处理装置
    1.
    发明公开
    处理装置 审中-公开

    公开(公告)号:CN119230371A

    公开(公告)日:2024-12-31

    申请号:CN202410392651.3

    申请日:2024-04-02

    Abstract: 本发明涉及一种处理装置,能够早期调整工件周围的环境气且生产率较大。处理装置具备:载放工件的支承台;收纳有所述支承台的第一单元;第二单元,相对于所述第一单元对置地配置,收纳由放电灯或者等离子体产生装置构成的放电部;以及向所述第一单元内导入气体的供气口,通过所述第一单元与所述第二单元形成封闭空间,所述第二单元朝向所述支承台供给由所述放电部生成的紫外光或者含等离子体气体,所述支承台构成为能够使所述工件在所述第一单元与所述第二单元对置的第一方向上移动,将所述第一单元的内部空间在所述第一方向上实质地分离。

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