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公开(公告)号：CN118908227A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202410974567.2
申请日：2024-07-19
Applicant: 大连理工大学滇西产业发展研究院 , 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种多场协同辅助高纯石英砂气液包裹体深度去除装备，包括机架、工作台机构、超声振动台、装料机构、控制系统、激光和红外光系统、旋转伸缩主轴和温控系统。本发明设计的装备通过温度场的作用，使石英砂保持高能量状态，通过超声场的作用，使石英砂间产生碰撞摩擦并进一步提升内部活化能，通过红外光场的作用，进一步提升气液包裹体的内能，再通过激光场对石英砂瞬间的激化，促进含有气液包裹体的石英砂从内部炸裂。多场协同作用增加石英砂颗粒爆裂的概率，使气液包裹体从中溢出，既增加了气液包裹体去除的效果，又提升了去除的效率，从根本上实现高纯石英砂气液包裹体高质高效深度去除的目标。
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公开(公告)号：CN118908228A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202410974568.7
申请日：2024-07-19
Applicant: 大连理工大学滇西产业发展研究院 , 大连理工大学
IPC: C01B33/12
Abstract: 本发明提供了一种多场耦合辅助高纯石英砂杂质深度去除方法，通过温度场、超声场、红外光场和激光场多场协同作用，以及冷淬作用，增加含有气液包裹体的石英砂颗粒从内部爆裂的概率，使气液包裹体充满从石英砂中溢出。再利用温度场、超声场和搅拌产生的流场辅助进行碱洗和酸洗，形成多场耦合作用清洗，从深层次的对杂质包括气液包裹体进行去除，并提升了杂质去除的效率。所用的碱洗液和酸洗液均为绿色环保型溶液，不含强酸强碱和有毒物质，不会对人体和环境造成较大危害，符合当前绿色制造理念。
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公开(公告)号：CN118699891A
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202411194791.6
申请日：2024-08-29
Abstract: 本发明公开了一种微纳气泡辅助多能场耦合复杂曲面化学机械抛光装备，包括床身、主轴系统、滚桶系统及数控系统；主轴系统包括用于夹持待抛光工件的夹具和用于调整夹具空间位姿的主轴，滚桶系统的滚桶内加入抛光液；还包括微纳气泡系统和超声系统；微纳气泡系统用于向滚桶内通入微纳气泡；超声系统用于使滚桶系统的滚桶进行超声振动；数控系统连接并控制主轴系统、滚桶系统、微纳气泡系统及超声系统。本发明通过设置微纳气泡系统和超声系统，利用微纳气泡增大抛光液中磨粒与待抛光工件的作用面积，并利用微纳气泡系统和超声系统提高抛光液中磨粒的机械效能和化学效能，促进抛光过程中机械去除与化学腐蚀的协同作用，实现提高抛光效率。
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公开(公告)号：CN117844379A
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202410006551.2
申请日：2024-01-02
Abstract: 本发明提供一种单晶硅亚埃级表面抛光用的绿色环保抛光液及应用。本发明包括磨粒、还原剂、分散剂、增稠剂、pH调节剂和去离子水，其中，磨粒为氧化铈和氧化硅中的任一种或相互任意组合；还原剂为碳酸亚铁、过氧化氢、氧化铁和氢气中的至少一种；分散剂为焦磷酸钠、六偏磷酸钠、山梨醇和聚乙二醇中的至少一种；增稠剂为羧甲基纤维素钠、果胶、黄原胶、瓜尔胶、刺槐豆胶和卡拉胶中的至少一种；pH调节剂为食用碱、小苏打和三乙醇胺中至少的一种，通过，pH调节剂将抛光液的pH调至8‑11。上述成分的抛光液，加工过程中通过柔和的化学腐蚀与机械划擦耦合作用，对单晶硅表面进行超光滑超低损伤抛光，抛光后，单晶硅可获得比纳米级更优异的亚埃级表面。
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公开(公告)号：CN117381069A
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN202311595507.1
申请日：2023-11-27
Abstract: 本发明涉及一种基于纳克能的齿轮表面超精密加工装置及方法。本发明包括工作平台、运动模块和加工模块，所述运动模块的底部和加工模块的底部均安装在工作平台上，所述运动模块用于调整加工模块的高度，所述加工模块包括超声刀柄机构、模具、装夹机构和位置调整机构，待加工的工件与超声刀柄机构安装后能够放置在模具中，所述模具安装在装夹机构上，所述装夹机构设置在位置调整机构上，所述模具根据待加工零件的外形随形设计，所述模具中设置有纳米级的磁流变液，所述装夹机构为电磁铁，还包括有用于调节磁场的大小及方向，进而控制磁流变液中磁性颗粒的运动的变频器。本发明极大的提高了零件的超精密加工效率，提高了零件的表面质量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117103105A
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202310963066.X
申请日：2023-08-01
Abstract: 本发明提供一种用于大批量加工微小型轴承挡片的化学机械抛光设备及方法，包括夹具体以及与夹具配套使用的工作台体，夹具体中设有中空腔室，所述夹具体具有若干圆周均匀分布的小孔，且小孔中还具有连接中空腔室的抽真空通道，通过对中空腔室抽真空的方式完成夹具体的小孔对待抛光轴承挡片的装夹，所述夹具体外轮廓为轮齿结构，所述工作台体为具有内齿轮结构的抛光台，传动装置与抛光台相连。本发明解决了微小轴承挡片抛光时难以夹持的问题，夹具体可一次性装夹300～400甚至更多微小型轴承挡片，满足了该型轴承挡片大批量加工的生产需求，两夹具体交接过程简单准确，大大缩短工件装夹时间，有效提高加工效率。
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公开(公告)号：CN116442107A
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202310367017.X
申请日：2023-04-07
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明提供一种磁力超声辅助多工位剪切增稠抛光装置、抛光液及抛光方法。本发明包括机箱、龙门导轨模块、夹持模块、抛光模块和磁力模块，龙门导轨模块固定在工作台上，导轨可沿着龙门架进行升降运动，夹持模块用于夹持待抛光工件，夹持模块根据不同工件的曲面特性进行更换，实现多种、多个工件的同时抛光，夹持模块与龙门导轨模块的导轨相连，使得其可随导轨一起做升降运动，抛光模块用于放置抛光液，实现对工件的抛光，磁力模块放置有强力磁铁，磁力模块套接于抛光模块外部，强力磁铁设置于与夹持机构位置相对应的位置，其用于引导抛光液中的金属粉末包围在工件周围。本发明可实现对复杂曲面工件高效、高质量、高均匀度、无污染、低成本的抛光。
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公开(公告)号：CN107060943B
公开(公告)日：2019-07-30
申请号：CN201710420448.2
申请日：2017-06-07
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 一种低能耗制动开关，属于发动机气门驱动及辅助制动领域。它包括设置在固定件上的两个液压活塞、滑阀阀体、滑阀回复弹簧、单向阀阀芯、单向阀回复弹簧等。制动开关实现驱动和制动模式的切换；通过与不同气门驱动系统相搭配，可实现四冲程驱动、二冲程驱动、四冲程制动和二冲程制动等多种模式的不同方案，达到高动力、低油耗、低排放和高效分级制动。本发明结构简单紧凑、可靠性高、成本低廉。
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公开(公告)号：CN101503599B
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN200910010463.5
申请日：2009-02-23
Applicant: 大连理工大学
IPC: C09G1/18
Abstract: 一种化学机械磨削液制备方法，属于软脆功能晶体磨削抛光加工技术领域，特别涉及II-VI化合物软脆功能晶体磨削抛光加工方法。其特征是化学机械磨削液不含任何游离磨料，表面分散剂、氧化剂、活性剂，只是由溴、去离子水或蒸馏水、硝酸、有机酸的一种、有机醇的一种、无机酸的一种组成。溴与有机醇的体积百分比为1-5％，硝酸∶无机酸∶有机酸体积百分比为0.5-1∶3-5∶10-20，用去离子水或者蒸馏水稀释至pH值为2.0-3.2之间即可配制成化学机械磨削液。本磨削液采用了化学腐蚀与化学反应两种方式去除材料，具有较高的材料去除率，并有效避免了游离磨料的嵌入、划伤、微裂纹、塑性变形等缺陷，达到高效无应力超精密磨削与抛光的效果。
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公开(公告)号：CN119609897A
公开(公告)日：2025-03-14
申请号：CN202411763681.7
申请日：2024-12-03
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明涉及一种大容积孔径比薄壁半封闭复杂结构零件的多能场耦合化学机械抛光装备及方法。包括机架、主轴系统、抛光筒、多场触发装置和数控系统，主轴系统与用于夹持待抛光件的夹具连接，主轴系统用于调整主轴的空间位置，使得待抛光件进入到抛光筒中并浸入在抛光液中，抛光筒用于盛装化学机械抛光液和磁性磨料，所述多场触发装置包括超声发生器、磁场发生装置、光源的至少一种，加工前，待抛光零件的入口加入预设量的化学机械抛光液和磁性磨料并在抛光过程中保持密封状态。本发明以化学溶解去除为主，微小磨粒在流体压力作用下去除氧化膜和钝化膜为辅，零件表面无划痕，排除循环应力产生裂纹和疲劳源的可能。
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