激光空泡空化的光电化学三维加工方法及装置

    公开(公告)号:CN101856753A

    公开(公告)日:2010-10-13

    申请号:CN201010158801.2

    申请日:2010-04-27

    Applicant: 江苏大学

    Abstract: 一种激光空泡空化的光电化学三维加工方法及装置,属于制造技术的特种复合加工领域。该方法利用激光束照射在溶液中工件表面产生气泡后,由于气泡溃灭形成的空泡空化作用与电化学反应复合,使得工件材料在光电化学反应作用下被去除,实现刻蚀加工,装置中由计算机控制灰度图形显示的液晶屏作为掩模板,当激光束通过该液晶掩模时,产生具有灰度特征的图像对激光光斑内能量分布进行空间调制。工件上激光辐照能量高的区域,空泡空化作用强,光电化学反应速度快,蚀除量大;能量低的区域,与之相反,从而实现三维立体图形的加工。本发明适用于导电金属材料的去除加工,通过计算机控制液晶掩模的灰度图形显示,能够显著提高复杂三维图形的加工效率。

    掩模电极的光电化学微刻蚀加工方法及装置

    公开(公告)号:CN101817108A

    公开(公告)日:2010-09-01

    申请号:CN201010132469.2

    申请日:2010-03-24

    Applicant: 江苏大学

    Abstract: 一种掩模电极的光电化学微刻蚀加工方法及装置,涉及制造技术中的微细加工领域。本发明采用的掩模电极由玻璃基板、ITO氧化铟锡层以及光刻胶掩模层构成,其中导电透光的ITO层作为电化学加工的工具电极并可透过激光束,光刻胶掩模层能够限制激光束和电化学电极的作用区域,起到光束掩模和电场掩模的双重作用。激光束透过掩模电极时将掩模图形成像在工件表面,在工件和电解液之间由于激光的辐照作用,产生冲击波的力效应使钝化层发生应力腐蚀被去除。同时在光电化学反应作用下,激光照射部位的工件材料被刻蚀去除。本发明能够有效地提高复杂图形的加工效率以及加工的微细程度和加工精度,适用于导电金属材料的微细加工。

    激光空泡空化的光电化学三维加工方法及装置

    公开(公告)号:CN101856753B

    公开(公告)日:2012-08-15

    申请号:CN201010158801.2

    申请日:2010-04-27

    Applicant: 江苏大学

    Abstract: 一种激光空泡空化的光电化学三维加工方法及装置,属于制造技术的特种复合加工领域。该方法利用激光束照射在溶液中工件表面产生气泡后,由于气泡溃灭形成的空泡空化作用与电化学反应复合,使得工件材料在光电化学反应作用下被去除,实现刻蚀加工,装置中由计算机控制灰度图形显示的液晶屏作为掩模板,当激光束通过该液晶掩模时,产生具有灰度特征的图像对激光光斑内能量分布进行空间调制。工件上激光辐照能量高的区域,空泡空化作用强,光电化学反应速度快,蚀除量大;能量低的区域,与之相反,从而实现三维立体图形的加工。本发明适用于导电金属材料的去除加工,通过计算机控制液晶掩模的灰度图形显示,能够显著提高复杂三维图形的加工效率。

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