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8.发明专利多層反射膜付き基板、EUVリソグラフィー用反射型マスクブランク、EUVリソグラフィー用反射型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法 有权用于制造多层反射膜涂覆基材，EUV光刻反射型掩模基板，制造EUV光刻反射掩模的方法，和半导体器件的方法
公开(公告)号：JP6082385B2
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：JP2014506260
申请日：2013-03-21
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G03F1/24 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/48 , H01L21/0332 , H01L21/0337 , Y10T428/31678
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9.发明专利機能膜付き基板の製造方法、多層膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法 有权具有功能膜的基板的制造方法，具有多层膜的基板的制造方法，掩模的制造方法以及用于传送的掩模的制造方法
公开(公告)号：JP2015114356A
公开(公告)日：2015-06-22
申请号：JP2013253881
申请日：2013-12-09
Applicant: HOYA株式会社
IPC: H01L21/027 , C23G1/00 , G03F1/40 , G03F1/68
Abstract: 【課題】低欠陥で高平滑な機能膜付き基板を製造することができる機能膜付き基板の製造方法、多層膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法を提供する。 【解決手段】表層が酸素を含む酸化物材料からなる機能膜が基板上に形成された機能膜付き基板に対して、触媒物質の加工基準面を前記主表面に接触又は接近させ、前記主表面と前記加工基準面とを相対運動させることにより前記主表面を触媒基準エッチングする工程と、前記機能膜の表面に付着した触媒物質の材料からなる異物を、洗浄媒質を利用して前記機能膜の表面から除去する洗浄工程とを有し、前記洗浄媒質による前記触媒を溶解又は除去する速度は、前記洗浄媒質による前記機能膜の表層を溶解又は除去する速度よりも速くする。 【選択図】図1
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种具有功能膜的基板的制造方法，其能够制造具有减少缺陷的具有高度平滑的功能膜的基板; 具有多层膜的基板的制造方法; 掩模板的制造方法; 以及转印用掩模的制造方法。该方法包括：使催化剂物质的处理基准面与具有包含氧化物材料的表面层的功能膜的基板的主面接触或接近的步骤 所述催化剂通过主表面和处理参考平面的相对运动来蚀刻主表面; 以及使用洗涤介质从表面除去沉积在功能膜表面上的异物的洗涤步骤。 通过洗涤介质溶解或除去催化剂的速度比通过洗涤介质溶解或去除功能膜表面层的速度快。
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