-
-
公开(公告)号：JP2018097249A
公开(公告)日：2018-06-21
申请号：JP2016243260
申请日：2016-12-15
Applicant: DIC株式会社
IPC: G03F7/075 , H01L21/027 , B01D61/14 , B01J20/04 , B01J20/26 , B01D29/11 , B01D36/00 , B01D15/00 , G03F7/26
Abstract: 【課題】 水洗浄法に適さない樹脂組成物においても採用可能であり、感光性樹脂組成物に存在する従来除去が困難であった金属不純物を、各金属ごとに100ppb以下まで簡便に低減する方法を提供することである。 【解決手段】 レジスト用感光性樹脂組成物を、金属酸化物を含む吸着剤に接触させる工程と、デプスフィルターでろ過する工程と、を経ることにより、当該組成物中の金属不純物の金属ごとの含有量を100ppb以下とすることを特徴とするレジスト用感光性樹脂組成物の製造方法により上記課題を解決する。 【選択図】 なし
-
公开(公告)号：JP6332717B2
公开(公告)日：2018-05-30
申请号：JP2017548495
申请日：2017-04-25
Applicant: DIC株式会社
IPC: C08F290/14 , C08F290/06 , H01L21/027
CPC classification number: B29C59/02 , C08F2/46 , C08F299/08 , H01L21/027
-
公开(公告)号：JP6065496B2
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：JP2012210865
申请日：2012-09-25
Applicant: DIC株式会社
IPC: C08F290/06 , G02B1/04 , C08F290/02
-
公开(公告)号：JP2020002231A
公开(公告)日：2020-01-09
申请号：JP2018121935
申请日：2018-06-27
Applicant: DIC株式会社
IPC: C08F2/48 , C08F299/08 , C08F2/40
Abstract: 【課題】 インプリント用レジストとして酸素プラズマエッチング耐性に優れるケイ素含有アクリル酸エステル系樹脂を採用することによる新たな課題、すなわち迷光などによるモールドが押し付けられていない領域の樹脂層が硬化される不具合を抑制可能な光硬化性組成物を提供すること。 【解決手段】 分子中にアルコキシシリル基を有する重合性化合物(A)と、重合禁止剤(B)とを含む硬化性組成物であって、前記重合禁止剤(B)が、ラジカル捕捉基がベンゾキノン基である化合物(B1)、ラジカル捕捉基が立体障害性のフェノール性水酸基である化合物(B2)、ラジカル捕捉基が立体障害性の窒素を含有する基である化合物(B3)、からなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする、光硬化性組成物を提供することで課題を解決する。 【選択図】 なし
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP5888576B2
公开(公告)日：2016-03-22
申请号：JP2015521385
申请日：2014-05-23
Applicant: DIC株式会社
IPC: B29C59/02 , C08F220/20 , H01L21/3065 , H01L21/027
CPC classification number: C09D141/00 , C08F220/20 , C09D133/08 , C09D133/14 , C09D4/00 , G03F7/0002 , G03F7/027 , G03F7/033 , C08F222/1006 , C08L2312/00
-
公开(公告)号：JP5741985B1
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：JP2014551445
申请日：2014-06-17
Applicant: DIC株式会社
IPC: G02B1/04 , C08F290/06
CPC classification number: C08F290/06 , C08F290/067 , G02B1/041
Abstract: 粘度が低く、かつ、高い屈折率を発現させることのできる光硬化性樹脂組成物を提供する。具体的には、芳香族ジイソシアネート化合物(a)、ポリオール化合物(b)、水酸基含有(メタ)アクリレート化合物(c)を必須の原料成分として反応させて得られ、下記構造式(1) (式中、R 1 は水素原子又はメチル基である。) で表される構造部位(a−1)と、 下記構造式(2) (式中、R 1 はR 2 およびR 3 は水素原子又はメチル基であり、X 1 、X 2 は水素原子又はメチル基である。) で表される構造部位(a−2)とを、モル比[(a−1)/(a−2)]が45/55〜60/40となる割合で有しており、かつ、前記ポリオール化合物(b)が芳香族炭化水素骨格を有するものであるウレタン(メタ)アクリレート樹脂(A)を用いる。
Abstract translation: 低粘度，并且提供能够表达高折射率的可光固化树脂组合物。 具体地，芳香族二异氰酸化合物（a），多元醇化合物（b）中，所获得的含羟基的（甲基）丙烯酸酯化合物（c）反应作为必要原料成分，下述结构式（1）（其中 中，R 1是氢原子或甲基。由下式表示的结构部位（A-1）），以下结构式（2）（式中，R1，R2和R3是氢原子或甲基，X1 ，X2是氢原子或甲基。由下式表示的结构部位（A-2）），摩尔比[（A-1）/（A-2）]为45 / 55-60 / 40 它具有比形成，并且，使用氨基甲酸酯所述多元醇化合物（b）是那些具有芳族烃骨架的（甲基）丙烯酸酯树脂（a）。
-
公开(公告)号：JPWO2017195586A1
公开(公告)日：2018-06-07
申请号：JP2017548495
申请日：2017-04-25
Applicant: DIC株式会社
IPC: H01L21/027 , C08F290/06 , C08F290/14
CPC classification number: B29C59/02 , C08F2/46 , C08F299/08 , H01L21/027
Abstract: 本発明が解決しようとする課題は、ポリシロキサン等のケイ素原子を含有する重合性化合物を含有し、基板への密着性及び微細パターンモールドでの離型性に優れ、かつ、モールド汚染が非常に少ないインプリント用硬化性組成物を提供することである。分子中にケイ素原子を含有する重合性化合物(A)と、光重合開始剤(B)と、添加剤(C)とを含む光インプリント用硬化性組成物であって、前記添加剤(C)が、下記式(C1):又は下記式(C2):[式(C1)中のR1は炭素数12〜30のアルキル基であり、X1は水素原子又はアシル基であり、nは0〜50の整数である。式(C2)中のX2及びX3は、各々独立に、水素原子又はアシル基を表し、p、q、rは各々独立に1〜50の整数である。]で表される化合物であることを特徴とする、光インプリント用硬化性組成物を提供することで、上記課題を解決する。
-
公开(公告)号：JP6090547B2
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：JP2016557510
申请日：2015-10-06
Applicant: DIC株式会社
IPC: H01L21/02 , C07F7/18 , C08F290/00 , C08F299/08 , C08G77/20 , C08F30/08
CPC classification number: C08F30/08 , C07F7/18 , C08F290/00 , C08F290/08 , C08F299/08 , G03F7/0002 , H01L21/027 , C08G77/20 , C08G77/22
-
公开(公告)号：JP5871203B1
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：JP2015534851
申请日：2015-03-12
Applicant: DIC株式会社
IPC: G03F7/20 , C08F299/08 , C08F290/14 , H01L21/027
CPC classification number: C09D183/10 , C08G81/02 , C08G77/14 , C08G77/20 , C08G77/442
Abstract: 一般式(1)および/または一般式(2)で表される構造単位と、シラノール基および/または加水分解性シリル基とを有するポリシロキサンセグメント(a1)と、ビニル系重合体セグメント(a2)とを有する複合樹脂(A)を含有するドライエッチング用レジスト材料であって、 該酸素プラズマエッチング用レジスト材料の全固形分量中の珪素原子の含有量が15〜45wt%であることを特徴とする酸素プラズマエッチング用レジスト材料を提供する。
Abstract translation: 式（1）和/或式和由（2）表示的结构单元，和具有硅烷醇基和/或水解性甲硅烷基（A1）的聚硅氧烷链段，所述乙烯系聚合物链段（a2） 抗蚀剂材料含有复合树脂干蚀刻（a）具有的赌注，在氧等离子体蚀刻的总固体成分中的硅原子含量的抗蚀剂材料的特征在于具有15〜45％重量 提供氧等离子体蚀刻抗蚀剂材料。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
11
records
(took 0.031 seconds)
