公开(公告)号：WO2006135100A1

公开(公告)日：2006-12-21

申请号：PCT/JP2006/312454

申请日：2006-06-15

Applicant: JSR株式会社 ,  鄭 康巨 ,  二見 聡 ,  宮尾 宙 ,  田辺 隆喜

Inventor： 鄭 康巨 ,  二見 聡 ,  宮尾 宙 ,  田辺 隆喜

IPC: G02B1/04 ,  C08F290/06

CPC classification number: C08G18/4879 ,  C08G18/672 ,  C08G18/673 ,  C08G18/7621 ,  C08G18/8064 ,  C08G18/8175 ,  G02B1/04 ,  Y10T428/31587 ,  C08L75/14

Abstract: （Ａ）（ａ）水酸基含有（メタ）アクリレート、（ｂ）芳香環構造を有するポリイソシアネート、（ｃ）ポリオール、及び（ｄ）重合性不飽和基を有しない炭素数１～４のアルコールの反応物であって、該反応物を構成する化合物における平均値として、分子末端の４０～８５モル％が（メタ）アクリロイル基である、ウレタン（メタ）アクリレート５～７０質量％、及び、（Ｂ）（Ａ）成分以外のエチレン性不飽和基含有化合物１０～８０質量％を含有する光学部材用放射線硬化性樹脂組成物。この組成物の硬化物は、高屈折率で、各種プラスチック基材（特にメチルメタクリレート・スチレン共重合体）との密着性に優れ、フレネルレンズ等の表面凹凸構造が歪みにくい適度な硬度（ヤング率）を有し、かつ、黄変が少ないという特性を有する。

Abstract translation: 1.一种光学部件用放射线固化型树脂组合物，其特征在于，含有：（A）羟基化（甲基）丙烯酸酯，（b）和（甲基）丙烯酸酯的反应产物为5〜70质量％ 具有芳环结构的多异氰酸酯，（c）多元醇和（d）具有1〜4个碳原子且不具有聚合物不饱和基团的醇，其中（甲基）丙烯酰基占平均40〜85摩尔％ 构成反应产物的化合物的分子的末端; 和（B）10〜80质量％的除（A）成分以外的含烯属不饱和基团的化合物。 该组合物的固化物具有高折射率，与各种塑料基材（特别是甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物）的密合性优异，具有适当的硬度（杨氏模量），其难以引起不均匀结构的变形 表面（如菲涅尔透镜），并产生较少的黄色变色。

公开(公告)号：WO2006135105A1

公开(公告)日：2006-12-21

申请号：PCT/JP2006/312461

申请日：2006-06-15

Applicant: JSR株式会社 ,  二見 聡 ,  鄭 康巨 ,  田辺 隆喜

Inventor： 二見 聡 ,  鄭 康巨 ,  田辺 隆喜

IPC: G02B1/10 ,  C08F290/06 ,  G02B5/02 ,  G02B5/04 ,  G02F1/1335

CPC classification number: C09D175/16 ,  C08F283/006 ,  C08F290/06 ,  C08F290/067 ,  C08G18/3215 ,  C08G18/672 ,  G02B5/045

Abstract: 組成物の全量に対して、（Ａ）式：ＨＯ−Ｐｈ−Ｘ−Ｐｈ−ＯＨ［式中、Ｐｈは、置換されていてもよいフェニレン基であり、Ｘは、−ＣＨ ２ −、−Ｃ（ＣＨ ３ ） ２ −、又は−Ｓ−である。］で示す構造を有するポリエーテルポリオール、有機ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレート２０～７０質量％、（Ｂ）エチレン性不飽和基を１つ含む化合物１０～６０質量％、（Ｃ）エチレン性不飽和基を４つ以上含む化合物５～２５質量％、及び（Ｅ）光重合開始剤０．０１～１０質量％を含有する光硬化性樹脂組成物。この組成物は、優れた耐擦傷性を有し、プリズムレンズシート本体に対する密着性に優れ、しかも、反りが少ないという特性を有する硬化膜を形成しうる、プリズムレンズシート本体の背面をコートするための組成物である。

Abstract translation: 本发明提供一种光固化性树脂组合物，其含有（A）20〜70质量％的由下述式表示的结构的聚醚多元醇：HO-Ph-X-Ph-OH（其中，Ph 表示任选取代的亚苯基，X表示-CH 2 - ， - C（CH 3）2 - 或-S-）， 有机多异氰酸酯化合物和含羟基的（甲基）丙烯酸酯，（B）10〜60质量％的含有烯键式不饱和基团的化合物，（C）5〜25质量％ 组和（E）相对于组合物的总量为0.01〜10质量％的光聚合引发剂。 该组合物用于涂覆棱镜透镜片的背面，并且能够形成具有优异的耐磨性和对棱镜透镜片主体的优异粘附性的固化膜，同时显示较少的翘曲。

公开(公告)号：JPWO2018074535A1

公开(公告)日：2019-09-26

申请号：JP2017037767

申请日：2017-10-18

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 青木 俊 ,  鄭 康巨 ,  松村 裕史 ,  松木 智裕 ,  滝本 嘉夫

IPC: C09D201/02 ,  C09D7/63 ,  C09D7/20 ,  C09D201/04 ,  C09D201/06 ,  C09D201/08 ,  H01L21/304

Abstract: 本発明は、基板パターンの倒壊抑制性に優れる処理剤と、これを用いた基板の処理方法との提供を目的とする。本発明の処理剤は、基板の表面に形成されたパターンの倒壊を抑制する処理剤であって、芳香環、及びこの芳香環に結合するヘテロ原子含有基を有する化合物と、溶媒とを含有することを特徴とする。上記ヘテロ原子含有基が、ヒドロキシ基、カルボキシ基、シアノ基、アミノ基、スルホ基、カルボニル基、オキシ基、ハロゲン原子又はこれらの組み合わせを含むとよい。上記溶媒が極性溶媒であるとよい。

公开(公告)号：JP2019140389A

公开(公告)日：2019-08-22

申请号：JP2019013804

申请日：2019-01-30

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 鄭 康巨 ,  勝井 宏充 ,  藤澤 友久 ,  浜口 仁 ,  多田羅 了嗣

IPC: G03F7/023 ,  G03F7/004 ,  G09F9/00 ,  G06F3/041 ,  H05K3/28

Abstract: 【課題】曲げ特性に優れ、且つ、狭ピッチでの配線形成が可能な配線部材を提供する。 【解決手段】配線部材(フレキシブルプリント基板1)は、基板2と、該基板2の上層に配置された硬化膜10とを備える。配線部材の硬化膜10とは反対側の基板2の面を外径0.5mmのマンドレルに沿って180°屈曲させた際に硬化膜10の割れ又は剥がれが生じない。硬化膜10は、感光膜形成用組成物の塗膜であり、感光膜形成用組成物は、アルカリ可溶性基を有する重合体、感放射線性化合物及び溶剤を含む。 【選択図】図1

公开(公告)号：WO2009119583A1

公开(公告)日：2009-10-01

申请号：PCT/JP2009/055825

申请日：2009-03-24

Applicant: JSR株式会社 ,  中川 恭志 ,  野辺 洋平 ,  鄭 康巨 ,  齊藤 隆一 ,  小久保 輝一

Inventor： 中川 恭志 ,  野辺 洋平 ,  鄭 康巨 ,  齊藤 隆一 ,  小久保 輝一

IPC: C23C16/42 ,  C08G77/50 ,  H01L21/312 ,  H01L21/316 ,  H01L21/768 ,  H01L23/522

CPC classification number: C23C16/401 ,  C07F7/1836 ,  C07F7/184 ,  C07F7/1844 ,  C07F7/1868 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02211 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/31633 ,  H01L21/31695 ,  H01L23/5329 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 　化学気相成長法用材料は、下記一般式（１）で表される有機シラン化合物を含む。 【化１】 ・・・・・（１） （式中、Ｒ １ およびＲ ２ は同一または異なり、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、ビニル基、またはフェニル基を示し、Ｒ ３ およびＲ ４ は同一または異なり、炭素数１～４のアルキル基、アセチル基、またはフェニル基を示し、ｍは０～２の整数を示し、ｎは１～３の整数を示す。）

Abstract translation: 用于化学气相沉积的材料，其含有由通式（1）表示的有机硅烷[其中R 1和R 2可以相同或不同，各自为氢，具有1-4个碳原子的烷基，乙烯基或苯基; R 3和R 4可以相同或不同，并且各自为具有1至4个碳原子的烷基，乙酰基或苯基; m为0〜2的整数; n为1〜3的整数]。

公开(公告)号：JP6287344B2

公开(公告)日：2018-03-07

申请号：JP2014040781

申请日：2014-03-03

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 鄭 康巨

IPC: H01M4/58 ,  C01B21/082

公开(公告)号：JP5729307B2

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：JP2011541879

申请日：2010-11-05

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 西村 秀樹 ,  鄭 康巨 ,  齊藤 隆一 ,  酒井 達也 ,  松木 安生

IPC: C23C16/16

CPC classification number: C23C16/18 ,  C07F15/06 ,  C23C16/16 ,  H01L21/28556 ,  H01L21/76843 ,  H01L21/76873

公开(公告)号：JPWO2018190278A1

公开(公告)日：2020-05-14

申请号：JP2018014804

申请日：2018-04-06

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 青木 俊 ,  鄭 康巨 ,  松木 智裕 ,  酒井 達也 ,  望田 憲嗣 ,  松村 裕史

IPC: C11D7/22 ,  C11D7/26 ,  C11D7/50 ,  C08L61/06 ,  C08K5/09 ,  H01L21/304

Abstract: 本発明は、基板表面の微小なパーティクルを効率よく除去でき、かつ形成された膜を基板表面から容易に除去することができる半導体基板洗浄用組成物の提供を目的とする。本発明の半導体基板洗浄用組成物は、ノボラック樹脂と、重合体でない有機酸と、溶媒とを含有し、固形分濃度が20質量%以下である。上記有機酸が、カルボン酸であるとよい。上記カルボン酸が、モノカルボン酸、ポリカルボン酸又はこれらの組み合わせであるとよい。上記有機酸の分子量としては、50以上500以下が好ましい。上記ノボラック樹脂10質量部に対する上記有機酸の含有量としては、0.001質量部以上10質量部以下が好ましい。上記溶媒が、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、又はこれらの組み合わせであるとよい。上記溶媒におけるエーテル系溶媒、アルコール系溶媒、又はこれらの組み合わせの含有割合としては、50質量%以上が好ましい。

公开(公告)号：JP2016054284A

公开(公告)日：2016-04-14

申请号：JP2015135182

申请日：2015-07-06

Applicant: JSR株式会社 ,  JMエナジー株式会社

Inventor： 鄭 康巨 ,  田中 亮 ,  清水 貴弘 ,  妹尾 浩司 ,  下馬場 智 ,  保坂 幸生 ,  桜井 冨士夫 ,  山本 雅浩 ,  小島 健治

IPC: H01G11/06 ,  H01M4/587 ,  C01B31/04 ,  C01B31/02 ,  H01G11/32

CPC classification number: C01B31/08 ,  C01B31/02 ,  H01G11/42 ,  H01G11/44 ,  H01G11/50 ,  H01G11/86 ,  H01M4/587 ,  C01P2006/14 ,  C01P2006/16 ,  C01P2006/37 ,  H01G11/04 ,  H01G11/24 ,  H01G11/38 ,  H01M10/0525 ,  Y02E60/13

Abstract: 【課題】低温での内部抵抗が低く、しかも充電状態で保持した際に発生するガス量が少ない蓄電デバイスを形成することができる電極材料を提供すること。 【解決手段】炭素材料を含有し、100ml/分の空気気流中、昇温速度5℃/分で熱重量分析した際、昇温前に対して20%重量減少する温度が650℃以下である電極材料。 【選択図】なし

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种电极材料，其能够形成低温内部电阻低的蓄电装置，并且在被保持在充电状态下产生的气体量较少。解决方案：电极材料 包括碳材料。 当以5℃/分钟的升温速度在100毫升/分钟的气流中对电极材料进行热重分析时，当材料的重量在温度升高之前降低20重量％时的温度为 650°C或以下。选择图：无

公开(公告)号：JP5741443B2

公开(公告)日：2015-07-01

申请号：JP2011543201

申请日：2010-11-09

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 齊藤 隆一 ,  鄭 康巨 ,  西村 秀樹 ,  酒井 達也

IPC: C07F19/00 ,  C23C16/18

CPC classification number: C23C16/16 ,  C07F15/0053 ,  C23C16/06