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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117083182A
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202280020811.0
申请日：2022-03-01
Applicant: 株式会社理光
IPC: B41M5/333
Abstract: 提供了一种热敏记录介质，其包括载体和设置在所述载体上或上方的热敏记录层。所述热敏记录层包括由通式(1)表示的化合物和苯乙烯‑丙烯酸树脂，#imgabs0#其中，在通式(1)中，R2是C1‑12直链、支链或脂环族烷基，被C1‑12烷基、C1‑12烷氧基、C6‑12芳基或卤原子取代的C7‑12芳烷基，或者未被取代或被C1‑12烷基、C1‑12烷氧基、C6‑12芳基或卤原子取代的C6‑12芳基，其中两个或更多个R2可以彼此相同或不同；并且A1是氢原子或C1‑4烷基，其中两个或更多个A1可以彼此相同或不同。
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公开(公告)号：CN109311339B
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN201780033381.5
申请日：2017-05-30
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 热敏记录介质，其包括基础材料和记录层，记录层包括光热转换材料并且被布置在基础材料上，其中所述热敏记录介质被配置以通过激光照射在热敏记录介质中记录信息，并且其中通过未记录信息的热敏记录介质观察的背景色调A和不经未记录信息的热敏记录介质直接观察的背景色调B之间的色差ΔE为20以下，并且在通过激光照射进行信息记录后经激光照射的记录层区域的膜厚度D相对于热敏记录介质的未记录信息的记录层的膜厚度C为140％以上但250％以下。
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公开(公告)号：CN109311339A
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201780033381.5
申请日：2017-05-30
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 热敏记录介质，其包括基础材料和记录层，记录层包括光热转换材料并且被布置在基础材料上，其中所述热敏记录介质被配置以通过激光照射在热敏记录介质中记录信息，并且其中通过未记录信息的热敏记录介质观察的背景色调A和不经未记录信息的热敏记录介质直接观察的背景色调B之间的色差ΔE为20以下，并且在通过激光照射进行信息记录后经激光照射的记录层区域的膜厚度D相对于热敏记录介质的未记录信息的记录层的膜厚度C为140％以上但250％以下。
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公开(公告)号：CN109328143B
公开(公告)日：2021-03-23
申请号：CN201780039499.9
申请日：2017-06-26
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 提供一种热敏记录介质，其包括支持体、和设置在所述支持体的至少一个表面上面并且包含无色染料和显色剂的热敏记录层，其中所述显色剂包括4‑羟基‑4'‑苄氧基二苯基砜和由通式(1)表示的二苯基砜化合物，和其中由通式(1)表示的二苯基砜化合物的含量小于3.0质量份，相对于1.0质量份的4‑羟基‑4'‑苄氧基二苯基砜。
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公开(公告)号：CN109328143A
公开(公告)日：2019-02-12
申请号：CN201780039499.9
申请日：2017-06-26
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 提供一种热敏记录介质，其包括支持体、和设置在所述支持体的至少一个表面上面并且包含无色染料和显色剂的热敏记录层，其中所述显色剂包括4-羟基-4'-苄氧基二苯基砜和由通式(1)表示的二苯基砜化合物，和其中由通式(1)表示的二苯基砜化合物的含量小于3.0质量份，相对于1.0质量份的4-羟基-4'-苄氧基二苯基砜。
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