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公开(公告)号：CN103889596B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201280052656.7
申请日：2012-10-04
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: B05D7/24 , B05D3/10 , C09D183/04 , C09D201/10
CPC classification number: B05D3/107 , B05D1/36 , B05D2203/35 , C03C17/30 , C03C17/3405 , C03C2217/76 , C07F7/10 , C07F7/12 , C07F7/1804 , C09D183/08
Abstract: 本发明提供一种在制造具有被膜的带被膜的基板的方法中，在确保使用的被膜形成用组合物的贮藏稳定性的同时，能够实现简便、高生产效率、及基板无劣化、外观良好、具有高耐久性的带被膜的基板的制造的方法。带被膜的基板的制造方法是制造在基板上具有被膜的带被膜的基板的方法，其包括：制备包含具有能水解的官能团的硅烷化合物、实质上不含水解反应催化剂的被膜形成用组合物的工序；在基板上涂布上述被膜形成用组合物而形成涂膜的工序；将上述涂膜干燥而制成前体膜的工序；以及利用包含水解反应催化剂作为主成分的处理剂处理上述前体膜的表面的工序。
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公开(公告)号：CN102471669A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080034943.6
申请日：2010-08-03
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C09K3/18 , C09D5/00 , C09D183/08
CPC classification number: C09D183/14 , C08G77/24 , C08G77/62 , C09D183/16
Abstract: 本发明提供可形成具有良好的水滴除去性且兼具耐磨损性和耐候性的拒水膜的拒水膜形成用组合物，具有由该拒水性形成用组合物形成的水滴除去性、耐磨损性、耐候性良好的拒水层的带拒水膜的基体及其制造方法以及运输机械用物品。本发明提供包含具有含醚氧键的含氟有机基团的特定的有机硅烷化合物、具有不含醚氧键的含氟有机基团的特定的有机硅烷化合物作为主要成分的拒水膜形成用组合物，及具有基体和位于所述基体的表面的将由该拒水膜形成用组合物形成的拒水层配置在最外层的拒水膜的带拒水膜的基体以及由该基体形成的运输机械用物品。
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公开(公告)号：CN102471669B
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201080034943.6
申请日：2010-08-03
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C09K3/18 , C09D5/00 , C09D183/08
CPC classification number: C09D183/14 , C08G77/24 , C08G77/62 , C09D183/16
Abstract: 本发明提供可形成具有良好的水滴除去性且兼具耐磨损性和耐候性的拒水膜的拒水膜形成用组合物，具有由该拒水性形成用组合物形成的水滴除去性、耐磨损性、耐候性良好的拒水层的带拒水膜的基体及其制造方法以及运输机械用物品。本发明提供包含具有含醚氧键的含氟有机基团的特定的有机硅烷化合物、具有不含醚氧键的含氟有机基团的特定的有机硅烷化合物作为主要成分的拒水膜形成用组合物，及具有基体和位于所述基体的表面的将由该拒水膜形成用组合物形成的拒水层配置在最外层的拒水膜的带拒水膜的基体以及由该基体形成的运输机械用物品。
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公开(公告)号：CN103889596A
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201280052656.7
申请日：2012-10-04
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: B05D7/24 , B05D3/10 , C09D183/04 , C09D201/10
CPC classification number: B05D3/107 , B05D1/36 , B05D2203/35 , C03C17/30 , C03C17/3405 , C03C2217/76 , C07F7/10 , C07F7/12 , C07F7/1804 , C09D183/08
Abstract: 本发明提供一种在制造具有被膜的带被膜的基板的方法中，在确保使用的被膜形成用组合物的贮藏稳定性的同时，能够实现简便、高生产效率、及基板无劣化、外观良好、具有高耐久性的带被膜的基板的制造的方法。带被膜的基板的制造方法是制造在基板上具有被膜的带被膜的基板的方法，其包括：制备包含具有能水解的官能团的硅烷化合物、实质上不含水解反应催化剂的被膜形成用组合物的工序；在基板上涂布上述被膜形成用组合物而形成涂膜的工序；将上述涂膜干燥而制成前体膜的工序；以及利用包含水解反应催化剂作为主成分的处理剂处理上述前体膜的表面的工序。
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