公开(公告)号：CN105895557B

公开(公告)日：2019-11-08

申请号：CN201610087633.X

申请日：2016-02-16

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 高桥弘明 ,  久保勇人

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供加快在基板的主面上的第一流体的流速由此良好地除去在基板的主面附着的颗粒等异物的基板处理装置。基板处理装置使用包括第一流体的处理流体对基板实施处理，包括：基板保持单元，保持基板；喷嘴，具有第一筒体，在第一筒体的内部形成有第一流体流通的第一流路，在第一筒体的顶端缘与基板的主面之间划分形成用于将在第一流路内流动的流体沿着基板的所述主面呈放射状喷出的环状的第一喷出口；支撑构件，支撑喷嘴；喷嘴保持单元，将喷嘴以能够沿着基板的主面的法线方向进行相对位移的状态保持在支撑构件上；第一流体供给单元，向喷嘴的第一流路供给第一流体，通过从第一喷出口喷出第一流体，使离开基板的所述主面的方向的力作用于喷嘴。

公开(公告)号：CN105895557A

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201610087633.X

申请日：2016-02-16

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 高桥弘明 ,  久保勇人

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供加快在基板的主面上的第一流体的流速由此良好地除去在基板的主面附着的颗粒等异物的基板处理装置。基板处理装置使用包括第一流体的处理流体对基板实施处理，包括：基板保持单元，保持基板；喷嘴，具有第一筒体，在第一筒体的内部形成有第一流体流通的第一流路，在第一筒体的顶端缘与基板的主面之间划分形成用于将在第一流路内流动的流体沿着基板的所述主面呈放射状喷出的环状的第一喷出口；支撑构件，支撑喷嘴；喷嘴保持单元，将喷嘴以能够沿着基板的主面的法线方向进行相对位移的状态保持在支撑构件上；第一流体供给单元，向喷嘴的第一流路供给第一流体，通过从第一喷出口喷出第一流体，使离开基板的所述主面的方向的力作用于喷嘴。