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公开(公告)号：CN1311282C
公开(公告)日：2007-04-18
申请号：CN03157532.3
申请日：2003-09-23
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02F1/136 , H01L21/84
CPC classification number: G02F1/133553 , H01L27/1214
Abstract: 本发明的课题是提供可防止来自光反射膜的反射光的干涉且也可避免像素间的亮度不匀或晃眼现象的发生的电光装置和使用了该电光装置的电子设备。在反射型或半透射、反射型的电光装置的TFT阵列基板10中，通过在以矩阵状形成的各像素100a中分别形成下层侧凹凸形成膜13a，在光反射膜8a的表面上形成了光散射用的凹凸图形8g。在此，按每多个像素对像素100a进行分组，将其分成多个单元，构成为至少在单元内在每个像素100a中凹凸图形8g具有不同的形态。此时，例如使成为基准的像素的凹凸图形8g旋转移动而使该形态不同。
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公开(公告)号：CN100337153C
公开(公告)日：2007-09-12
申请号：CN200410000451.1
申请日：2004-01-29
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1339 , G02F1/1335
CPC classification number: G02F1/133512 , G02F1/133555 , G02F1/13394
Abstract: 遮光层70包含第一遮光层71和第二遮光层72。第一速光层71的形成覆盖扫描线2及数据线3。第二遮光层72相对突起图形10设置于摩擦方向的下游侧。突起图形10的形成使其一部或全部与数据线3重叠。第二遮光层72和第一遮光层71重叠。第二遮光层72的一部或全部可兼用作第一遮光层71，可扩大开口部的面积。
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公开(公告)号：CN101442068A
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：CN200810180928.7
申请日：2008-11-18
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: H01L27/3244 , H01L27/3223 , H01L27/3246 , H01L51/0005 , H01L2227/323
Abstract: 一种有机电致发光装置的制造方法和有机电致发光装置。该有机El装置具备配置在有效显示区域(4)的多个有效像素(P)和在设置于有效显示区域的周围的虚设区域(5)中配置的多个虚设像素(D)，其制造方法包括：在有效显示区域和虚设区域两方形成分别与多个有效像素和多个虚设像素对应的多条布线、多个开关元件和多个像素电极的工序；形成对在有效显示区域形成的像素电极(141A)和在虚设区域形成的像素电极(141B)进行共同包围的第一隔壁(122)的工序；及在由第一隔壁包围的区域配置使功能性材料溶解或分散于溶剂的液状体，使溶剂蒸发、形成功能性材料的薄膜的工序。由此，可抑制膜厚不均的发生、能显示高画质的图像。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1389752A
公开(公告)日：2003-01-08
申请号：CN02122252.5
申请日：2002-06-04
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 二村彻
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1335 , G03F7/20
CPC classification number: G02F1/133553
Abstract: 本发明的课题是,利用光刻技术,防止在透明基板上形成感光性树脂层时发生曝光异常,提供一种能显示显示品位高的图像的电光装置、电子装置、以及电光装置的制造方法。制造反射型或半透射半反射型的电光装置100的TFT阵列基板10时,涂敷了感光性树脂13后,在用吸附卡盘500保持着TFT阵列基板10的背面一侧的状态下,从TFT阵列基板的表面一侧对感光性树脂13进行曝光。这时,在感光性树脂层12的下层形成遮光膜1g,所以透过了TFT阵列基板10的光在吸附卡盘500上反射,能避免吸引孔501的痕迹等被复制在感光性树脂13上等的不良现象的发生。
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公开(公告)号：CN101442068B
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：CN200810180928.7
申请日：2008-11-18
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: H01L27/3244 , H01L27/3223 , H01L27/3246 , H01L51/0005 , H01L2227/323
Abstract: 一种有机电致发光装置的制造方法和有机电致发光装置。该有机El装置具备配置在有效显示区域(4)的多个有效像素(P)和在设置于有效显示区域的周围的虚设区域(5)中配置的多个虚设像素(D)，其制造方法包括：在有效显示区域和虚设区域两方形成分别与多个有效像素和多个虚设像素对应的多条布线、多个开关元件和多个像素电极的工序；形成对在有效显示区域形成的像素电极(141A)和在虚设区域形成的像素电极(141B)进行共同包围的第一隔壁(122)的工序；及在由第一隔壁包围的区域配置使功能性材料溶解或分散于溶剂的液状体，使溶剂蒸发、形成功能性材料的薄膜的工序。由此，可抑制膜厚不均的发生、能显示高画质的图像。
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公开(公告)号：CN1276291C
公开(公告)日：2006-09-20
申请号：CN02122252.5
申请日：2002-06-04
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 二村彻
IPC: G02F1/1333 , G03F7/20
CPC classification number: G02F1/133553
Abstract: 本发明的课题是，利用光刻技术，防止在透明基板上形成感光性树脂层时发生曝光异常，提供一种能显示显示品位高的图像的电光装置、电子装置、以及电光装置的制造方法。制造反射型或半透射半反射型的电光装置100的TFT阵列基板10时，涂敷了感光性树脂13后，在用吸附卡盘500保持着TFT阵列基板10的背面一侧的状态下，从TFT阵列基板的表面一侧对感光性树脂13进行曝光。这时，在感光性树脂层12的下层形成遮光膜1g，所以透过了TFT阵列基板10的光在吸附卡盘500上反射，能避免吸引孔501的痕迹等被复制在感光性树脂13上等的不良现象的发生。
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公开(公告)号：CN1523408A
公开(公告)日：2004-08-25
申请号：CN200410000451.1
申请日：2004-01-29
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G02F1/133512 , G02F1/133555 , G02F1/13394
Abstract: 遮光层70包含第一遮光层71和第二遮光层72。第一遮光层71的形成覆盖扫描线2及数据线3。第二遮光层72相对突起图形10设置于摩擦方向的下游侧。突起图形10的形成使其一部或全部与数据线3重叠。第二遮光层72和第一遮光层71重叠。第二遮光层72的一部或全部可兼用作第一遮光层71，可扩大开口部的面积。
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公开(公告)号：CN1493908A
公开(公告)日：2004-05-05
申请号：CN03157532.3
申请日：2003-09-23
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/137 , G02F1/1335 , G02F1/136
CPC classification number: G02F1/133553 , H01L27/1214
Abstract: 本发明的课题是提供可防止来自光反射膜的反射光的干涉且也可避免像素间的亮度不匀或晃眼现象的发生的电光装置和使用了该电光装置的电子设备。在反射型或半透射、反射型的电光装置的TFT阵列基板10中，通过在以矩阵状形成的各像素100a中分别形成下层侧凹凸形成膜13a，在光反射膜8a的表面上形成了光散射用的凹凸图形8g。在此，按每多个像素对像素100a进行分组，将其分成多个单元，构成为至少在单元内在每个像素100a中凹凸图形8g具有不同的形态。此时，例如使成为基准的像素的凹凸图形8g旋转移动而使该形态不同。
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