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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1131322A
公开(公告)日：1996-09-18
申请号：CN95115998.4
申请日：1995-10-19
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G11B21/21
CPC classification number: G11B5/6005
Abstract: 本发明中，在面向存储媒体的磁头表面有3个触头，这些触头通过润滑层下存储媒体表面相接触。3个触点面积的总和为0.0001mm2以上，0.02mm2以下，触点高度为5μm以上，100μm以下。3个触头中，2个触头在前部设置锥形面体，设置在与存储媒体的相对移动方向的前位置上，其余1个触头位于后部位置上，前部位置的2个触头的总面积小于后部位置的触头面积。写入功能部和读出功能部设置在后部位置的触头上。
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公开(公告)号：CN1139806A
公开(公告)日：1997-01-08
申请号：CN95115567.9
申请日：1995-08-18
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G11B21/16
Abstract: 在磁头滑触头10相对磁盘的面上形成1个以上的滑动用的突起21、22、22，同时，至少在其中1对突起22上，在滑触头幅宽方向上对称地在导轨32间形成突起与旋转磁盘表面间产生吸引力的负压沟34。由于有此对称的负压沟34，因而即使在磁头滑触头10和磁盘面间产生在幅宽方向倾斜(侧滚方向的扭转)，也可以自动地由上浮力和由负压引起的吸引力修正。在突起21上形成有磁极6和导轨31及台阶高差部分35，在突起22上另外形成有锥度部分33。
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公开(公告)号：CN1137486C
公开(公告)日：2004-02-04
申请号：CN94119365.9
申请日：1994-12-02
Applicant: 株式会社日立制作所
Abstract: 用光刻法在非磁性基材上按有多排字符状图案形成磁头元件，然后分别在形成所说磁头元件的所说表面上和所说非磁性基材的相对表面形成有机保护层，然后从非磁性基材上切下有一排所说磁性元件的滑触头块，以便有可能防止在随后为形成弯曲的滑触头导轨而采用的遮蔽和蚀刻步骤期间于非磁性基材的磁头元件表面和相对表面上出现污染、刮痕和碎屑等等。
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公开(公告)号：CN1143248A
公开(公告)日：1997-02-19
申请号：CN95117314.6
申请日：1995-09-19
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G11B21/21
Abstract: 用于磁盘类型的记录/再生设备的磁头滑动器装置包括一个滑动器机身、一个配置在该滑动器机身一端的薄膜层、一个由作为它的组成部分的薄膜层组成的磁头，以及一个在那里与磁头的磁芯结合在一起的磁芯衬垫突出部分。该磁芯衬垫突出部分这样构成以致在面向磁盘的方向伸出。该磁芯衬垫突出部分没有被形成与滑动机身相连接。在制造加工期间，在滑动器机身和磁头之间产生的偏差影响能够消除。磁头滑动器装置的磁头的磁芯可以配置最接近磁盘。因而可到达一种高密度记录。
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