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    基板清洗装置和基板清洗方法
    2.
    发明公开
    基板清洗装置和基板清洗方法 审中-公开

    公开(公告)号：CN119869982A

    公开(公告)日：2025-04-25

    申请号：CN202411380147.8

    申请日：2024-09-30

    Applicant: AGC株式会社

    Inventor： 红谷笃史 ,  渡边翔太郎 ,  横山哲史 ,  阿部修平 ,  堀江满 ,  佐藤贵文

    IPC: B08B1/12 ,  H10K71/70 ,  H01L21/67 ,  H01L21/66 ,  H01L21/02 ,  B08B1/20 ,  B08B1/36 ,  B08B3/02 ,  B08B13/00 ,  G01D21/02

    Abstract: 提供通过检测清洗构件相对于基板的接触状态，能够由清洗构件良好地清洗基板，而且能够判定基板的输送状态、清洗构件的设置状态、基板清洗装置中的异常的发生的基板清洗装置和基板清洗方法。基板清洗装置(100)将被输送的玻璃板(G)的表面和背面中的至少一个面作为被清洗面进行清洗，其中，具备：基板输送装置(10)，对玻璃板(G)进行输送；圆盘刷(23)，一边旋转一边与被输送的玻璃板(G)的被清洗面接触；多个测力传感器(61)，在与玻璃板(G)的输送方向(X)交叉的宽度方向的多个部位对圆盘刷(23)施加于被清洗面的载荷进行测定；及作为检测部的控制部(71)，基于来自多个测力传感器(61)的测定数据，检测圆盘刷(23)与玻璃板(G)的接触状态，并基于检测到的接触状态，判定玻璃板(G)的输送状态、圆盘刷(23)的设置状态或基板清洗装置(100)中的异常的发生。

    玻璃板的清洗方法
    3.
    发明公开
    玻璃板的清洗方法 审中-公开

    公开(公告)号：CN118403871A

    公开(公告)日：2024-07-30

    申请号：CN202410111915.3

    申请日：2024-01-26

    Applicant: AGC株式会社

    Inventor： 横山哲史 ,  红谷笃史 ,  渡边翔太郎 ,  堀江满 ,  阿部修平

    IPC: B08B11/04 ,  B08B3/02 ,  B08B5/02 ,  B08B13/00 ,  B08B1/12 ,  B08B1/36 ,  B08B1/40

    Abstract: 提供一种玻璃板的清洗方法，能够降低附着于清洗后的玻璃基板的颗粒的量。玻璃板的清洗方法在周围被包围的处理区域内一边向从上游侧去往下游侧的搬运方向X搬运玻璃板G一边清洗玻璃板G，其中，在一般室NR侧的上游区域Anr中进行针对玻璃板G的上游侧的上游工序，在洁净室CR侧的下游区域Acr中进行针对玻璃板G的下游侧的下游工序，使洁净室CR侧的下游区域Acr的压力PAcr比一般室NR侧的上游区域Anr的压力PAnr高。

    基板清洗装置
    4.
    实用新型
    基板清洗装置 失效

    公开(公告)号：CN216175148U

    公开(公告)日：2022-04-05

    申请号：CN202122572631.9

    申请日：2021-10-25

    Applicant: AGC株式会社

    Inventor： 堀江满 ,  加藤贤太郎

    IPC: B08B11/04 ,  B08B13/00 ,  H01L21/67

    Abstract: 本实用新型涉及基板清洗装置(100)，基板清洗装置(100)将待输送的玻璃板(G)的正面和背面中的至少一个面作为被清洗面进行清洗，具备：盘刷(23)，一边旋转一边与玻璃板(G)的表面接触；框架(33)，支承盘刷(23)；及测力传感器(61)，设置于框架(33)而对施加于玻璃板(G)的表面的盘刷(23)的载荷进行测定。

    玻璃板和显示装置
    5.
    实用新型
    玻璃板和显示装置 有权

    公开(公告)号：CN208378728U

    公开(公告)日：2019-01-15

    申请号：CN201690000902.8

    申请日：2016-05-30

    Applicant: AGC株式会社

    Inventor： 堀江满 ,  伊藤正文 ,  堀雄贵

    IPC: C03C19/00 ,  B24B29/00

    Abstract: 本实用新型涉及玻璃板和显示装置。一种玻璃板，其为板厚为0.5mm～3.0mm的玻璃板，其中，所述玻璃板具有曲面，所述曲面的至少一部分中，波长25μm～500μm的频率分量的算术平均高度(Sa)为0.5nm～50nm，并且波长25μm～500μm的频率分量的算术平均波度(Wa)的最大值(Wamax)与最小值(Wamin)之比(Wamax/Wamin)为1.5以上。

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