用于处理已成像的印版的方法

    公开(公告)号:CN101229735B

    公开(公告)日:2013-05-08

    申请号:CN200710159813.5

    申请日:2007-12-20

    CPC classification number: B41C1/1083 B41P2227/70 Y10T428/263

    Abstract: 本发明涉及一种用于处理已成像的、尤其是用两亲分子或用聚合物例如糖类覆盖的印版的方法,其中,在该印版的表面上涂覆(130)液体状态的上胶物质、尤其是显微上胶物质涂层,其特征在于:在一个与直到平版印刷的液体、例如润湿剂或印刷油墨涂覆到该表面上的时间段相比短的或可忽略的时间段之后将该上胶物质去除(140)或减少,直到留下一个保留的纳米级的覆盖层。上胶物质的去除或减少优选在仍为液体的状态下、即在所涂覆的上胶物质干燥之前并且优选直接在涂覆之后进行。保留的上胶物质涂层保护印版免受污染并且提高亲水性-疏水性对比度。

    用处理液处理旋转的印版的装置和方法

    公开(公告)号:CN101348036B

    公开(公告)日:2012-10-10

    申请号:CN200810137752.7

    申请日:2008-07-18

    CPC classification number: B41F35/02 B41P2235/246 B41P2235/26

    Abstract: 一种用处理液(11)例如清洁液体、涂覆液体或者冲洗液体处理一个旋转的印刷技术的表面(3)、尤其是可重新成像的印版、的装置(10),其包括多个喷嘴(6a-6e)和一个布装置(4),这些喷嘴沿着一个基本上平行于该印刷技术的表面的旋转轴线(12)的直线(17)可摆动地设置,该布装置基本上平行于所述旋转轴线地设置,其特征在于,这些喷嘴被构造为射流喷嘴,它们分别可以绕一个基本上垂直于所述旋转轴线的摆动轴线(13)摆动。通过射流喷嘴的摆动,能够以有利的方式产生处理液的平行于所述旋转轴线的基本上均匀的分布。优选该布装置以一个布(5)运行,该布具有一些基本上平行于所述旋转轴线延伸的分段(19、25)、例如砑光部,由此处理液在布中平行于进给方向(19、25)的扩散基本上被限制并且支持该处理液的平行于所述旋转轴线的基本上均匀的分布。

    用处理液处理旋转的印刷技术的表面的装置和方法

    公开(公告)号:CN101348036A

    公开(公告)日:2009-01-21

    申请号:CN200810137752.7

    申请日:2008-07-18

    CPC classification number: B41F35/02 B41P2235/246 B41P2235/26

    Abstract: 一种用处理液(11)例如清洁液体、涂覆液体或者冲洗液体处理一个旋转的印刷技术的表面(3)、尤其是可重新成像的印版的装置(10),其包括多个喷嘴(6a-6e)和一个布装置(4),这些喷嘴沿着一个基本上平行于该印刷技术的表面的旋转轴线(12)的直线(17)可摆动地设置,该布装置基本上平行于所述旋转轴线地设置,其特征在于,这些喷嘴被构造为射流喷嘴,它们分别可以绕一个基本上垂直于所述旋转轴线的摆动轴线(13)摆动。通过射流喷嘴的摆动,能够以有利的方式产生处理液的平行于所述旋转轴线的基本上均匀的分布。优选该布装置以一个布(5)运行,该布具有一些基本上平行于所述旋转轴线延伸的分段(19、25)例如砑光部,由此处理液在布中平行于进给方向(19、25)的扩散基本上被限制并且支持该处理液的平行于所述旋转轴线的基本上均匀的分布。

    用于处理已成像的印版的方法

    公开(公告)号:CN101229735A

    公开(公告)日:2008-07-30

    申请号:CN200710159813.5

    申请日:2007-12-20

    CPC classification number: B41C1/1083 B41P2227/70 Y10T428/263

    Abstract: 本发明涉及一种用于处理已成像的、尤其是用两亲分子或用聚合物例如糖类覆盖的印版的方法,其中,在该印版的表面上涂覆(130)液体状态的上胶物质、尤其是显微上胶物质涂层,其特征在于:在一个与直到平版印刷的液体、例如润湿剂或印刷油墨涂覆到该表面上的时间段相比短的或可忽略的时间段之后将该上胶物质去除(140)或减少,直到留下一个保留的纳米级的覆盖层。上胶物质的去除或减少优选在仍为液体的状态下、即在所涂覆的上胶物质干燥之前并且优选直接在涂覆之后进行。保留的上胶物质涂层保护印版免受污染并且提高亲水性-疏水性对比度。

Patent Agency Ranking