光处理装置
    1.
    发明公开
    光处理装置 审中-公开

    公开(公告)号:CN116806166A

    公开(公告)日:2023-09-26

    申请号:CN202280013758.1

    申请日:2022-01-26

    Inventor: 岛本章弘

    Abstract: 提供一种光处理装置,用于将使用紫外光使作为原料气体的包含氧原子的有机化合物活性化而得到的自由基向被处理物供给从而对所述被处理物的表面进行改质。本发明的光处理装置具备:气体生成器,生成将包含具有氧原子及氮原子的有机化合物的原料气体和载气以期望的混合比混合而得到的混合气体;腔室,以能够将所述混合气体向内部供给的方式与所述气体生成器以能够通气的方式连接,且能够将被处理物配置于内部;及光源,将至少在波长205nm以下的波长范围呈现强度的紫外光向所述原料气体照射,利用被所述紫外光照射后的所述原料气体来对所述被处理物的表面进行改质。

    还原处理方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN115427609B

    公开(公告)日:2025-01-10

    申请号:CN202180029430.4

    申请日:2021-04-07

    Inventor: 岛本章弘

    Abstract: 本发明提供通过比较简单的处理工序高效地生成还原所需的量的氢自由基并对被处理物的表面进行还原的还原处理方法。还原处理方法中,对氢自由基源含有物照射波长为255nm以下的紫外光而生成氢自由基,使生成的上述氢自由基与被处理物的表面接触而对上述表面进行还原。

    氟树脂的改性方法及改性装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118055967A

    公开(公告)日:2024-05-17

    申请号:CN202280066933.3

    申请日:2022-10-31

    Inventor: 岛本章弘

    Abstract: 本发明提供经改善的氟树脂的改性方法及改性装置。氟树脂的改性方法具备:第一工序,该第一工序对包含内包氧原子和氮原子中的至少一者的有机化合物的第一流体照射至少在205nm以下的波长区域中显示出强度的紫外光,使照射了上述紫外光的上述第一流体与氟树脂相接触;和第二工序,该第二工序对包含气体或雾状的水的第二流体照射上述紫外光,使照射了上述紫外光的第二流体与氟树脂相接触。改性装置具备:用于将包含内包氧原子和氮原子中的至少一者的有机化合物的第一流体及包含气体或雾状的水的第二流体供给至腔室内的至少一个流体供给口;和将在波长205nm以下的波长区域中显示出强度的紫外光朝向上述腔室内的上述第一流体和上述第二流体进行照射的光源。

    氟树脂的改性方法及改性装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118055966A

    公开(公告)日:2024-05-17

    申请号:CN202280066931.4

    申请日:2022-10-31

    Inventor: 岛本章弘

    Abstract: 本发明提供经改善的氟树脂的改性方法及改性装置。氟树脂的改性方法包括两个工序。在第一工序中,对包含内包氧原子的有机化合物的第一气体照射至少在205nm以下的波长区域中显示出强度的紫外光,使照射了上述紫外光的上述第一气体与氟树脂相接触。在第二工序中,对包含氧分子的第二气体照射上述紫外光,使照射了上述紫外光的上述第二气体与上述氟树脂相接触。改性装置具备用于供给包含内包氧原子的有机化合物的第一气体及包含氧分子的第二气体的至少一个气体供给口、和将在波长205nm以下的波长区域中显示出强度的紫外光朝向所供给的上述第一气体和上述第二气体进行照射的光源。

    还原处理方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115427609A

    公开(公告)日:2022-12-02

    申请号:CN202180029430.4

    申请日:2021-04-07

    Inventor: 岛本章弘

    Abstract: 本发明提供通过比较简单的处理工序高效地生成还原所需的量的氢自由基并对被处理物的表面进行还原的还原处理方法。还原处理方法中,对氢自由基源含有物照射波长为255nm以下的紫外光而生成氢自由基,使生成的上述氢自由基与被处理物的表面接触而对上述表面进行还原。

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