MRI中应用的介入性医疗装置

    公开(公告)号:CN101160534A

    公开(公告)日:2008-04-09

    申请号:CN200680009491.X

    申请日:2006-03-03

    CPC classification number: G01R33/28

    Abstract: 本文公开了一种医疗装置,该装置带有导入动物或人体内的金属部分,其外表面为含一氧化镍(NiO)的涂层,当NMR成像时NMR装置产生的电磁场使之成为可视的部分;该涂层可从根本上减少该金属部分在所述电磁场内引起的干扰。本发明主要与受试者或患者将要进行NMR成像的内植体相关。具体地说,本发明专注于含金属框架的腔型内植体,如支架。

    支架输送系统
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105283154B

    公开(公告)日:2019-07-26

    申请号:CN201480033263.0

    申请日:2014-06-13

    CPC classification number: A61F2/966 A61F2/92 A61F2002/9534 A61F2002/9665

    Abstract: 一种用来输送自展式支架的管腔内装置,所述支架沿纵轴从近侧向远侧延伸。该装置在输送构型时包括:(a)带有沿其纵轴的管腔并可滑动地覆盖管腔远端支架接收区的伸缩鞘,(b)纵向位于管腔内装置中的内轴,内轴的至少远端部分位于所述伸缩鞘内,(c)在压握状态下位于管腔支架接收区内的自展式支架,(d)划定内腔边缘的保持装置,其位于伸缩鞘内支架近侧附近,保持装置的近端永久连接到内轴上,以及(e)朝向管腔内装置近侧布置的操纵装置,能够相对于内轴而纵向地移动伸缩鞘。当管腔内装置为输送构型时,保持装置的远端部分位于支架近端部分周围并形成了保持装置和支架的重叠区。重叠区的长度L(10)与自展式支架的长度L(2)Comp在压握状态下之比,L(10)/L(2)Comp,为至少5%和至多30%。

    MRI中应用的介入性医疗装置

    公开(公告)号:CN103735266B

    公开(公告)日:2016-06-22

    申请号:CN201410036409.9

    申请日:2006-03-03

    CPC classification number: G01R33/28

    Abstract: 本文公开了一种医疗装置,该装置带有导入动物或人体内的金属部分,其外表面为含一氧化镍(NiO)的涂层,当NMR成像时NMR装置产生的电磁场使之成为可视的部分;该涂层可从根本上减少该金属部分在所述电磁场内引起的干扰。本发明主要与受试者或患者将要进行NMR成像的内植体相关。具体地说,本发明专注于含金属框架的腔型内植体,如支架。

    支架输送系统
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105283154A

    公开(公告)日:2016-01-27

    申请号:CN201480033263.0

    申请日:2014-06-13

    CPC classification number: A61F2/966 A61F2/92 A61F2002/9534 A61F2002/9665

    Abstract: 一种用来输送自展式支架的管腔内装置,所述支架沿纵轴从近侧向远侧延伸。该装置在输送构型时包括:(a)带有沿其纵轴的管腔并可滑动地覆盖管腔远端支架接收区的伸缩鞘,(b)纵向位于管腔内装置中的内轴,内轴的至少远端部分位于所述伸缩鞘内,(c)在压握状态下位于管腔支架接收区内的自展式支架,(d)划定内腔边缘的保持装置,其位于伸缩鞘内支架近侧附近,保持装置的近端永久连接到内轴上,以及(e)朝向管腔内装置近侧布置的操纵装置,能够相对于内轴而纵向地移动伸缩鞘。当管腔内装置为输送构型时,保持装置的远端部分位于支架近端部分周围并形成了保持装置和支架的重叠区。重叠区的长度L(10)与自展式支架的长度L(2)Comp在压握状态下之比,L(10)/L(2)Comp,为至少5%和至多30%。

    MRI中应用的介入性医疗装置

    公开(公告)号:CN103735266A

    公开(公告)日:2014-04-23

    申请号:CN201410036409.9

    申请日:2006-03-03

    CPC classification number: G01R33/28

    Abstract: 本文公开了一种医疗装置,该装置带有导入动物或人体内的金属部分,其外表面为含一氧化镍(NiO)的涂层,当NMR成像时NMR装置产生的电磁场使之成为可视的部分;该涂层可从根本上减少该金属部分在所述电磁场内引起的干扰。本发明主要与受试者或患者将要进行NMR成像的内植体相关。具体地说,本发明专注于含金属框架的腔型内植体,如支架。

    植入式腔内修复假体
    10.
    实用新型

    公开(公告)号:CN205964237U

    公开(公告)日:2017-02-22

    申请号:CN201620639999.9

    申请日:2016-06-24

    Abstract: 植入式腔内修复假体(1),包括沿轴线延伸的至少一个自膨胀式编织框架(20),能够从输送构型的径向压缩状态展开为径向膨胀状态;所述自膨胀式编织框架(20)采用多根线丝(27)制成;这种自膨胀式编织框架(20)形成所述腔内修复假体(1)的壁面;所述自膨胀式编织框架(20)包括圆筒形腔体,带有圆形横截面和恒定直径,并带有第一端(21)和第二端(22);在径向膨胀状态时,所述自膨胀式编织框架的至少一端(21,22)向内或向外摺叠,从而使得所述编织框架(20)形成多层构型。

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