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公开(公告)号：CN101930182B
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201010202930.7
申请日：2010-06-11
Applicant: 丰和工业株式会社
Inventor： 猿渡义德
Abstract: 本发明公开了一种内层基板用曝光装置以及基板和掩膜的剥离方法，本发明所要解决的技术问题是，使基板能尽早且切实地从曝光掩膜剥离。本发明中，在曝光平台(1)和上框(2)这两者上，设置进行突出动作，将基板(10)的一端向从曝光掩膜(11)剥下的方向推压的推进器(12)，在推进器(12)上形成相对于基板(10)和曝光掩膜(11)之间喷出气体的喷嘴(21)。推进器(12)被设置在推压基板(10)的端部的部位，喷嘴(21)以向作为剥离对象的基板(10)的中央喷出气体的方式形成，从喷嘴(21)喷出的气体是具有除静电作用的被离子化的气体。
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公开(公告)号：CN1040404A
公开(公告)日：1990-03-14
申请号：CN89104800.6
申请日：1989-07-14
Applicant: 丰和工业株式会社
Abstract: 本顶梳驱动机构，可应用于钳板体在其各精梳头处作前进后退往复运动循环的普通精梳机上。由于设置了一种传动机构，可以把与精梳锡林同步旋转的旋转轴的转动，转变为各精梳头顶梳安装杆的上下往复摇动，因而将上述钳板体前进后退的往复运动，与上述顶梳安装杆的上下往复摇动加以合成，在其前进端与位于较前进端稍高的后退端之间，使各项梳沿着一条朝前进端呈下降的大曲率向上凸鼓曲线的前进轨迹前进，并沿着一条朝后退端呈上升的大曲率凹下曲线的后退轨迹后退。
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公开(公告)号：CN101930182A
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN201010202930.7
申请日：2010-06-11
Applicant: 丰和工业株式会社
Inventor： 猿渡义德
Abstract: 本发明公开了一种内层基板用曝光装置以及基板和掩膜的剥离方法，本发明所要解决的技术问题是，使基板能尽早且切实地从曝光掩膜剥离。本发明中，在曝光平台(1)和上框(2)这两者上，设置进行突出动作，将基板(10)的一端向从曝光掩膜(11)剥下的方向推压的推进器(12)，在推进器(12)上形成相对于基板(10)和曝光掩膜(11)之间喷出气体的喷嘴(21)。推进器(12)被设置在推压基板(10)的端部的部位，喷嘴(21)以向作为剥离对象的基板(10)的中央喷出气体的方式形成，从喷嘴(21)喷出的气体是具有除静电作用的被离子化的气体。
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公开(公告)号：CN1013209B
公开(公告)日：1991-07-17
申请号：CN89104800.6
申请日：1989-07-14
Applicant: 丰和工业株式会社
Abstract: 本顶梳驱动机构，可应用于钳板体在其各精梳头处作前进后退往复运动循环的普通精梳机上。由于设置了一种传动机构，可以把与精梳锡林同步旋转的旋转轴的转动，转变为各精梳头顶梳安装杆的上下往复摇动，因而将上述钳板体前进后退的往复运动，与上述顶梳安装杆的上下往复摇动加以合成，在其前进端与位于较前进端稍高的后退端之间，使各项梳沿着一条朝前进端呈下降的大曲率向上凸鼓曲线的前进轨迹前进，并沿着一条朝后退端呈上升的大曲率凹下曲线的后退轨迹后退。
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