公开(公告)号：CN119910511A

公开(公告)日：2025-05-02

申请号：CN202510416099.1

申请日：2025-04-03

Applicant: 华侨大学

Inventor： 徐西鹏 ,  薛明普 ,  闫东潇 ,  段念 ,  黄辉

IPC: B24B1/00 ,  B24B29/02 ,  B24B27/00 ,  B24B41/06 ,  B24B49/16

Abstract: 本发明提供了一种等离子双面抛光金刚石的加工装置以及抛光加工方法，加工装置包括可相互转动的等离子体发生器、封闭罩和两个抛光盘；该抛光盘即被用做抛光工具又充当该等离子体发生器的介质阻挡层，该等离子体发生器置于封闭罩中，在上下抛光盘之间产生含活性自由基的等离子体，含活性自由基的等离子体可以对金刚石衬底、上抛光盘和下抛光盘进行改性。最后，通过转动实现上抛光盘和下抛光盘对金刚石衬底的抛光加工。有效改善了等离子体辅助加工的方式，且不需要真空室。该方法能有效消除研磨和粗抛留下的表面损伤层，既能有效保障衬底抛光效率的同时，又能保障整个衬底表面达到较高的表面质量。