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公开(公告)号：CN112840239B
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN201980063133.4
申请日：2019-09-26
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B5/30 , B32B7/023 , G02F1/13 , G02F1/1335 , G02F1/13363 , G02F1/1337 , G09F9/00 , H10K50/85 , H10K59/10 , H05B33/02
Abstract: 本发明的课题在于提供一种具有优异的加工适性且相位差膜的转印性也良好的转印膜以及偏振片、图像显示装置及偏振片的制造方法。本发明的转印膜具有临时支撑体及能够剥离地设置于临时支撑体上的相位差膜，其中，相位差膜包含直接或经由取向膜配置于临时支撑体上的相位差层，相位差层为使含有具有聚合性基团的液晶性化合物的组合物聚合而获得的层，在相位差层直接配置于临时支撑体上的情况下，相位差层同时满足下述必要条件1及必要条件2，在相位差层经由取向膜配置于临时支撑体上的情况下，取向膜同时满足下述必要条件1及必要条件2。必要条件1：使含有具有3官能以上的聚合性基团的非液晶性化合物的组合物聚合而获得的层；必要条件2：断裂剥离荷载成为0.4N/25mm以上的层。
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公开(公告)号：CN110431457B
公开(公告)日：2022-02-22
申请号：CN201880019259.7
申请日：2018-03-22
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335 , G02F1/13363 , G09F9/30 , H01L27/32 , H01L51/50 , H05B33/02
Abstract: 本发明的光学薄膜为具有基材和相邻设置于基材上相位差层的光学薄膜，相位差层为将液晶组合物中所含的液晶性化合物的垂直取向进行固定而成的层，所述液晶组合物含有具有聚合性基团的液晶性化合物和高分子化合物，使用三维SP值算出的高分子化合物与基材的δa值之差为3以下，高分子化合物为具有由下述式(I)表示的重复单元的聚合物，高分子化合物的含量相对于液晶性化合物100质量份为2质量份以上且10质量份以下。其中，式(I)中，R1表示氢原子或甲基，X表示‑O‑或‑NH‑，R2表示氢原子或含活性氢基团。
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公开(公告)号：CN112752773A
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN201980063194.0
申请日：2019-09-12
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08F220/28 , G02B5/30
Abstract: 本发明的目的在于提供一种高分子化合物以及使用了该高分子化合物的液晶组合物、相位差层、光学膜、偏振片及图像显示装置，所述高分子化合物通过配合于含有液晶性化合物的液晶组合物而所获得的相位差层中的液晶性化合物的取向性变高。本发明的高分子化合物为具有下述式(I)所表示的重复单元、下述式(II)所表示的重复单元、下述式(III)所表示的重复单元及下述式(IV)所表示的重复单元的高分子化合物。
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公开(公告)号：CN108474895B
公开(公告)日：2021-06-01
申请号：CN201680077864.0
申请日：2016-12-13
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335 , G02F1/13363
Abstract: 根据本发明，提供一种偏振片以及具有上述偏振片的液晶显示装置，所述偏振片包含偏振层以及透明层，所述偏振片中，透明层与偏振层隔着粘接层而贴合，粘接层的膜厚为1～1000nm，透明层的膜厚为0.1～10μm，并且透明层的取向双折射与光弹性系数的符号相反，透明层的光弹性系数的绝对值为2×10‑12Pa‑1以上。
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公开(公告)号：CN112840239A
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN201980063133.4
申请日：2019-09-26
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B5/30 , B32B7/023 , G02F1/13 , G02F1/1335 , G02F1/13363 , G02F1/1337 , G09F9/00 , H01L27/32 , H01L51/50 , H05B33/02
Abstract: 本发明的课题在于提供一种具有优异的加工适性且相位差膜的转印性也良好的转印膜以及偏振片、图像显示装置及偏振片的制造方法。本发明的转印膜具有临时支撑体及能够剥离地设置于临时支撑体上的相位差膜，其中，相位差膜包含直接或经由取向膜配置于临时支撑体上的相位差层，相位差层为使含有具有聚合性基团的液晶性化合物的组合物聚合而获得的层，在相位差层直接配置于临时支撑体上的情况下，相位差层同时满足下述必要条件1及必要条件2，在相位差层经由取向膜配置于临时支撑体上的情况下，取向膜同时满足下述必要条件1及必要条件2。必要条件1：使含有具有3官能以上的聚合性基团的非液晶性化合物的组合物聚合而获得的层；必要条件2：断裂剥离荷载成为0.4N/25mm以上的层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110431457A
公开(公告)日：2019-11-08
申请号：CN201880019259.7
申请日：2018-03-22
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335 , G02F1/13363 , G09F9/30 , H01L27/32 , H01L51/50 , H05B33/02
Abstract: 本发明的光学薄膜为具有基材和相邻设置于基材上相位差层的光学薄膜，相位差层为将液晶组合物中所含的液晶性化合物的垂直取向进行固定而成的层，所述液晶组合物含有具有聚合性基团的液晶性化合物和高分子化合物，使用三维SP值算出的高分子化合物与基材的δa值之差为3以下，高分子化合物为具有由下述式(I)表示的重复单元的聚合物，高分子化合物的含量相对于液晶性化合物100质量份为2质量份以上且10质量份以下。其中，式(I)中，R1表示氢原子或甲基，X表示-O-或-NH-，R2表示氢原子或含活性氢基团。
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公开(公告)号：CN112752773B
公开(公告)日：2022-09-09
申请号：CN201980063194.0
申请日：2019-09-12
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08F220/28 , G02B5/30
Abstract: 本发明的目的在于提供一种高分子化合物以及使用了该高分子化合物的液晶组合物、相位差层、光学膜、偏振片及图像显示装置，所述高分子化合物通过配合于含有液晶性化合物的液晶组合物而所获得的相位差层中的液晶性化合物的取向性变高。本发明的高分子化合物为具有下述式(I)所表示的重复单元、下述式(II)所表示的重复单元、下述式(III)所表示的重复单元及下述式(IV)所表示的重复单元的高分子化合物。
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公开(公告)号：CN111278875B
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN201880069359.0
申请日：2018-10-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08F220/28 , C08F220/24 , G02B5/30 , G02F1/1335 , G02F1/13363 , G02F1/1337
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够通过配合于液晶组合物中来形成取向性变高且表面形态不均匀得到抑制的相位差层的高分子化合物以及使用了该高分子化合物的液晶组合物、相位差层、光学膜、偏振片及图像显示装置。本发明的高分子化合物具有下述式(I)所表示的重复单元、下述式(II)所表示的重复单元及下述式(III)所表示的重复单元，所述高分子化合物的酸值为115mgK OH/g以上且羟基值为70mgKOH/g以上。
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公开(公告)号：CN109689358B
公开(公告)日：2020-09-25
申请号：CN201780054003.5
申请日：2017-08-31
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明通过层叠包含聚酯树脂的基材薄膜与包含玻璃化转变温度超过80℃的树脂及芳香族酯化合物的透光性薄膜而成的剥离性层叠薄膜、及使用了上述剥离性层叠薄膜的偏振片的制造方法，提供一种层叠基材薄膜与透光性薄膜而成并且上述基材薄膜与上述透光性薄膜具有适当的密合性的剥离性层叠薄膜、及使用了上述剥离性层叠薄膜的偏振片的制造方法。
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公开(公告)号：CN108603967A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201780009259.4
申请日：2017-02-02
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B5/30 , C09J5/00 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供一种偏振片的制造方法，其具有如下工序：在基材上形成胶乳层，并通过干燥而制作在上述基材上形成有光学薄膜的转印膜的工序；在上述转印膜的上述光学薄膜侧表面贴合起偏器的工序；以及从上述转印膜剥离上述基材的工序，当形成上述胶乳层的胶乳以10重量％与环己酮进行混合时实质上不溶解，上述基材的形成上述胶乳层侧的表面能为41.0～48.0mN/m，上述光学薄膜的厚度为1～10μm。
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