公开(公告)号：CN1836312A

公开(公告)日：2006-09-20

申请号：CN200480023577.9

申请日：2004-08-20

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  石井勇树 ,  牧野内进

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 一种通过把曝光光经由投影光学系统和液体照射到被放置在所述投影光学系统的图像面一侧的基片而曝光基片的曝光设备，该曝光设备包括：液体供应机构，用来把液体供应到基片上；液体回收机构，用来回收被供应到基片上的液体；以及其中当曝光光照射到投影光学系统的图像面一侧时，液体回收机构不执行液体的回收。

公开(公告)号：CN100437358C

公开(公告)日：2008-11-26

申请号：CN200480012836.8

申请日：2004-05-14

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 石井勇树

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/7075 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/707

Abstract: 本发明提供曝光装置及器件制造方法。器件制造系统(SYS)的曝光装置主体(EX)用液体(5)充满投影光学系(PL)与基板(P)之间的至少一部分，通过投影光学系(PL)与液体(50)将掩模M图形的像投影到基板(P)上，对基板(P)进行曝光；其中：具有基板保持托盘(PH)和液体供给机构(12)；该基板保持托盘(PH)保持基板(P)，同时，使基板(P)浸入其中地保持液体(50)；该液体供给机构(12)在投影光学系(PL)的投影区域(AR1)的近旁从基板(P)的上方将液体(50)供给到基板(P)上。该曝光装置在用液体充满投影光学系与基板之间进行曝光处理时，也可将所期望的器件的图形形成于基板上。

公开(公告)号：CN100470722C

公开(公告)日：2009-03-18

申请号：CN200480023577.9

申请日：2004-08-20

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  石井勇树 ,  牧野内进

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 一种通过把曝光光经由投影光学系统和液体照射到被放置在所述投影光学系统的图像面一侧的基片而曝光基片的曝光设备，该曝光设备包括：液体供应机构，用来把液体供应到基片上；液体回收机构，用来回收被供应到基片上的液体；以及其中当曝光光照射到投影光学系统的图像面一侧时，液体回收机构不执行液体的回收。

公开(公告)号：CN1788333A

公开(公告)日：2006-06-14

申请号：CN200480012836.8

申请日：2004-05-14

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 石井勇树

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/7075 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/707

Abstract: 本发明提供曝光装置及器件制造方法。器件制造系统(SYS)的曝光装置主体(EX)用液体(5)充满投影光学系(PL)与基板(P)之间的至少一部分，通过投影光学系(PL)与液体(50)将掩模M图形的像投影到基板(P)上，对基板(P)进行曝光；其中：具有基板保持托盘(PH)和液体供给机构(12)；该基板保持托盘(PH)保持基板(P)，同时，使基板(P)浸入其中地保持液体(50)；该液体供给机构(12)在投影光学系(PL)的投影区域(AR1)的近旁从基板(P)的上方将液体(50)供给到基板(P)上。该曝光装置在用液体充满投影光学系与基板之间进行曝光处理时，也可将所期望的器件的图形形成于基板上。