公开(公告)号：CN101743513A

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：CN200880024654.0

申请日：2008-09-02

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 高浦淳 ,  藤田和弘 ,  安部一成 ,  山影明广 ,  永濑修 ,  河野义次

IPC: G03B21/14 ,  G02B17/08 ,  G03B21/28

CPC classification number: G03B21/28 ,  G02B17/08 ,  G02B17/0896 ,  G02B26/0833 ,  G02B27/283 ,  G03B21/14

Abstract: 一种投射光学设备，能够提供高图像质量以及具有减小的尺寸。投射光学设备包括光阀和投射光学系统，该投射光学系统包括第一光学系统(5)和第二光学系统(3′)，该第一光学系统(5)具有透射折射元件，该第二光学系统(3′)具有反射折射元件。形成在光阀上的图像被投射光学系统投射在投射表面(4)上。第一光学系统(5)中的光轴被纵向和横向折转。第一光学系统的第一组(5A)被容纳一个在空间(无用空间)内，该空间的下限被第二光学系统(3′)的下边缘限定，借此减少设备的深度。

公开(公告)号：CN101743513B

公开(公告)日：2011-11-23

申请号：CN200880024654.0

申请日：2008-09-02

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 高浦淳 ,  藤田和弘 ,  安部一成 ,  山影明广 ,  永濑修 ,  河野义次

IPC: G03B21/14 ,  G02B17/08 ,  G03B21/28

CPC classification number: G03B21/28 ,  G02B17/08 ,  G02B17/0896 ,  G02B26/0833 ,  G02B27/283 ,  G03B21/14

Abstract: 一种投射光学设备，能够提供高图像质量以及具有减小的尺寸。投射光学设备包括光阀和投射光学系统，该投射光学系统包括第一光学系统(5)和第二光学系统(3′)，该第一光学系统(5)具有透射折射元件，该第二光学系统(3′)具有反射折射元件。形成在光阀上的图像被投射光学系统投射在投射表面(4)上。第一光学系统(5)中的光轴被纵向和横向折转。第一光学系统的第一组(5A)被容纳一个在空间(无用空间)内，该空间的下限被第二光学系统(3′)的下边缘限定，借此减少设备的深度。