060611.4

申请日：2012-12-21

Applicant: 株式会社东芝 ,  东芝高新材料公司

Inventor： 山本慎一 ,  中野佳代 ,  堀江宏道

IPC: C22C1/04 ,  C22C1/05 ,  C22C1/10 ,  C22C27/04 ,  B22F3/14 ,  B22F3/24 ,  H01J1/14

CPC classification number: H01J1/144 ,  B22F5/12 ,  C22C1/045 ,  C22C1/1078 ,  C22C27/04 ,  C22C32/0052 ,  H01J23/05 ,  H01J61/0735 ,  H01J2201/30449

Abstract: 本发明的目的是得到一种不使用作为放射性物质的钍也具有与含钍的钨合金相同或在其以上的发射特性的钨合金，以及提供使用该钨合金的放电灯、发射管和磁控管。本发明的钨合金中，在0.1wt％以上5wt％以下的范围内含有以ZrC换算计的Zr成分。

公开(公告)号：CN103950253B

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201410145783.2

申请日：2009-09-16

Applicant: 株式会社东芝 ,  东芝高新材料公司

Inventor： 中野佳代 ,  佐藤光 ,  白川康博 ,  日下隆夫 ,  笠松伸矢

IPC: B32B27/06 ,  C09D7/12 ,  C09D5/00 ,  C09D5/14 ,  B01J31/34

CPC classification number: B01J35/004 ,  B01J21/063 ,  B01J21/066 ,  B01J23/30 ,  B01J23/6527 ,  B01J23/687 ,  B01J23/888 ,  B01J35/002 ,  B01J35/006 ,  B01J37/0215 ,  B01J37/349 ,  C03C17/007 ,  C03C2217/452 ,  C03C2217/475 ,  C03C2217/75 ,  C09D183/04

Abstract: 亲水性薄膜包括基材薄膜以及至少存在于基材薄膜的表面的微粒。微粒由选自氧化钨微粒和氧化钨复合材料微粒的至少1种构成。微粒的平均粒径在1nm以上200nm以下的范围内，且微粒的长宽比在1以上3.5以下的范围内。

公开(公告)号：CN103998634A

公开(公告)日：2014-08-20

申请号：CN201280060611.4

申请日：2012-12-21

Applicant: 株式会社东芝 ,  东芝高新材料公司

Inventor： 山本慎一 ,  中野佳代 ,  堀江宏道

IPC: C22C1/04 ,  C22C1/05 ,  C22C1/10 ,  C22C27/04 ,  B22F3/14 ,  B22F3/24 ,  H01J1/14

CPC classification number: H01J1/144 ,  B22F5/12 ,  C22C1/045 ,  C22C1/1078 ,  C22C27/04 ,  C22C32/0052 ,  H01J23/05 ,  H01J61/0735 ,  H01J2201/30449

Abstract: 本发明的目的是得到一种不使用作为放射性物质的钍也具有与含钍的钨合金相同或在其以上的发射特性的钨合金，以及提供使用该钨合金的放电灯、发射管和磁控管。本发明的钨合金中，在0.1wt％以上5wt％以下的范围内含有以ZrC换算计的Zr成分。

公开(公告)号：CN101821005A

公开(公告)日：2010-09-01

申请号：CN200880106188.0

申请日：2008-09-05

Applicant: 株式会社东芝 ,  东芝高新材料公司

Inventor： 中野佳代 ,  佐藤光 ,  白川康博 ,  布施圭一 ,  冈村正巳

IPC: B01J35/02 ,  B01J23/30 ,  B01J23/85 ,  B01J37/08 ,  B01J37/34 ,  C01G41/02 ,  C09D1/00 ,  C09D5/00 ,  C09D7/12 ,  D01F1/10

CPC classification number: C09D5/1618 ,  B01J23/30 ,  B01J35/002 ,  B01J35/004 ,  B01J35/1009 ,  B01J35/1014 ,  B01J35/1019 ,  B01J37/14 ,  B01J37/349 ,  B82Y30/00 ,  C01G41/02 ,  C01P2002/72 ,  C01P2002/74 ,  C01P2004/62 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/62 ,  C01P2006/63 ,  C01P2006/64 ,  C01P2006/80 ,  C08K3/22 ,  C09D1/00 ,  C09D5/14 ,  C09D7/61 ,  C09D7/67 ,  C09D7/68 ,  D01F1/10 ,  D06M11/48 ,  Y10T428/2982

Abstract: 本发明的可见光响应型光催化剂粉末包含氧化钨粉末，用X射线衍射法对氧化钨粉末进行测定时，(1)峰A(2θ＝22.8～23.4°)、峰B(2θ＝23.4～23.8°)、峰C(2θ＝24.0～24.25°)、峰D(2θ＝24.25～24.5°)的强度比中，A/D比和B/D比在0.5～2.0的范围内，C/D比在0.04～2.5的范围内，(2)峰E(2θ＝33.85～34.05°)和峰F(2θ＝34.05～34.25°)的强度比(E/F)在0.1～2.0的范围内，(3)峰G(2θ＝49.1～49.7°)和峰H(2θ＝49.7～50.3°)的强度比(G/H)在0.04～2.0的范围内，且具有1.5～820m2/g的范围的BET比表面积。

公开(公告)号：CN106645548B

公开(公告)日：2019-05-07

申请号：CN201510725590.9

申请日：2015-10-30

Applicant: 株式会社东芝 ,  东芝高新材料公司

Inventor： 新田晃久 ,  日下隆夫 ,  佐藤光 ,  中野佳代 ,  丰岛正规 ,  福士大辅 ,  佐多丰

IPC: G01N31/10

Abstract: 实施方式的光催化剂性能的模拟方法具备：选择选自光催化剂的涂布前的房间内的气味成分浓度、房间的容积、房间的每单位时间的换气次数、房间内的水蒸气量、房间内的温度、光催化剂的涂布面的照度、及光催化剂的涂布面附近的风速中的至少1个作为涂布光催化剂的房间的环境条件的工序(101)；基于选择的房间的环境条件，设定选自光催化剂的涂布面密度及光催化剂的涂布面积中的至少1个作为光催化剂向房间内的涂布条件的工序(102)；以及，基于光催化剂的基本性能、房间的环境条件、及光催化剂的涂布条件算出光催化剂的涂布后的房间内的气味成分浓度的工序(103)。

公开(公告)号：CN108187662A

公开(公告)日：2018-06-22

申请号：CN201810153100.6

申请日：2014-03-11

Applicant: 株式会社东芝 ,  东芝高新材料公司

Inventor： 福士大辅 ,  日下隆夫 ,  佐藤光 ,  中野佳代 ,  新田晃久 ,  乾由贵子 ,  大田博康

IPC: B01J23/30 ,  B01J23/652 ,  B01J23/888 ,  B01D53/86 ,  B01D53/72

Abstract: 本发明涉及光催化剂及使用其的光催化剂分散液、光催化剂涂料、光催化剂膜和制品。实施方式的光催化剂具备氧化钨基微粒，其中含有5质量％以上至100质量％以下的范围的氧化钨。在光催化剂采用拉曼分光法测定的拉曼光谱中，在920cm-1以上至950cm-1以下的范围观察到的峰的强度X与在800cm-1以上至810cm-1以下的范围观察到的峰的强度Y之比(X/Y)在大于0至0.04以下的范围。

公开(公告)号：CN106955661A

公开(公告)日：2017-07-18

申请号：CN201710247032.5

申请日：2012-08-23

Applicant: 株式会社东芝 ,  东芝高新材料公司

Inventor： 佐藤光 ,  福士大辅 ,  日下隆夫 ,  中野佳代 ,  乾由贵子 ,  佐佐木亮人

IPC: B01J20/06 ,  C02F1/28 ,  B09C1/08 ,  C01G41/02 ,  B82Y40/00 ,  C02F103/08

CPC classification number: C22B26/10 ,  B01D15/36 ,  B01D21/01 ,  B01J20/06 ,  B01J20/28004 ,  B01J20/28016 ,  B01J20/28057 ,  B01J20/28059 ,  B01J20/28061 ,  B01J20/28064 ,  B82Y30/00 ,  C01G41/02 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/12 ,  C02F1/281 ,  C02F1/5272 ,  C02F2101/006 ,  C02F2101/10 ,  C02F2101/20 ,  C02F2103/08 ,  G21F9/12 ,  G21F9/125 ,  B09C1/085 ,  B09C2101/00

Abstract: 本发明涉及阳离子吸附剂及使用其的溶液的处理方法，所述阳离子吸附剂具备BET比表面积为0.82m2/g以上820m2/g以下的范围的氧化钨微粒。向含有回收对象的阳离子的被处理溶液中添加这样的阳离子吸附剂，然后使吸附了阳离子的阳离子吸附剂沉淀。从被处理溶液中分离回收生成的沉淀物。

公开(公告)号：CN106783459A

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：CN201710044256.6

申请日：2012-12-21

Applicant: 株式会社东芝 ,  东芝高新材料公司

Inventor： 山本慎一 ,  中野佳代 ,  堀江宏道

IPC: H01J1/14 ,  C22C1/04 ,  C22C1/05 ,  C22C1/10 ,  C22C27/04 ,  B22F3/14 ,  B22F3/24

CPC classification number: H01J1/144 ,  B22F5/12 ,  C22C1/045 ,  C22C1/1078 ,  C22C27/04 ,  C22C32/0052 ,  H01J23/05 ,  H01J61/0735 ,  H01J2201/30449

Abstract: 本发明的目的是得到一种不使用作为放射性物质的钍也具有与含钍的钨合金相同或在其以上的发射特性的钨合金，以及提供使用该钨合金的放电灯、发射管和磁控管。本发明的钨合金中，在0.1wt％以上5wt％以下的范围内含有以ZrC换算计的Zr成分。