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公开(公告)号：CN107429210A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201680019761.9
申请日：2016-02-15
Applicant: 三井化学株式会社
CPC classification number: C08F32/08 , C08F8/04 , C08F14/185 , C08G2261/418 , C12M23/20 , C12N5/0018
Abstract: 本发明的医疗器具是具备使用了含有通式(1)所示的结构单元的含氟环状烯烃聚合物的基材的医疗器具，其特征在于，上述基材具有使该基材与细胞接触的一面，并且，该基材在上述一面具备凹凸结构，由上述凹凸结构构成的凸凸间的宽度(L1)与上述细胞中的平均一个接种细胞的最大直径(L2)之比(L1/L2)为1～300，上述细胞不粘附或不附着于具备上述凹凸结构的上述一面而促进细胞增殖。(式(1)中，R1～R4之中的至少1个为氟、含有氟的碳原子数1～10的烷基、含有氟的碳原子数1～10的烷氧基、或含有氟的碳原子数2～10的烷氧基烷基。在R1～R4为不含氟的基团的情况下，R1～R4选自氢、碳原子数1～10的烷基、碳原子数1～10的烷氧基、或碳原子数2～10的烷氧基烷基。R1～R4彼此可以相同也可以不同。此外，R1～R4可以彼此结合而形成环结构)。
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公开(公告)号：CN112823204B
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202080005455.6
申请日：2020-06-18
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供形状稳定性优异，并且能够实现适于肝细胞培养的氧环境的培养材料。解决本发明课题的方法涉及一种包含4‑甲基‑1‑戊烯聚合物(X)的细胞、组织或器官的培养材料，培养面的水接触角为50°～100°，并且利用下述试验方法(A)得到的下垂距离为0～5mm，在温度23℃、湿度0％时的透氧度为4500～90000cm3/(m2×24h×atm)。试验方法(A)：制作与上述培养材料为相同材料，且与培养材料的培养面为相同厚度，纵×横为100mm×10mm的平板状的试验片。将上述试验片以相对于试验片的纵尺寸从试验台的水平的上表面向水平方向伸出50mm的状态固定于试验台。从固定时起3分钟后，测定从试验台伸出的上述试验片的前端从包含上述试验台的上表面的水平面向铅垂下方下垂的距离。其中，从上述固定到测定为止在室温下进行。
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公开(公告)号：CN110709774B
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN201880036679.6
申请日：2018-05-30
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明的下层膜形成用材料为用于形成多层抗蚀剂工艺所使用的抗蚀剂下层膜的下层膜形成用材料，其包含具有下述通式(1)所示的重复结构单元[A]和下述通式(2)所示的重复结构单元[B]的环状烯烃聚合物，上述环状烯烃聚合物中的上述结构单元[A]与上述结构单元[B]的摩尔比[A]/[B]为5/95以上95/5以下。
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公开(公告)号：CN110709774A
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：CN201880036679.6
申请日：2018-05-30
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明的下层膜形成用材料为用于形成多层抗蚀剂工艺所使用的抗蚀剂下层膜的下层膜形成用材料，其包含具有下述通式(1)所示的重复结构单元[A]和下述通式(2)所示的重复结构单元[B]的环状烯烃聚合物，上述环状烯烃聚合物中的上述结构单元[A]与上述结构单元[B]的摩尔比[A]/[B]为5/95以上95/5以下。
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公开(公告)号：CN102906150A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201180017507.2
申请日：2011-04-04
CPC classification number: G02B1/04 , C08G2261/3324 , C08G2261/3325 , C08G2261/418 , C08G2261/724 , C08L23/18
Abstract: 本发明涉及一种光学材料，其特征在于，包含至少含有通式(1)所示的重复结构单元〔A〕和通式(2)所示的重复结构单元〔B〕且它们的摩尔比〔A〕/〔B〕＝95/5～1/99的环状烯烃共聚物，且由△OB相对于△F所表示的△OB/△F的绝对值为0.001～0.250，所述△F是由通过拉曼分光法得到的相对于取向方向的平行光强度I‖与垂直光强度I⊥的二色比求出的取向系数的绝对值的变化量，所述△OB是在由上述光学材料得到的拉伸膜中，由波长633nm的相位差(nm)/膜厚(μm)算出的取向双折射的绝对值的变化量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110741463B
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN201880037774.8
申请日：2018-06-05
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: H01L21/3065 , B29C33/38 , B29C59/02 , C08G61/08 , H01L21/027
Abstract: 本发明的带有微细凹凸图案的基板(101a)的制造方法为用于制造表面具有微细凹凸图案的基板的制造方法，其具备下述工序：工序(a)，准备层叠体(100)，所述层叠体(100)具备基板(101)、以及设置于基板(101)上且表面形成有第1微细凹凸图案(102)的第1树脂层(103)；工序(b)，通过将第1树脂层(103)作为掩模来对第1微细凹凸图案(102)的表面进行蚀刻，从而在基板(101)的表面(104)形成与第1微细凹凸图案(102)对应的第2微细凹凸图案(105)，第1树脂层(103)由包含含氟环状烯烃聚合物(A)的树脂组合物(P)或树脂组合物(P)的固化物构成。
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公开(公告)号：CN113574086A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN202080020547.1
申请日：2020-03-31
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: C08G59/22 , C08G65/18 , H01L21/027 , B29C59/02
Abstract: 一种光固化性组合物，其用于形成凹凸结构体的树脂层，所述凹凸结构体具备基板、以及设置于该基板上且表面形成有微细凹凸的所述树脂层。该光固化性组合物的固化膜的基于Kitazaki‑Hata的理论测定得到的表面自由能为15mJ/m2～40mJ/m2，使用纳米压痕仪测定得到的硬度为0.05GPa～0.5GPa。
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公开(公告)号：CN105164559B
公开(公告)日：2018-03-23
申请号：CN201480020071.6
申请日：2014-03-25
IPC: G02B5/30 , C08G61/08 , G02F1/1335 , G02F1/13363
CPC classification number: C08J5/18 , B32B3/28 , B32B7/12 , B32B27/08 , B32B27/322 , B32B27/325 , B32B27/38 , B32B2255/10 , B32B2255/26 , B32B2270/00 , B32B2307/412 , B32B2307/414 , B32B2307/416 , B32B2307/516 , B32B2307/518 , B32B2457/202 , B32B2551/00 , C08G61/08 , C08G61/12 , C08G2261/146 , C08G2261/3324 , C08G2261/3342 , C08G2261/418 , C08J2327/12 , G02B5/3083
Abstract: 本发明的光学膜是低波长分散性的光学膜，其通过将由实质上包含选自下述通式(1)所示的重复结构单元中的至少一种的含氟环状烯烃聚合物形成的膜拉伸而获得，波长550nm的相位差为50nm以上，波长400nm的相位差Re(400nm)相对于波长550nm的相位差Re(550nm)的比Re(400nm)/Re(550nm)所示的波长分散性为1.00～1.05，并且，波长400nm的相位差Re(400nm)相对于波长800nm的相位差Re(800nm)的比Re(400nm)/Re(800nm)所示的波长分散性为1.00～1.05，全光线透射率为92％以上。
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公开(公告)号：CN113574086B
公开(公告)日：2023-11-07
申请号：CN202080020547.1
申请日：2020-03-31
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: C08G59/22 , C08G65/18 , H01L21/027 , B29C59/02
Abstract: 一种光固化性组合物，其用于形成凹凸结构体的树脂层，所述凹凸结构体具备基板、以及设置于该基板上且表面形成有微细凹凸的所述树脂层。该光固化性组合物的固化膜的基于Kitazaki‑Hata的理论测定得到的表面自由能为15mJ/m2～40mJ/m2，使用纳米压痕仪测定得到的硬度为0.05GPa～0.5GPa。
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公开(公告)号：CN113365820A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202080012316.6
申请日：2020-01-22
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 一种在多层抗蚀剂工艺中使用的下层膜形成用材料，其满足：(i)由以下数学式(1)定义的元素构成比率Re为1.5～2.8，(ii)玻璃化转变温度为30～250℃，(iii)包含至少1种(优选为2种以上)具有特定结构单元的树脂。数学式(1)中，NH为下层膜形成用材料的固体成分中的氢原子的数目，NC为下层膜形成用材料的固体成分中的碳原子的数目，NO为下层膜形成用材料的固体成分中的氧原子的数目。
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