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公开(公告)号：CN114927881A
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202210603261.7
申请日：2022-05-30
Applicant: 中国电子科技集团公司第二十九研究所
Abstract: 本发明公开了一种宽带二维多波束透镜天线，所述天线包括k个柱面透镜多波束天线俯仰面堆叠组成的柱面透镜多波束天线组，k为大于1的正整数。本发明通过采用罗特曼透镜组对柱面透镜多波束天线馈电，方位面和俯仰面多波束分别由柱面透镜多波束天线和罗特曼透镜实现，实现二维多波束的空域覆盖，合成波束的波束宽度和波束数量可灵活控制，且方位面多波束由介质透镜合成，能实现方位大角度覆盖，扫描波束无增益损失，相较于锥面覆盖的二维多波束，调试测试简单，解决了传统的二维多波束比幅测向均为天线方向图二维合成，其形成的多波束覆盖区域为锥面区域，需要预置较多的校准信息，系统调试测试复杂的技术问题。
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公开(公告)号：CN113363731A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202110617823.9
申请日：2021-06-03
Applicant: 中国电子科技集团公司第二十九研究所
Abstract: 本发明提供一种低剖面低损耗Rotman透镜，包括两层非金属化介质基板和三层金属化覆铜平面；所述两层非金属化介质基板为上层非金属化介质基板和下层非金属化介质基板；所述三层金属化覆铜平面包括上层金属化覆地平面，中层印制化金属平面透镜和下层金属化覆地平面；所述中层印制化金属平面透镜包括透镜体，位于透镜体两侧的输入端口和输出端口，以及位于输入端口和输出端口之间的空置端口；所述透镜体分为M个区域，每个区域对应的非金属化介质基板区域具有等效相对介电常数分区设计；所述输入端口、输出端口和空置端口基于带状线结构实现。本发明通过透镜体分区以及带状线结构实现的Rotman透镜具有低剖面低损耗特性。
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公开(公告)号：CN114927881B
公开(公告)日：2023-06-20
申请号：CN202210603261.7
申请日：2022-05-30
Applicant: 中国电子科技集团公司第二十九研究所
Abstract: 本发明公开了一种宽带二维多波束透镜天线，所述天线包括k个柱面透镜多波束天线俯仰面堆叠组成的柱面透镜多波束天线组，k为大于1的正整数。本发明通过采用罗特曼透镜组对柱面透镜多波束天线馈电，方位面和俯仰面多波束分别由柱面透镜多波束天线和罗特曼透镜实现，实现二维多波束的空域覆盖，合成波束的波束宽度和波束数量可灵活控制，且方位面多波束由介质透镜合成，能实现方位大角度覆盖，扫描波束无增益损失，相较于锥面覆盖的二维多波束，调试测试简单，解决了传统的二维多波束比幅测向均为天线方向图二维合成，其形成的多波束覆盖区域为锥面区域，需要预置较多的校准信息，系统调试测试复杂的技术问题。
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公开(公告)号：CN114725696B
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202210438671.0
申请日：2022-04-25
Applicant: 中国电子科技集团公司第二十九研究所
Abstract: 本发明公开了一种具有过渡阵面结构的二维天线阵面及设计方法，属于低散射天线工程领域，在二维天线阵面设有过渡阵面结构，所述过渡阵面结构根据具体需求形成过渡边缘，以过渡边缘的斜边延长感应电流在空域内的过渡长度，减小感应电荷在安装边缘的密度。本发明解决了二维天线阵面安装边界处由于感应电荷积累构成的散射源问题，该过渡阵面结构可根据具体需求形成锥形金属化过渡边缘，以此斜边延长感应电流在空域内的过渡长度，减小感应电荷在安装边缘的密度，降低二维天线阵面安装边缘对整个天线孔径低散射性能的影响，提高二维天线阵面的低散射性能。
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公开(公告)号：CN114552200B
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202210441335.1
申请日：2022-04-25
Applicant: 中国电子科技集团公司第二十九研究所
Inventor： 王天石 , 张怡 , 刘镜波 , 邓超 , 范民 , 徐利明 , 万养涛 , 赵行健 , 关迪 , 周雅慧 , 羊慧 , 李鹏 , 全旭林 , 况泽林 , 陈曦 , 杨培刚 , 刘正勇 , 曹洪志 , 谷岩峰 , 王庆兵
Abstract: 本发明公开了一种曲面多层立体互联结构，所述曲面多层立体互联结构至少包括：基体，基体配置为实现本曲面多层立体互联结构的电信号传递和力学承载；第一吸波层，第一吸波层覆盖于所述基体之上，并由具有电磁波吸收功能的材料制得；第一介质层，第一介质层为透波泡沫材料，第一介质层为辐射图形层的依附基层，并基于预设电性能需求完成材料选择；第一预浸料层，第一预浸料层设置于第一介质层之上；第一辐射图形层，所述第一辐射图形层制备于第一预浸料层之上，其中的图形不限于采用预制掩膜法、激光加工法或者机械加工法制得。本发明结构具有宽带、轻量化、低损耗、一致性高、电性能稳定、高强度和高可靠性特征，适合批量化制造。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113363731B
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202110617823.9
申请日：2021-06-03
Applicant: 中国电子科技集团公司第二十九研究所
Abstract: 本发明提供一种低剖面低损耗Rotman透镜，包括两层非金属化介质基板和三层金属化覆铜平面；所述两层非金属化介质基板为上层非金属化介质基板和下层非金属化介质基板；所述三层金属化覆铜平面包括上层金属化覆地平面，中层印制化金属平面透镜和下层金属化覆地平面；所述中层印制化金属平面透镜包括透镜体，位于透镜体两侧的输入端口和输出端口，以及位于输入端口和输出端口之间的空置端口；所述透镜体分为M个区域，每个区域对应的非金属化介质基板区域具有等效相对介电常数分区设计；所述输入端口、输出端口和空置端口基于带状线结构实现。本发明通过透镜体分区以及带状线结构实现的Rotman透镜具有低剖面低损耗特性。
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公开(公告)号：CN118630453A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410908198.7
申请日：2024-07-08
Applicant: 中国电子科技集团公司第二十九研究所
Abstract: 本发明属于天线散热结构技术领域，特别涉及一种大功率天线被动散热结构。其技术方案为：一种大功率天线被动散热结构，包括机体表面结构，机体表面结构内安装有天线，天线上具有天线发热器件，天线上设置有散热尾缘，散热尾缘紧贴机体表面结构的内壁，散热尾缘上开设有散热尾缘流道，机体表面结构的低温气流区开设有引气孔和排气孔，引气孔和排气孔分别与散热尾缘流道连通。本发明提供了一种大功率天线被动散热结构，在不破坏平台表面气动特性的前提下，利用气流压差、涡流产生及抑制，将机体表面外部冷却气流有效地引入至散热结构内，从而实现天线的高效散热目的。
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公开(公告)号：CN114899616A
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202210603375.1
申请日：2022-05-30
Applicant: 中国电子科技集团公司第二十九研究所
Abstract: 本发明公开了一种毫米波低损耗罗特曼透镜，所述罗特曼透镜包括单层非金属化介质基板和两层印制化金属平面透镜，非金属化介质基板位于两层印制化金属平面透镜之间，形成夹层结构。本发明通过将透镜体分区并且每个区域对应的非金属化介质基板具有等效相对介电常数分区设计，输入端口到输出端口间的传输会发生折射，相邻区域能量传输满足Snell折射定律，而不满足几何光学直线传输，通过优化透镜体的分区数量M及非金属化介质基板区域的等效相对介电常数εeff,i，可使能量传输聚集在输入端口区域和输出端口区域之间，减少传输至空置端口的能量，保证本实施例设计的罗特曼透镜具有低损耗特性。
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公开(公告)号：CN114725696A
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202210438671.0
申请日：2022-04-25
Applicant: 中国电子科技集团公司第二十九研究所
Abstract: 本发明公开了一种具有过渡阵面结构的二维天线阵面及设计方法，属于低散射天线工程领域，在二维天线阵面设有过渡阵面结构，所述过渡阵面结构根据具体需求形成过渡边缘，以过渡边缘的斜边延长感应电流在空域内的过渡长度，减小感应电荷在安装边缘的密度。本发明解决了二维天线阵面安装边界处由于感应电荷积累构成的散射源问题，该过渡阵面结构可根据具体需求形成锥形金属化过渡边缘，以此斜边延长感应电流在空域内的过渡长度，减小感应电荷在安装边缘的密度，降低二维天线阵面安装边缘对整个天线孔径低散射性能的影响，提高二维天线阵面的低散射性能。
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公开(公告)号：CN114552200A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202210441335.1
申请日：2022-04-25
Applicant: 中国电子科技集团公司第二十九研究所
Inventor： 王天石 , 张怡 , 刘镜波 , 邓超 , 范民 , 徐利明 , 万养涛 , 赵行健 , 关迪 , 周雅慧 , 羊慧 , 李鹏 , 全旭林 , 况泽林 , 陈曦 , 杨培刚 , 刘正勇 , 曹洪志 , 谷岩峰 , 王庆兵
Abstract: 本发明公开了一种曲面多层立体互联结构，所述曲面多层立体互联结构至少包括：基体，基体配置为实现本曲面多层立体互联结构的电信号传递和力学承载；第一吸波层，第一吸波层覆盖于所述基体之上，并由具有电磁波吸收功能的材料制得；第一介质层，第一介质层为透波泡沫材料，第一介质层为辐射图形层的依附基层，并基于预设电性能需求完成材料选择；第一预浸料层，第一预浸料层设置于第一介质层之上；第一辐射图形层，所述第一辐射图形层制备于第一预浸料层之上，其中的图形不限于采用预制掩膜法、激光加工法或者机械加工法制得。本发明结构具有宽带、轻量化、低损耗、一致性高、电性能稳定、高强度和高可靠性特征，适合批量化制造。
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