公开(公告)号：CN111868574B

公开(公告)日：2022-11-18

申请号：CN201980020552.X

申请日：2019-03-26

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 小野健介 ,  浜田刚 ,  南贤一 ,  盐谷健一 ,  西坂拓马

IPC: G02B3/02 ,  C03C15/00 ,  C03C19/00 ,  C03C23/00 ,  F21V3/00 ,  F21V3/02 ,  F21V3/04 ,  F21V13/02 ,  G02B3/00 ,  G02B5/02 ,  F21Y115/30

Abstract: 本发明涉及一种非球面透镜的加工方法，其包括：对玻璃基板实施前处理的前处理工序、以及对实施了前述前处理的前述玻璃基板实施湿式蚀刻的蚀刻工序，前述前处理工序包括：对前述玻璃基板的某个位置照射脉冲激光而使前述玻璃基板内部的部分区域发生改性，至少在照射了前述脉冲激光的位置处沿着厚度方向发生密度分布的工序；或者，利用化学方法或物理方法，在前述玻璃基板的表面形成规定的楔形凹部的工序。

公开(公告)号：CN115685413A

公开(公告)日：2023-02-03

申请号：CN202210819691.2

申请日：2022-07-13

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 宫崎真澄 ,  浜田刚

IPC: G02B3/00 ,  G02B3/02 ,  G03B21/20

Abstract: 本发明提供一种微透镜阵列及投影装置，具有良好的截止特性并抑制了衍射亮点的产生。微透镜阵列具有：相对于使用波长透明的基材；及多个非球面透镜，形成于所述基材的第一面，所述非球面透镜的中心在与所述第一面正交的方向上处于两个以上的不同位置，在所述第一面的面内，在任意的一维方向上排列的所述非球面透镜的除了两端25％以外的区域的相对于全部间距的平均的间距偏差小于7.5％。

公开(公告)号：CN115774295A

公开(公告)日：2023-03-10

申请号：CN202211085449.3

申请日：2022-09-06

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 浜田刚 ,  田岛宏一

IPC: G02B3/00 ,  G03B21/20

Abstract: 本发明提供一种光学元件，使在投影面的光的强度适当地分布。光学元件(10)是在一个表面以矩阵状形成有多个以非球面状凹陷的透镜部(20)的透明的光学元件，透镜部(20)在非球面状的透镜面(22)包含从透镜面(22)的中心(O)朝向径向外侧的轮廓不连续的台阶部(24)，透镜面(22)的比台阶部(24)靠径向内侧的区域与透镜面的比台阶部(24)靠径向外侧的区域的圆锥常数不同。

公开(公告)号：CN111868574A

公开(公告)日：2020-10-30

申请号：CN201980020552.X

申请日：2019-03-26

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 小野健介 ,  浜田刚 ,  南贤一 ,  盐谷健一 ,  西坂拓马

IPC: G02B3/02 ,  C03C15/00 ,  C03C19/00 ,  C03C23/00 ,  F21V3/00 ,  F21V3/02 ,  F21V3/04 ,  F21V13/02 ,  G02B3/00 ,  G02B5/02 ,  F21Y115/30

Abstract: 本发明涉及一种非球面透镜的加工方法，其包括：对玻璃基板实施前处理的前处理工序、以及对实施了前述前处理的前述玻璃基板实施湿式蚀刻的蚀刻工序，前述前处理工序包括：对前述玻璃基板的某个位置照射脉冲激光而使前述玻璃基板内部的部分区域发生改性，至少在照射了前述脉冲激光的位置处沿着厚度方向发生密度分布的工序；或者，利用化学方法或物理方法，在前述玻璃基板的表面形成规定的楔形凹部的工序。