公开(公告)号：CN107250913A

公开(公告)日：2017-10-13

申请号：CN201680009871.7

申请日：2016-02-23

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 村井俊彦 ,  原宪司 ,  入泽正福

IPC: G03F7/095 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/11 ,  G03F7/039 ,  G03F7/095 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/32 ,  G03F7/322

Abstract: 本发明提供一种能够得到抗蚀膜的各层间的密合性优异、赋予高精细的图案、阻气性和耐溶剂性高的层叠体的图案形成方法以及使用其制造的电子设备。一种图案形成方法，其包括：使用组合物在支承体上形成膜的工序(1)；对膜的规定部分照射活性能量射线而使规定部分的显影性发生变化的曝光工序(2)；将膜进行显影而得到图案的显影工序(3)，作为组合物，使用对于显影液的溶解性彼此不同的多种组合物，所得图案具有多层结构。

公开(公告)号：CN102712599B

公开(公告)日：2016-08-10

申请号：CN201180006118.X

申请日：2011-01-12

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 村井俊彦 ,  真壁由惠 ,  藤田昌平

IPC: C07D221/14 ,  C07D311/92 ,  C07D405/12 ,  G03F7/004

CPC classification number: C07D221/14 ,  C07D311/92 ,  C07D405/12 ,  C09B57/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397

Abstract: 本发明提供一种对有机溶剂的溶解性高、感光性良好且适用于光产酸剂和聚合引发剂的新型磺酸衍生物化合物和新型萘二甲酸衍生物化合物。所述磺酸衍生物化合物由下述通式(I)表示。(式中，R01、R04、R05和R06表示氢原子，R02、R03中的任一个表示任选被脂环式烃基、杂环基或卤素原子取代且任选具有支链的碳原子数4~18的烷氧基等，R07表示任选被卤素原子和/或烷硫基取代的碳原子数1~18的脂肪族烃基等。)。

公开(公告)号：CN102712599A

公开(公告)日：2012-10-03

申请号：CN201180006118.X

申请日：2011-01-12

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 村井俊彦 ,  真壁由惠 ,  藤田昌平

IPC: C07D221/14 ,  C07D311/92 ,  C07D405/12 ,  G03F7/004

CPC classification number: C07D221/14 ,  C07D311/92 ,  C07D405/12 ,  C09B57/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397

Abstract: 本发明提供一种对有机溶剂的溶解性高、感光性良好且适用于光产酸剂和聚合引发剂的新型磺酸衍生物化合物和新型萘二甲酸衍生物化合物。所述磺酸衍生物化合物由下述通式(I)表示。(式中，R01、R04、R05和R06表示氢原子，R02、R03中的任一个表示任选被脂环式烃基、杂环基或卤素原子取代且任选具有支链的碳原子数4~18的烷氧基等，R07表示任选被卤素原子和/或烷硫基取代的碳原子数1~18的脂肪族烃基等。)。