公开(公告)号：CN119869982A

公开(公告)日：2025-04-25

申请号：CN202411380147.8

申请日：2024-09-30

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 红谷笃史 ,  渡边翔太郎 ,  横山哲史 ,  阿部修平 ,  堀江满 ,  佐藤贵文

IPC: B08B1/12 ,  H10K71/70 ,  H01L21/67 ,  H01L21/66 ,  H01L21/02 ,  B08B1/20 ,  B08B1/36 ,  B08B3/02 ,  B08B13/00 ,  G01D21/02

Abstract: 提供通过检测清洗构件相对于基板的接触状态，能够由清洗构件良好地清洗基板，而且能够判定基板的输送状态、清洗构件的设置状态、基板清洗装置中的异常的发生的基板清洗装置和基板清洗方法。基板清洗装置(100)将被输送的玻璃板(G)的表面和背面中的至少一个面作为被清洗面进行清洗，其中，具备：基板输送装置(10)，对玻璃板(G)进行输送；圆盘刷(23)，一边旋转一边与被输送的玻璃板(G)的被清洗面接触；多个测力传感器(61)，在与玻璃板(G)的输送方向(X)交叉的宽度方向的多个部位对圆盘刷(23)施加于被清洗面的载荷进行测定；及作为检测部的控制部(71)，基于来自多个测力传感器(61)的测定数据，检测圆盘刷(23)与玻璃板(G)的接触状态，并基于检测到的接触状态，判定玻璃板(G)的输送状态、圆盘刷(23)的设置状态或基板清洗装置(100)中的异常的发生。