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发明公开
一种全场位移测量方法及系统审中-实审

公开(公告)号：CN119043228A

公开(公告)日：2024-11-29

申请号：CN202411154342.9

申请日：2024-08-21

Applicant: 中国矿业大学(北京)

Inventor： 毛灵涛 , 张朔 , 鞠杨 , 彭瑞东 , 刘红彬

IPC: G01B15/00 , G01B15/04 , G01B15/06 , G01N23/046 , G01N3/08 , G06T7/246 , G06T7/254

Abstract: 本申请公开了一种全场位移测量方法及系统，其中，全场位移测量方法为将表面位移场作为边界约束与DVC法结合，不仅能解决DVC法在计算试件的表面变形时缺少试件表面的图像信息的问题，而且将3D‑DIC法测量的表面位移场作为正则化条件引入DVC法，可以改善DVC法求解的不适定性，提高可靠性和测量精度。

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