公开(公告)号：CN117331285B

公开(公告)日：2024-05-14

申请号：CN202311274239.3

申请日：2023-09-28

Applicant: 暨南大学

Inventor： 赵圆圆 ,  李文慧 ,  陈经涛 ,  段宣明

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种离散化数字掩模光刻生产任意线宽和任意间距图案的方法，应用于无掩模投影光刻领域，包括：基于液晶空间光调制器的灰度与归一化输出强度的线性关系曲线，根据目标光刻图案的线宽及间距要求，基于成像规则迭代优化得到对应的像素化灰度掩模；通过计算机控制液晶空间光调制器加载像素化灰度掩模，对经半波片调制为水平偏振态的入射匀化光场进行离散化调制，进入偏振分光棱镜反射得到目标光场分布；目标光场分布被投影物镜收集并缩放至光刻胶层，得到符合线宽及间距要求的目标光刻图案。本发明克服了空间光调制器离散像素量化造成的光刻线宽与线条间距只能在单像素大小的基础上成倍缩小，而较难实现高精度可控的任意值线宽与间距的问题。

公开(公告)号：CN117331285A

公开(公告)日：2024-01-02

申请号：CN202311274239.3

申请日：2023-09-28

Applicant: 暨南大学

Inventor： 赵圆圆 ,  李文慧 ,  陈经涛 ,  段宣明

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种离散化数字掩膜光刻生产任意线宽和任意间距图案的方法，应用于无掩模投影光刻领域，包括：基于液晶空间调制器的灰度与归一化输出强度的线性关系曲线，根据目标光刻图案的线宽及间距要求，基于成像规则迭代优化得到对应的像素化灰度掩膜；通过计算机控制液晶空间调制器加载像素化灰度掩膜，对经半波片调制为水平偏振态的入射匀化光场进行离散化调制，进入偏振分光棱镜反射得到目标光场分布；目标光场分布被投影物镜收集并缩放至光刻胶层，得到符合线宽及间距要求的目标光刻图案。本发明克服了空间光调制器离散像素量化造成的光刻线宽与线条间距只能在单像素大小的基础上成倍缩小，而较难实现高精度可控的任意值线宽与间距的问题。