公开(公告)号：CN1742701B

公开(公告)日：2011-08-17

申请号：CN200510093872.8

申请日：2005-08-31

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 多田路子 ,  石井桂子 ,  七里紫阳 ,  岩濑珠实

IPC: A61K8/89 ,  A61Q5/02

CPC classification number: A61K8/898 ,  A61K8/34 ,  A61K8/362 ,  A61K8/365 ,  A61K8/86 ,  A61Q5/00 ,  A61Q5/06

Abstract: 本发明提供一种含有以下成分(A)～(C)、抗冲洗类型的毛发化妆材料及使用其处理毛发的毛发处理方法。具有：(A)有机二羧酸或其盐；(B)选自芳香族醇、N一烷基吡咯烷酮、碳酸亚烃酯、数均分子量100～1000的聚丙二醇、内酯及环酮的有机溶剂；(C)在有机聚硅氧烷部分的至少1个硅原子上，通过含有杂原子的亚烷基，结合下述通式(1)表示的重复单元构成的聚(N-酰基亚烷基亚胺)构成，且该有机聚硅氧烷部分与该聚(N-酰基亚烷基亚胺)部分的重量比为98/2～40/60、重均分子量为50,000～500,000的有机聚硅氧烷，式中，R1表示H、碳原子数1～22的烷基、环烷基、芳烷基或芳基，n表示2或3的数。

公开(公告)号：CN1742701A

公开(公告)日：2006-03-08

申请号：CN200510093872.8

申请日：2005-08-31

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 多田路子 ,  石井桂子 ,  七里紫阳 ,  岩濑珠实

IPC: A61K8/89 ,  A61Q5/02

CPC classification number: A61K8/898 ,  A61K8/34 ,  A61K8/362 ,  A61K8/365 ,  A61K8/86 ,  A61Q5/00 ,  A61Q5/06

Abstract: 本发明提供一种含有以下成分(A)～(C)、抗冲洗类型的毛发化妆材料及使用其处理毛发的毛发处理方法。具有：(A)有机二羧酸或其盐；(B)选自芳香族醇、N－烷基吡咯烷酮、碳酸亚烃酯、数均分子量100～1000的聚丙二醇、内酯及环酮的有机溶剂；(C)在有机聚硅氧烷部分的至少1个硅原子上，通过含有杂原子的亚烷基，结合下述通式(1)表示的重复单元构成的聚(N－酰基亚烷基亚胺)构成，且该有机聚硅氧烷部分与该聚(N－酰基亚烷基亚胺)部分的重量比为98/2～40/60、重均分子量为50,000～500,000的有机聚硅氧烷，式中，R1表示H、碳原子数1～22的烷基、环烷基、芳烷基或芳基，n表示2或3的数。