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1.发明申请
公开(公告)号：WO2008105552A1
公开(公告)日：2008-09-04
申请号：PCT/JP2008/053723
申请日：2008-02-26
IPC: G03F7/004 , G02F1/1339 , G03F7/028 , G03F7/033
CPC classification number: G03F7/033 , G02F1/13394 , G02F2201/50 , G02F2202/022 , G03F7/031
Abstract: [A]不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物と、これとは異なる他の不飽和化合物の共重合体、[B]重合性不飽和化合物、[C]感放射線性重合開始剤、および[D]ニトロキシル化合物例えばビス(1-オキシル-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-4-イル)セバケートを含有する感放射線性樹脂組成物。微細なパターンを形成することができる解像性能に優れた感放射線性樹脂組成物を提供すること。
Abstract translation: 公开了含有不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐的共聚物[A]和与其不同的不饱和化合物的可辐射敏感性树脂组合物，可聚合不饱和化合物[B]，辐射敏感聚合引发剂[C ]和硝酰基化合物[D]，例如癸二酸双（1-氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基）酯。 该辐射敏感性树脂组合物具有优异的分辨率性能，能够形成精细图案。
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公开(公告)号：JP2017220372A
公开(公告)日：2017-12-14
申请号：JP2016114298
申请日：2016-06-08
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 【課題】マスクによる不良を調べて有機EL素子の製造方法の蒸着工程を検査する検査方法を提供し、検査基板、検査装置およびその検査基板を製造するための組成物を提供し、有機EL素子の製造方法を提供する。 【解決手段】検査方法は、蒸着工程で使用されるマスクと、酸解離性基を含む基を有する重合体および酸発生剤を含む組成物を用いて形成された有機層を有する検査基板とを用いる。そして、検査基板の有機層に放射線照射を行う放射線照射工程と、検査基板を加熱する加熱工程と、有機層に形成された放射線照射部分を観察してマスクによる不良を調べる検査工程と、マスクによる不良が許容可能か否かを判定する判定工程とを有する。検査方法で許容可能と判定されたマスクを用いて有機EL素子の製造を行う。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2017167277A
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：JP2016051217
申请日：2016-03-15
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 【課題】フォトリソグラフィ工程数を削減し、微細なパターンの形成が可能なパターン形成方法の提供。 【解決手段】基板上に、撥液性を有し、特定波長のエネルギーを照射することによって親液化する第1塗膜104を形成することと、基板上の第1領域R1の絶縁層を除去することと、基板上の第1領域R1を除く領域の少なくとも一部に配置された第2領域に凹パターンを形成することとを含み、第1領域R1の絶縁層を除去することは、特定波長のエネルギーを照射して第1領域R1の第1塗膜104を特定の薬液に接触させ、第1領域の第1塗膜104を除去することを含み、第2領域に凹パターンを形成することは、特定波長のエネルギーを照射して第2領域の絶縁層の表面を親液化させることを含む。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2021124639A
公开(公告)日：2021-08-30
申请号：JP2020018983
申请日：2020-02-06
Applicant: 東洋アルミニウム株式会社 , JSR株式会社
Abstract: 【課題】映像投影時における映像の輝度を効果的に向上させて、鮮明な映像を視認可能な加飾フィルム及びその製造方法を提供する。 【解決手段】加飾フィルム1は、シート状の透明基材11と、前記透明基材11の一面に配置された加飾層15と、前記加飾層15を厚さ方向に貫通する孔状の複数の光透過部16と、前記透明基材11の他面における前記光透過部16に対応する位置に配置された、樹脂からなる略半球状の複数のマイクロレンズ21Aと、を備え、前記マイクロレンズを構成する樹脂は、感放射線性樹脂組成物の放射線硬化物であり、前記マイクロレンズ21Aの高さをT1、前記透明基材11の厚さをT2、前記マイクロレンズ21Aを構成する樹脂の屈折率をn、前記光透過部16の円相当径をS、前記光透過部16の繰り返しピッチ長さをL、単位面積あたりの前記光透過部16の割合をPとして、所定の式を満足する。 【選択図】図1
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2016090639A
公开(公告)日：2016-05-23
申请号：JP2014221284
申请日：2014-10-30
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02B5/30
Abstract: 【課題】金属線形成組成物を用いてその濡れ広がりや滲みを抑え、高精細な金属線を基材上に形成する金属線を有する基材の製造方法を提供し、偏光素子および電極基板を提供する。 【解決手段】金属線を有する基材の製造方法は、(i)酸解離性基を有する重合体と酸発生剤とを含む膜形成組成物の塗膜を基板1上に形成する工程、(ii)塗膜の所定部分に放射線照射を行う工程、(iii)放射線照射がなされた塗膜上に、線幅0.1μm〜20μmの金属線形成組成物の層を設ける工程、および(iv)金属線形成組成物の層を加熱して金属線となるパターン6を形成する工程を含む。この金属線を有する基材の製造方法にしたがって、偏光素子および電極基板を製造する。 【選択図】図5
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种包括金属线的基材的制造方法，所述金属线能够抑制用于形成金属线的组合物的湿扩散和渗出，并且能够在基材上形成高清金属丝，并且提供 偏振元件和电极基板。包括金属线的基材的制造方法包括以下步骤：（i）形成用于形成含有酸发生剂和聚合物的膜的组合物的涂膜 在基板1上具有酸解离基; （ii）用放射线照射涂膜的规定部分; （iii）在放射线照射的涂膜上设置用于形成线宽为0.1μm〜20μm的金属线的组合物层; 和（iv）加热用于形成金属丝的组合物的层以形成图案6以成为金属丝。 根据包括金属线的基材的制造方法制造偏振元件和电极基板。图5
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公开(公告)号：JP6414203B2
公开(公告)日：2018-10-31
申请号：JP2016507493
申请日：2015-03-06
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: H05K3/107 , G03F7/0046 , G03F7/027 , G03F7/0392 , G03F7/36 , G03F7/40 , G03F7/70 , H05K3/105 , H05K3/1258
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9.发明专利
公开(公告)号：JP2016087602A
公开(公告)日：2016-05-23
申请号：JP2015201556
申请日：2015-10-09
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 【課題】液状の膜形成材料の濡れ広がり、滲みを抑えて高精細なパターンを形成するのに用いられる親液部と撥液部を有する基材の製造方法を提供し、その基材の製造に用いる組成物を提供し、導電膜の形成方法、電子回路および電子デバイスを提供する。 【解決手段】親液部と撥液部を有する基材の製造方法は、基板1上に、親液部と撥液部を 有する基材の製造方法は、基板1上に、(1)(A)アタール結合を有する基またはケイ素原子を含む基から選ばれる少なくとも一つの基を有する重合体、(B)酸発生剤、(C)(A)とは異なる化合物とを含む組成物を塗布し、塗膜を形成する工程、(2)前記塗膜の所定部分に放射線照射を行う工程を含む。導電膜形成方法は、工程(2)の後、基板上の塗膜の放射線照射部に形成された親液部に導電膜形成用の膜形成材料を塗布し、加熱して、パターン6を形成する。導電膜の形成方法を用いて電子回路および電子デバイスを提供する。 【選択図】図5
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种制备具有亲液部分和拒液部分的基材的方法，用于通过抑制液体成膜材料的湿扩展和渗出而形成高度精细图案，以提供使用的组合物 用于制造基材，并提供形成导电膜，电子电路和电子器件的方法。解决方案：一种制造在基底1上具有亲液部分和拒液部分的基底材料的方法，包括： （1）通过在基材1上涂布包含（A）具有选自具有缩醛键的基团和含硅原子的基团中的至少一个基团的聚合物的组合物形成涂层的方法，（B） 酸产生剂和（C）不同于（A）的化合物; 和（2）用辐射照射涂层的预定部分。 形成导电膜的方法包括通过在处理（2）之后，在形成在衬底上的涂层的辐射照射部分上的亲液部分上涂覆和加热导电膜形成用成膜材料来形成图案6。 使用形成导电膜的方法提供电子电路和电子器件。选择图：图5
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10.发明专利
公开(公告)号：JP2016087486A
公开(公告)日：2016-05-23
申请号：JP2014221082
申请日：2014-10-30
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 【課題】液状の膜形成材料の濡れ広がり、滲みを抑えて高精細なパターンを形成するのに用いられる親液部と撥液部を有する基材の製造方法を提供し、その基材の製造に用いる組成物を提供し、導電膜の形成方法、電子回路および電子デバイスを提供する。 【解決手段】親液部と撥液部を有する基材の製造方法は、基板1上に、(i)ケイ素原子を含む基を有する重合体と酸発生剤とを含む組成物を塗布し、塗膜を形成する工程、並びに、(ii)塗膜の所定部分に放射線照射を行う工程を含む。導電膜の形成方法は、工程(ii)の後、基板1上の塗膜の放射線照射部に形成された親液部に導電膜形成用の膜形成材料を塗布し、加熱して、パターン6を形成する。導電膜の形成方法を用いて電子回路および電子デバイスを提供する。 【選択図】図5
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种制备具有亲液部分和拒液部分的基材的方法，用于通过抑制液体成膜材料的湿扩展和渗出而形成高度精细图案，以提供使用的组合物 用于制造基材，并提供形成导电膜，电子电路和电子器件的方法。解决方案：制备具有亲液部分和拒液部分的基材的方法包括： （i）通过在基材1上涂布包含具有硅原子和酸发生剂的碱的聚合物的组合物来形成涂层; 和（ii）用辐射照射涂层的预定部分。 形成导电膜的方法包括通过在（ii）工序（ii）之后，在形成于基板1上的涂层的辐射照射部分上的亲液部分上涂布和加热导电膜形成用成膜材料来形成图案6。 通过使用形成导电膜的方法提供电子电路和电子器件。选择图：图5
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