公开(公告)号：CN118594593A

公开(公告)日：2024-09-06

申请号：CN202410686348.4

申请日：2024-05-29

Applicant: 哈尔滨理工大学

Inventor： 马佳蕊 ,  马滢 ,  邵思瑶 ,  周雨铮 ,  付友 ,  田硕 ,  初小宇

IPC: B01J27/24 ,  B01J35/39 ,  B01J37/00 ,  B01J37/08 ,  C02F1/30 ,  B01J35/45 ,  B01J35/61 ,  C02F101/30

Abstract: 本发明涉及光催化降解领域一种超薄B掺杂氮化碳光催化剂的制备及其应用。本发明目的是解决现有技术合成高性能光催化剂不稳定、可见光利用率低、光生电子‑空穴对易复合、造价昂贵、资源循环利用效率低等问题。本专利设计与研制了一种超薄B掺杂氮化碳材料B‑g‑C3N4。所采用的方法：以三聚氰胺、三聚氰酸为原料，以硼氢化钠为硼源，采用高温焙烧法制备超薄B掺杂氮化碳光催化剂，可见光下超薄B掺杂氮化碳材料可适用于降解罗丹明b污染物，具有高降解率和高催化活性。在可见光照射条件下，超薄B掺杂氮化碳材料相对单组份催化降解性能均有大幅度提高，B‑g‑C3N4光催化剂样品在60分钟内表现出超高降解效率，光催化降解率达到60％以上，远远超过纯g‑C3N4。