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公开(公告)号：CN105093865B
公开(公告)日：2019-11-08
申请号：CN201410638177.4
申请日：2014-11-06
Applicant: 富士施乐株式会社
Abstract: 本发明提供旋转体的制造方法、感光体的制造方法。可抑制因浸渍涂布于基体的涂液的自重而在基体的上部产生的液体垂挂。旋转体的制造方法具有：第1工序，使圆筒状或圆柱状的基体下降而浸渍于涂液，在该基体的上部露出该涂液的状态停止该下降；第2工序，在该第1工序的停止位置以预先设定的时间保持该基体；第3工序，在该第2工序后使该基体进一步下降；和第4工序，在该第3工序后从该涂液中提升该基体。
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公开(公告)号：CN102416594B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201110065322.0
申请日：2011-03-17
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: B24B37/02
CPC classification number: B24C1/06
Abstract: 本发明涉及环状体的制造方法。该方法包括以下步骤：将研磨材料装填到研磨装置中，该研磨装置对包含树脂的圆筒膜的表面进行研磨；交替且重复地执行表面粗糙化操作和圆筒膜更换操作，其中，表面粗糙化操作使研磨材料碰撞圆筒膜的表面，使表面粗糙化；该圆筒膜更换操作用还没有完成表面的粗糙化的另一个圆筒膜更换已经完成了表面的粗糙化的圆筒膜；通过部分地排出研磨材料，并且装填新研磨材料，使得新研磨材料相对于装填新研磨材料之后研磨材料的总量的百分比按重量计变为30％或更高，来更换研磨材料；以及再次交替且重复地执行表面粗糙化操作和圆筒膜更换操作。
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公开(公告)号：CN105093865A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201410638177.4
申请日：2014-11-06
Applicant: 富士施乐株式会社
Abstract: 本发明提供旋转体的制造方法、感光体的制造方法。可抑制因浸渍涂布于基体的涂液的自重而在基体的上部产生的液体垂挂。旋转体的制造方法具有：第1工序，使圆筒状或圆柱状的基体下降而浸渍于涂液，在该基体的上部露出该涂液的状态停止该下降；第2工序，在该第1工序的停止位置以预先设定的时间保持该基体；第3工序，在该第2工序后使该基体进一步下降；和第4工序，在该第3工序后从该涂液中提升该基体。
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公开(公告)号：CN102416594A
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN201110065322.0
申请日：2011-03-17
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: B24B37/02
CPC classification number: B24C1/06
Abstract: 本发明涉及环状体的制造方法。该方法包括以下步骤：将研磨材料装填到研磨装置中，该研磨装置对包含树脂的圆筒膜的表面进行研磨；交替且重复地执行表面粗糙化操作和圆筒膜更换操作，其中，表面粗糙化操作使研磨材料碰撞圆筒膜的表面，使表面粗糙化；该圆筒膜更换操作用还没有完成表面的粗糙化的另一个圆筒膜更换已经完成了表面的粗糙化的圆筒膜；通过部分地排出研磨材料，并且装填新研磨材料，使得新研磨材料相对于装填新研磨材料之后研磨材料的总量的百分比按重量计变为30％或更高，来更换研磨材料；以及再次交替且重复地执行表面粗糙化操作和圆筒膜更换操作。
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