化妆料
    1.
    发明公开
    化妆料 审中-公开

    公开(公告)号:CN118252771A

    公开(公告)日:2024-06-28

    申请号:CN202311678182.3

    申请日:2023-12-08

    Inventor: 周林 栗延理绘

    Abstract: 一种化妆料,其包含:(A)包含季铵结构的聚合物;以及(B)选自下述通式(1)所示的化合物及其药理学上可容许的盐中的1种或2种以上。(在通式(1)中,R1、R3、R4和R6各自独立地为碳原子数1~3的烷基,R2和R5各自独立地为氢原子或碳原子数1~3的烷基。)#imgabs0#

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