公开(公告)号：CN101151242B

公开(公告)日：2012-04-18

申请号：CN200680010508.3

申请日：2006-03-30

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 佐佐木佑明 ,  前场功之 ,  堂崎光长 ,  高桥宏典 ,  细坂修

IPC: C07C263/10 ,  C07C265/14

CPC classification number: C07C263/10 ,  B01F5/0256 ,  B01F5/10 ,  B01F5/16 ,  B01J4/001 ,  B01J19/1881 ,  B01J2219/00096 ,  B01J2219/00108 ,  C07C265/14

Abstract: 本发明提供一种多异氰酸酯连续制造装置，其为了抑制多胺和多异氰酸酯的不期望的副反应，在供给多胺和碳酰氯后使其快速接触，从而减少副产物，提高多异氰酸酯的收率。在循环管线(7)上沿着反应液的流动方向依次安装有原料混合部(8)、高剪切泵(3)、反应器(4)、送液泵(5)和冷却器(6)，构成封闭管线。在该装置(1)中，在原料混合部(8)供给多胺和碳酰氯后，在将多胺和反应液的接触抑制到最小限度的状态下通过高剪切泵(3)剪切该反应液。由此，可以减少副产物脲体的生成，提高多异氰酸酯的收率。

公开(公告)号：CN101848885B

公开(公告)日：2013-05-08

申请号：CN200880114895.4

申请日：2008-11-25

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 小川俊之 ,  堂崎光长 ,  佐佐木祐明

IPC: C07C209/84 ,  C07C211/51

CPC classification number: C07C209/84 ,  B01D3/10 ,  B01D3/146 ,  C07C211/51

Abstract: 本发明的甲苯二胺的脱水方法包括：将含水率为5～40重量％的甲苯二胺在真空度为13～101.3kPa的条件下进行第1段蒸馏；将来自第1段蒸馏的釜残液在真空度小于13kPa的条件下进行第2段蒸馏。

公开(公告)号：CN101848885A

公开(公告)日：2010-09-29

申请号：CN200880114895.4

申请日：2008-11-25

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 小川俊之 ,  堂崎光长 ,  佐佐木祐明

IPC: C07C209/84 ,  C07C211/51

CPC classification number: C07C209/84 ,  B01D3/10 ,  B01D3/146 ,  C07C211/51

Abstract: 本发明的甲苯二胺的脱水方法包括：将含水率为5～40重量％的甲苯二胺在真空度为13～101.3kPa的条件下进行第1段蒸馏；将来自第1段蒸馏的釜残液在真空度小于13kPa的条件下进行第2段蒸馏。