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公开(公告)号：WO2009041656A1
公开(公告)日：2009-04-02
申请号：PCT/JP2008/067555
申请日：2008-09-26
CPC classification number: G11B5/667 , G11B5/65 , G11B5/66 , G11B5/7325
Abstract: 【課題】 磁気記録層の磁性粒子のさらなる微細化と孤立化を図ることによりノイズを低減し、かつＳＮＲを向上させて高記録密度化を図ることのできる垂直磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 本発明にかかる垂直磁気記録媒体の代表的な構成は、柱状に連続して成長した磁性粒子の間に非磁性の粒界部を形成したグラニュラー構造を有する磁気記録層１２２を備える垂直磁気記録媒体１００であって、粒界部は、複数の種類の酸化物を含有することを特徴とする。
Abstract translation: 本发明提供一种通过进一步减小磁性粒子的尺寸并隔离磁记录层中的每个颗粒并降低噪声从而提高记录密度的垂直磁记录介质。 用于解决问题的手段垂直磁记录介质（100）包括具有粒状结构的磁记录层（122），其中在磁性粒子之间形成非磁性粒子边界部分，所述磁性粒子连续生长成柱状。 粒子边界部分含有多种类型的氧化物。
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公开(公告)号：JP2019012275A
公开(公告)日：2019-01-24
申请号：JP2018161019
申请日：2018-08-30
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/60 , G03F1/84 , C03C15/00 , C03C17/40 , C03C17/36 , C03C17/34 , C23C14/46 , C23C14/06 , G03F1/24
Abstract: 【課題】高感度の欠陥検査装置を用いた欠陥検査において、基板や膜の表面粗さに起因する疑似欠陥検出を抑制し、異物や傷などの致命欠陥の発見を容易にすることが可能なマスクブランク用基板を提供する。 【解決手段】リソグラフィーに使用されるマスクブランク用基板であって、前記基板の転写パターンが形成される側の主表面における1μm×1μmの領域を、原子間力顕微鏡で測定して得られるベアリングエリア(%)とベアリング深さ(nm)との関係において、ベアリングエリア30%をBA 30 、ベアリングエリア70%をBA 70 、ベアリングエリア30%及び70%に対応するベアリング深さをそれぞれBD 30 及びBD 70 と定義したときに、前記基板の主表面が、(BA 70 −BA 30 )/(BD 70 −BD 30 )≧350(%/nm)の関係式を満足し、かつ最大高さ(Rmax)≦1.2nmとした構成としてある。 【選択図】図1
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Patent Agency Ranking6.发明专利
公开(公告)号：JP6195880B2
公开(公告)日：2017-09-13
申请号：JP2015202956
申请日：2015-10-14
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G03F1/48 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03C17/3435 , C03C17/3626 , C03C17/3636 , C03C17/3639 , C03C17/3649 , C03C17/3665 , C03C23/0075 , C03C3/06 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G03F1/22 , G03F7/16 , G03F7/2002 , G03F7/2004 , G03F7/70733 , H01L21/3081 , H01L21/3085 , C03C2201/42 , C03C2218/33
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7.发明专利マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、透過型マスクブランク、反射型マスクブランク、透過型マスク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 有权用于掩模空白的基板，具有多层反射膜的基板，透射掩模层，反射掩模层，透射掩模，反射掩模和用于制造半导体器件的方法
公开(公告)号：JP2016014898A
公开(公告)日：2016-01-28
申请号：JP2015202958
申请日：2015-10-14
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G03F1/22 , G03F1/50 , G03F1/60 , G03F7/2004 , H01L21/0332 , H01L21/0334
Abstract: 【課題】高感度の欠陥検査装置を用いた欠陥検査において、基板や膜の表面粗さに起因する疑似欠陥検出を抑制し、異物や傷などの致命欠陥の発見を容易にすることが可能なマスクブランク用基板を提供する。 【解決手段】リソグラフィーに使用されるマスクブランク用基板であって、前記基板の転写パターンが形成される側の主表面における1μm×1μmの領域を、原子間力顕微鏡で測定して得られるベアリングエリア(%)とベアリング深さ(nm)との関係において、ベアリングエリア30%をBA 30 、ベアリングエリア70%をBA 70 、ベアリングエリア30%及び70%に対応するベアリング深さをそれぞれBD 30 及びBD 70 と定義したときに、前記基板の主表面が、(BA 70 −BA 30 )/(BD 70 −BD 30 )≧350(%/nm)の関係式を満足し、かつ最大高さ(Rmax)≦1.2nmとした構成としてある。 【選択図】図1
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于掩模坯料的基板，其能够通过防止由于基板和膜上的表面粗糙度而在检测到的缺陷检查中的缺陷检查中容易地检测诸如异物和瑕疵的关键缺陷 使用高灵敏度缺陷检查装置。解决方案：用于光刻的掩模板的基板被配置为使得通过用原子测量获得的轴承面积（％）和轴承深度（nm）之间的关系， 如果承载面积为30％的轴承面积定义为BA，轴承面积为70％，轴承深度相应为1×1μm的区域，则在其上形成有转印图案的基板的主表面上 作为BD和BD的轴承面积分别为30％和70％，基材的主表面满足关系式（BA-BA）/（BD-BD）≥350（％/ nm），最大高度为（ Rmax）≤1.2nm。
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公开(公告)号：JP5826886B2
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：JP2014093017
申请日：2014-04-28
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G03F1/48 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03C17/3435 , C03C17/3626 , C03C17/3636 , C03C17/3639 , C03C17/3649 , C03C17/3665 , C03C23/0075 , C03C3/06 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G03F1/22 , G03F7/16 , G03F7/2002 , G03F7/2004 , G03F7/70733 , H01L21/3081 , H01L21/3085 , C03C2201/42 , C03C2218/33
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