公开(公告)号：CN105470167A

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201510633671.6

申请日：2015-09-29

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 难波敏光

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/67023

Abstract: 本发明的目的在于提供一种基板处理装置，能够从处理单元向补充用罐回收处理液，并从补充用罐向供给用罐补充处理液。从供给用罐向处理单元的处理液喷嘴供给处理液，从处理液喷嘴向基板供给处理液。在处理单元使用的使用完的处理液被回收，并有选择地供给至第一以及第二补充用罐。在使用完的处理液向第一补充用罐供给的期间，第二补充用罐内的处理液补充到供给用罐，并且第一补充用罐内的处理液由加热部加热并循环。在使用完的处理液向第二补充用罐供给的期间，第一补充用罐内的处理液补充到供给用罐，并且第二补充用罐内的处理液由加热部加热并循环。

公开(公告)号：CN105470167B

公开(公告)日：2018-05-08

申请号：CN201510633671.6

申请日：2015-09-29

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 难波敏光

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67115

Abstract: 本发明的目的在于提供一种基板处理装置，能够从处理单元向补充用罐回收处理液，并从补充用罐向供给用罐补充处理液。从供给用罐向处理单元的处理液喷嘴供给处理液，从处理液喷嘴向基板供给处理液。在处理单元使用的使用完的处理液被回收，并有选择地供给至第一以及第二补充用罐。在使用完的处理液向第一补充用罐供给的期间，第二补充用罐内的处理液补充到供给用罐，并且第一补充用罐内的处理液由加热部加热并循环。在使用完的处理液向第二补充用罐供给的期间，第一补充用罐内的处理液补充到供给用罐，并且第二补充用罐内的处理液由加热部加热并循环。