一种力学增强的电磁屏蔽膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN108264885B

    公开(公告)日:2021-02-19

    申请号:CN201810048487.9

    申请日:2018-01-18

    Abstract: 本发明公开了一种力学增强的电磁屏蔽膜及其制备方法,所述电磁屏蔽膜由少层MXene和纤维素纳米纤维构成。在根据本发明的电磁屏蔽膜的制备方法中,不涉及HF等强氧化剂,反应过程平缓,工艺安全,所得产物均一性好;制备出的电磁屏蔽膜在拉伸实验中最高可承受135.3MPa的拉应力,形变量达到16.7%;最高可承受14260次弯曲;在导电测试中体现出了739.4S/m的超高电导率;可以在47μm的超薄厚度下达到23.8dB的电磁屏蔽性能;此外根据本发明制备出的电磁屏蔽膜,其原料来源广泛,价格低廉,安全环保,有利于工业化推广应用。

    一种力学增强的电磁屏蔽膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN108264885A

    公开(公告)日:2018-07-10

    申请号:CN201810048487.9

    申请日:2018-01-18

    Abstract: 本发明公开了一种力学增强的电磁屏蔽膜及其制备方法,所述电磁屏蔽膜由少层MXene和纤维素纳米纤维构成。在根据本发明的电磁屏蔽膜的制备方法中,不涉及HF等强氧化剂,反应过程平缓,工艺安全,所得产物均一性好;制备出的电磁屏蔽膜在拉伸实验中最高可承受135.3MPa的拉应力,形变量达到16.7%;最高可承受14260次弯曲;在导电测试中体现出了739.4S/m的超高电导率;可以在47μm的超薄厚度下达到23.8dB的电磁屏蔽性能;此外根据本发明制备出的电磁屏蔽膜,其原料来源广泛,价格低廉,安全环保,有利于工业化推广应用。

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