公开(公告)号：CN1708702A

公开(公告)日：2005-12-14

申请号：CN02830026.2

申请日：2002-12-12

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 松元浩二 ,  林成年 ,  藏田信行

IPC: G02B5/30 ,  C08J7/06 ,  C08L29

CPC classification number: B32B27/306 ,  B32B27/08 ,  B32B27/30 ,  B32B2038/0028 ,  B32B2307/42 ,  B32B2309/02 ,  B32B2329/04 ,  B32B2457/202 ,  C08J7/065 ,  C08J2329/04 ,  G02B5/3033

Abstract: 一种用于生产偏振片的方法，包含将碘在其中/其上吸附并取向的聚乙烯薄膜浸渍在含硼酸水溶液中的步骤，其中该水溶液与氧之间的接触被抑制。所生产的偏振片具有高对比度。

公开(公告)号：CN100346180C

公开(公告)日：2007-10-31

申请号：CN02830025.4

申请日：2002-12-12

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 松元浩二 ,  林成年 ,  藏田信行

IPC: G02B5/30 ,  B29D11/00 ,  B29C55/02

CPC classification number: B29D11/00 ,  B29C55/06 ,  B29D11/00634 ,  B29K2029/04 ,  B29K2995/0034 ,  G02B5/3033

Abstract: 一种用于生产偏振片的方法，包含将碘在其中/其上吸附和取向的聚乙烯薄膜浸渍在含硼酸水溶液中的步骤，其中该水溶液在450纳米波长下具有0.13或更小的吸收率。所生产的偏振片具有高对比度。

公开(公告)号：CN100346181C

公开(公告)日：2007-10-31

申请号：CN02830026.2

申请日：2002-12-12

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 松元浩二 ,  林成年 ,  藏田信行

IPC: G02B5/30 ,  C08J7/06 ,  C08L29/04

CPC classification number: B32B27/306 ,  B32B27/08 ,  B32B27/30 ,  B32B2038/0028 ,  B32B2307/42 ,  B32B2309/02 ,  B32B2329/04 ,  B32B2457/202 ,  C08J7/065 ,  C08J2329/04 ,  G02B5/3033

Abstract: 一种用于生产偏振片的方法，包含将碘在其中/其上吸附并取向的聚乙烯薄膜浸渍在含硼酸水溶液中的步骤，其中该水溶液与氧之间的接触被抑制。所生产的偏振片具有高对比度。

公开(公告)号：CN1708701A

公开(公告)日：2005-12-14

申请号：CN02830025.4

申请日：2002-12-12

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 松元浩二 ,  林成年 ,  藏田信行

IPC: G02B5/30 ,  B29D11/00 ,  B29C55/02

CPC classification number: B29D11/00 ,  B29C55/06 ,  B29D11/00634 ,  B29K2029/04 ,  B29K2995/0034 ,  G02B5/3033

Abstract: 一种用于生产偏振片的方法，包含将碘在其中/其上吸附和取向的聚乙烯薄膜浸渍在含硼酸水溶液中的步骤，其中该水溶液在450纳米波长下具有0.13或更小的吸收率。所生产的偏振片具有高对比度。