公开(公告)号：WO2011064734A1

公开(公告)日：2011-06-03

申请号：PCT/IB2010/055426

申请日：2010-11-25

Applicant: BASF SE ,  RAMAN, Vijay Immanuel ,  EBERT, Sophia ,  BRANDS, Mario ,  LAN, Yongqing ,  ZACHARIAS, Philipp ,  GUBAYDULLIN, Ilshat ,  LI, Yuzhuo ,  BASF (CHINA) COMPANY LIMITED

Inventor： RAMAN, Vijay Immanuel ,  EBERT, Sophia ,  BRANDS, Mario ,  LAN, Yongqing ,  ZACHARIAS, Philipp ,  GUBAYDULLIN, Ilshat ,  LI, Yuzhuo

IPC: H01L21/463 ,  C09G1/02

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/3212

Abstract: A process for removing a bulk material layer from a substrate and planarizing the exposed surface by CMP by (1 ) providing an CMP agent exhibiting at the end of the chemical mechanical polishing, without the addition of supplementary materials, the same SER as at its start and a lower MRR than at its start, - an SER which is lower than the initial SER and an MRR which is the same or essentially the same as the initial MRR or a lower SER and a lower MRR than at its start; (2) contacting the surface of the bulk material layer with the CMP agent; (3) the CMP of the bulk material layer with the CMP agent; and (4) continuing the CMP until all material residuals are removed from the exposed surface; and a CMP agent and their use for manufacturing electrical and optical devices.

Abstract translation: （1）提供在化学机械抛光结束时显示的CMP试剂，而不添加补充材料，与其开始时相同的SER的方法，用于从基底去除体材料层并通过CMP平坦化暴露表面的方法 和比开始时更低的MRR， - 低于初始SER的SER，和与初始MRR相同或基本相同的MRR，或比开始时更低的SER和较低的MRR; （2）使本体材料层的表面与CMP剂接触; （3）散装材料层的CMP与CMP剂; 和（4）继续CMP，直到从暴露表面去除所有材料残留物; 和CMP剂及其用于制造电气和光学器件的用途。

公开(公告)号：WO2009050176A1

公开(公告)日：2009-04-23

申请号：PCT/EP2008/063831

申请日：2008-10-15

Applicant: BASF SE ,  SHARAVANAN, Karthikeyan ,  VENKATESH, Rajan ,  RAMAN, Vijay Immanuel

Inventor： SHARAVANAN, Karthikeyan ,  VENKATESH, Rajan ,  RAMAN, Vijay Immanuel

IPC: C08F283/06 ,  C08L59/00 ,  C08L59/02

CPC classification number: C08F283/06 ,  C08L33/00 ,  C08L51/08 ,  C08L59/00 ,  C08L59/02 ,  C08L2666/02 ,  C08L2666/04

Abstract: Verfahren zur Herstellung von schlagzähmodifizierten Polyoxymethylenen, dadurch gekennzeichnet, dass man Monomere, die einen Acrylatkautschuk B) bilden in Anwesenheit eines Polyoxymethylenhomo- oder copolymerisates A) in situ polymerisiert.

Abstract translation: 一种用于制备抗冲改性的聚甲醛，其特征在于聚合单体，其形成在原位聚甲醛均聚物或共聚物A）的存在下的丙烯酸酯橡胶B）的过程。

公开(公告)号：WO2009027310A1

公开(公告)日：2009-03-05

申请号：PCT/EP2008/060941

申请日：2008-08-21

Applicant: BASF SE ,  SCHÄDLER, Volker ,  SANCHEZ-FERRER, Antonio ,  RAMAN, Vijay Immanuel ,  FRICKE, Marc ,  BRUCHMANN, Bernd

Inventor： SCHÄDLER, Volker ,  SANCHEZ-FERRER, Antonio ,  RAMAN, Vijay Immanuel ,  FRICKE, Marc ,  BRUCHMANN, Bernd

IPC: C08G18/64 ,  C08G18/75

CPC classification number: C08G18/6423 ,  C08G18/755 ,  C08G2101/0091 ,  C08G2330/50

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Xerogel enthaltend - von 20 bis 90 Gew.-% einer Monomerkomponente (a1 ) bestehend aus mindestens einem mehrfunktionellen Isocyanat und - von 10 bis 80 Gew.-% einer Monomerkomponente (a2) bestehend aus mindestens einem mehrfunktionellen aliphatischen Amin, wobei die Summe der Gew.-% der Monomerkomponenten (a1 ) und (a2) 100 Gew.-% ergibt und wobei die Monomerkomponenten im Xerogel in polymerer Form vorliegen und der volumengewichtete mittlere Porendurchmesser des Xerogels höchstens 5 μm beträgt. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung von Xerogelen, die so erhältlichen Xerogele sowie die Verwendung der Xerogele als Dämmstoff und in Vakuumisolationspaneelen.

Abstract translation: 本发明涉及一种包含干凝胶 - 从20至90重量由至少一种多官能异氰酸酯和单体成分（a1）的％ - 从10到80重量由至少一种多官能脂族胺的单体组分（a2），其中，％ 的重量的总和.-％100重量所得的单体成分（a1）和（a2）的％，以及其中在以聚合物形式存在的干凝胶的单体成分，和干凝胶的体积加权平均孔径为至多5微米。 此外，本发明涉及制备干凝胶，干凝胶可如此得到和使用干凝胶作为绝缘材料，并在真空绝热板的方法。

公开(公告)号：WO2013068375A1

公开(公告)日：2013-05-16

申请号：PCT/EP2012/071975

申请日：2012-11-07

Applicant: BASF SE ,  SEYFFER, Hermann ,  CIMPEANU, Carmen-Elena ,  SONG, Anja ,  STEINMACHER, Thomas ,  CLAUßEN, Jörg ,  ZACHARIAS, Philipp ,  RAMAN, Vijay Immanuel ,  SCHÖCKER, Petra

Inventor： SEYFFER, Hermann ,  CIMPEANU, Carmen-Elena ,  SONG, Anja ,  STEINMACHER, Thomas ,  CLAUßEN, Jörg ,  ZACHARIAS, Philipp ,  RAMAN, Vijay Immanuel ,  SCHÖCKER, Petra

IPC: C09D4/06

CPC classification number: C09D7/1216 ,  C08F20/28 ,  C09D4/06 ,  C09D7/61 ,  Y10T428/31906

Abstract: A paper coating slip additive obtainable by free-radical polymerization, its preparation and its use in paper coating compositions are described. The additive is formed from (a) acid monomers selected from ethylenically unsaturated C3 to C8 carboxylic acids, (b) associative monomers of the general formula H 2 C=CR 1 -COO-(EO) n -(PO) m -R 2 where R 1 is hydrogen or methyl, n is at least two, m is from zero to 50, EO is an ethylene oxide group, PO is a propylene oxide group and R 2 is a C8-C30 alkyl group or a C8-C30 alkaryl group, and (c) nonionic copolymerizable monomers other than a) and b), wherein said additive has a weight average molecular weight of below 200 000 and wherein tert-dodecyl mercaptan is used as chain transfer agent.

Abstract translation: 描述了通过自由基聚合获得的纸张涂布滑爽剂，其制备方法及其在纸涂料组合物中的用途。 添加剂由（a）选自烯键式不饱和C3至C8羧酸的酸性单体形成，（b）通式为H 2 C = CR 1 -COO-（EO）n-（PO）m -R 2的缔合单体，其中R 1为氢 或甲基，n为至少2，m为0至50，EO为环氧乙烷基团，PO为环氧丙烷基团，R 2为C 8 -C 30烷基或C 8 -C 30烷芳基，（c） 除a）和b）以外的非离子共聚单体，其中所述添加剂的重均分子量低于200000，其中叔十二烷基硫醇用作链转移剂。

公开(公告)号：WO2011117344A1

公开(公告)日：2011-09-29

申请号：PCT/EP2011/054532

申请日：2011-03-24

Applicant: BASF SE ,  COURTOIS, Julien ,  TRAUT, Alexander ,  RAMAN, Vijay Immanuel ,  AL-HELLANI, Rabie ,  ZACHARIAS, Philipp ,  SCHMIDT, Christian

Inventor： COURTOIS, Julien ,  TRAUT, Alexander ,  RAMAN, Vijay Immanuel ,  AL-HELLANI, Rabie ,  ZACHARIAS, Philipp ,  SCHMIDT, Christian

IPC: C08J3/24 ,  C08G69/48 ,  C08L77/00 ,  B29C71/02 ,  C08L33/02 ,  C08L33/04 ,  C08L33/08 ,  C08L33/10 ,  C08L51/00

CPC classification number: C08G69/48 ,  B29C71/02 ,  B29K2077/00 ,  B29K2105/243 ,  C08J3/246 ,  C08J2333/02 ,  C08J2333/04 ,  C08J2377/02 ,  C08L33/02 ,  C08L33/04 ,  C08L33/08 ,  C08L33/10 ,  C08L51/003 ,  C08L77/00 ,  C08L2666/04 ,  C08L2666/24

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von nachvernetztem Polyamid umfassend die Schritte (a) Bereitstellung einer Mischung enthaltend 80 bis 99,9 Gew.-% Polyamid (A), 0,1 bis 20 Gew.-% Komponente (B), die mindestens drei funktionelle Gruppen trägt, die mit den im Polyamid (A) enthaltenen funktionellen Gruppen reagieren können und 0 bis 25 Gew.-% Additiv (C), jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht von (A), (B) und (C), (b) Formgebung der aus Schritt (a) erhaltenen Mischung, und (c) Wärmebehandlung des aus Schritt (b) erhaltenen geformten Körpers zur Nachvernetzung des Polyamids.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于制造后交联的聚酰胺，包括（a）提供包含80重量％的聚酰胺的混合物双99.9（A）的步骤，0.1至含有至少20重量％的组分（B） 携带能够包含与该官能团的聚酰胺（A）反应的三个官能团和添加剂（C）的0至25重量％，各自基于的（A）的总重量，（B）和（C），（ b）中的整形（来自步骤a）获得的混合物，和（在步骤所获得的c）中的热处理（b）中的模制体与聚酰胺的交联后。

公开(公告)号：WO2012127336A1

公开(公告)日：2012-09-27

申请号：PCT/IB2012/050912

申请日：2012-02-28

Applicant: BASF SE ,  BASF (CHINA) COMPANY LIMITED ,  KLIPP, Andreas ,  RAMAN, Vijay Immanuel ,  VENKATARAMAN, Shyam Sundar ,  MELLIES, Raimund ,  ZHONG, Mingjie

Inventor： KLIPP, Andreas ,  RAMAN, Vijay Immanuel ,  VENKATARAMAN, Shyam Sundar ,  MELLIES, Raimund ,  ZHONG, Mingjie

IPC: B08B3/04

CPC classification number: H01L21/02074 ,  C11D1/662 ,  C11D1/72 ,  C11D1/721 ,  C11D1/722 ,  C11D1/825 ,  C11D3/0073 ,  C11D3/2041 ,  C11D3/2065 ,  C11D3/2082 ,  C11D3/3757 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/422 ,  G03F7/426

Abstract: Aqueous, nitrogen-free cleaning composition, preparation and use thereof are provided. The composition having a pH of from 5 to 8 comprises (A) an amphiphilic nonionic, water-soluble or water-dispersible surfactant and (B) a metal chelating agent selected from polycarboxylic acids having at least 3 carboxylic acid groups. The composition is used for removing residues and contaminants from semiconductor substrates.

Abstract translation: 提供了无水的无氮清洁组合物，其制备和用途。 具有5至8的pH的组合物包含（A）两亲性非离子，水溶性或水分散性表面活性剂和（B）选自具有至少3个羧酸基团的多元羧酸的金属螯合剂。 该组合物用于从半导体衬底去除残留物和污染物。

公开(公告)号：WO2008138978A1

公开(公告)日：2008-11-20

申请号：PCT/EP2008/056015

申请日：2008-05-16

Applicant: BASF SE ,  SCHÄDLER, Volker ,  FRICKE, Marc ,  WIEGMANN, Werner ,  EMGE, Andreas ,  RAMAN, Vijay Immanuel ,  SANCHEZ-FERRER, Antonio

Inventor： SCHÄDLER, Volker ,  FRICKE, Marc ,  WIEGMANN, Werner ,  EMGE, Andreas ,  RAMAN, Vijay Immanuel ,  SANCHEZ-FERRER, Antonio

IPC: C08G18/32 ,  C08G18/76 ,  C08G101/00

CPC classification number: C08J9/28 ,  C08G18/3243 ,  C08G18/7664 ,  C08G2101/0091 ,  C08G2330/50 ,  C08J2201/0502 ,  C08J2205/028 ,  C08J2375/02 ,  E06B3/6612 ,  E06B3/6775

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Xerogel enthaltend: von 30 bis 90 Gew.-% einer Monomerkomponente (a1) aus mindestens einem mehrfunktionellen Isocyanat und von 10 bis 70 Gew.-% einer Monomerkomponente (a2) aus mindestens einem mehrfunktionellen aromatischen Amin, wovon mindestens eines ausgewählt ist aus 4,4'-Diaminodiphenylmethan, 2,4'-Diaminodiphenylmethan, 2,2'-Diaminodiphenylmethan und oligomerem Diaminodiphenylmethan, wobei die Summe der Gew.-% der Monomerkomponenten (a1 ) und (a2) 100 Gew.-% ergibt und wobei die Monomerkomponenten im Xerogel in polymerer Form vorliegen und der volumengewichtete mittlere Porendurchmesser des Xerogels höchstens 5 μm beträgt. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung von Xerogelen, die so erhältlichen Xerogele sowie die Verwendung der Xerogele als Dämmstoff und in Vakuumisolationspaneelen.

Abstract translation: 本发明涉及一种包含干凝胶：从30至90重量由至少一种多官能异氰酸酯的单体成分（a1）的％和10至70重量，其中至少一个所选择的至少一种多官能芳族胺的单体组分（a2）中，％ 从4,4'-二氨基二苯甲烷，2,4'-二氨基二苯甲烷，2,2'-二氨基二苯甲烷和低聚二氨基二苯甲烷，和重量的总和.-％100重量所得的单体成分（a1）的％和选定的（a2）和 其中，在以聚合物形式存在的干凝胶的单体成分，和干凝胶的体积加权平均孔径为至多5微米。 此外，本发明涉及制备干凝胶，干凝胶可如此得到和使用干凝胶作为绝缘材料，并在真空绝热板的方法。

公开(公告)号：WO2008138977A1

公开(公告)日：2008-11-20

申请号：PCT/EP2008/056007

申请日：2008-05-16

Applicant: BASF SE ,  SCHÄDLER, Volker ,  RAMAN, Vijay Immanuel ,  FRICKE, Marc

Inventor： SCHÄDLER, Volker ,  RAMAN, Vijay Immanuel ,  FRICKE, Marc

IPC: C08G18/32 ,  C08G18/76 ,  C08G101/00

CPC classification number: C08G18/3212 ,  C08G12/32 ,  C08G14/10 ,  C08G18/3872 ,  C08G18/7621 ,  C08G18/8029 ,  C08G2101/0091

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von organischen Xerogelen umfassend: (a) Bereitstellen einer Zusammensetzung enthaltend eine organische Gelvorstufe (A) und ein Lösungsmittel (C); (b) Umsetzung der Gelvorstufe (A) in Gegenwart des Lösungsmittels (C) zu einem Gel; (c) Modifizierung des erhaltenen Gels mittels mindestens einer organischen Verbindung (D), welche weder in Schritt (a) noch in Schritt (b) zugegen war; (d) Trocknen des modifizierten Gels durch Überführung des Lösungsmittels (C) in den gasförmigen Zustand bei einer Temperatur und einem Druck unterhalb der kritischen Temperatur und des kritischen Drucks des Lösungsmittels (C). Weiterhin betrifft die Erfindung die so erhältlichen organischen Xerogele sowie deren Verwendung als Dämmstoff.

Abstract translation: 本发明涉及一种制备包含有机干凝胶：（a）提供包含有机凝胶前体（A）和溶剂（C）的组合物; （B）在溶剂（C），以凝胶的存在下，凝胶前体（A）反应; 通过至少一种有机化合物（D），来得到的凝胶的（C）改性，其既不在步骤（a），也没有在步骤（b）存在; （D）干燥通过在温度处于气态的溶剂（C）将所述修饰的凝胶和低于临界温度的压力和溶剂（C）的临界压力。 此外，本发明由此获得的有机干凝胶以及它们的作为绝热材料的用途。

公开(公告)号：WO2011064735A1

公开(公告)日：2011-06-03

申请号：PCT/IB2010/055427

申请日：2010-11-25

Applicant: BASF SE ,  RAMAN, Vijay Immanuel ,  LI, Yuzhuo ,  BRANDS, Mario ,  LAN, Yongqing ,  RUSHING, Kenneth ,  RAMJI, Karpagavalli ,  BASF (CHINA) COMPANY LIMITED

Inventor： RAMAN, Vijay Immanuel ,  LI, Yuzhuo ,  BRANDS, Mario ,  LAN, Yongqing ,  RUSHING, Kenneth ,  RAMJI, Karpagavalli

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/321 ,  H01L21/3105 ,  H01L21/306

CPC classification number: H01L21/3212 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1463

Abstract: An aqueous chemical mechanical polishing (CMP) agent (A) comprising solid particles (a1) containing (a11) a corrosion inhibitor for metals, and (a12) a solid material, the said solid particles (a1) being finely dispersed in the aqueous phase; and its use in a process for removing a bulk material layer from the surface of a substrate and planarizing the exposed surface by chemical mechanical polishing until all material residuals are removed from the exposed surface, wherein the CMP agent exhibits at the end of the chemical mechanical polishing, without the addition of supplementary materials, － the same or essentially the same static etch rate (SER) as at its start and a lower material removal rate (MRR) than at its start, － a lower SER than at its start and the same or essentially the same MRR as at its start or － a lower SER and a lower MRR than at its start; such that the CMP agent exhibits a soft landing behavior.

Abstract translation: 一种包含固体颗粒（a1）的水性化学机械抛光（CMP）剂（A），其包含（a11）金属缓蚀剂和（a12）固体材料，所述固体颗粒（a1）细分散在水相中 ; 并且其用于从基材表面除去大体材料层并通过化学机械抛光使暴露表面平坦化的工艺，直到所有材料残余物从暴露表面除去，其中CMP试剂在化学机械 抛光，而不添加补充材料， - 与其开始时相同或基本相同的静态蚀刻速率（SER）和较低的材料去除速率（MRR），比起始时更低的SER， 与其开始时相同或基本相同的MRR，或比开始时更低的SER和更低的MRR; 使得CMP试剂表现出软着色行为。

公开(公告)号：WO2011058503A1

公开(公告)日：2011-05-19

申请号：PCT/IB2010/055101

申请日：2010-11-10

Applicant: BASF SE ,  LAUTER, Michael ,  RAMAN, Vijay Immanuel ,  LI, Yuzhuo ,  VENKATARAMAN, Shyam Sundar ,  SHEN, Daniel Kwo-Hung ,  BASF (CHINA) COMPANY LIMITED

Inventor： LAUTER, Michael ,  RAMAN, Vijay Immanuel ,  LI, Yuzhuo ,  VENKATARAMAN, Shyam Sundar ,  SHEN, Daniel Kwo-Hung

IPC: C09G1/02

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

Abstract: A chemical mechanical polishing (CMP) composition, comprising (A) at least one type of inorganic particles which are dispersed in the liquid medium (C), (B) at least one type of polymer particles which are dispersed in the liquid medium (C), (C) a liquid medium, wherein the zeta-potential of the inorganic particles (A) in the liquid medium (C) and the zeta-potential of the polymer particles in the liquid medium (C) are of same signs.

Abstract translation: 一种化学机械抛光（CMP）组合物，其包含（A）分散在液体介质（C）中的至少一种类型的无机颗粒，（B）分散在液体介质（C）中的至少一种类型的聚合物颗粒 ），（C）液体介质（C）中的无机粒子（A）的ζ电位和液体介质（C）中的聚合物粒子的ζ电位相同的液体介质。