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公开(公告)号：CN102044272B
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201010299767.0
申请日：2010-09-28
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G11B7/135 , G11B7/1374 , G02B1/11
Abstract: 本发明公开了一种光学信息记录/再现光学系统和光学信息记录/再现装置。其提供了一种用于使激光束照射到光盘的记录层上的用于光盘光学信息记录/再现光学系统的物镜，其中激光束的中心波长λ(单位：nm)落在下面的条件限定的范围内：390≤λ≤420，所述物镜的基质材料由树脂构成，树脂具有通过下面的条件限定的玻璃态转变温度Tg和在406nm波长处的每3mm光程的透光率T(单位：％)：Tg≥115℃，85≤T≤90，在所述物镜的光学表面上分别形成相同的抗反射膜或不同类型的抗反射膜；以及所述物镜上的每个抗反射膜在所述物镜的光轴附近具有100nm或更高的厚度。
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公开(公告)号：CN102044273B
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201010509251.4
申请日：2010-09-29
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G11B7/1374 , G11B7/1376 , G02B13/16
CPC classification number: G11B7/1374 , G02B13/16 , G11B7/1376
Abstract: 本发明公开一种光学信息记录/再现光学系统和光学信息记录/再现设备，包括：光源；光学元件，将激光束转换为实质上准直的光束；以及物镜，其中，激光束的波长λ(单位：nm)在400＜λ＜410的范围中，光学元件和物镜由具有玻璃态转变温度Tg＞115℃的相同的树脂材料或不同树脂材料制成，每个光学表面都被配置为不具有含有钛，钽，铪，锆，铌，钼，和铬元素的至少其中之一的光学薄膜，光学元件的每个光学表面具有抗反射膜，所述抗反射膜由二氧化硅、氧化铝、氟化铝和氟化镁的其中之一或者至少两种的混合物制成，且满足下列条件：
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公开(公告)号：CN102044272A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN201010299767.0
申请日：2010-09-28
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明公开了一种光学信息记录/再现光学系统和光学信息记录/再现装置。其提供了一种用于使激光束照射到光盘的记录层上的用于光盘光学信息记录/再现光学系统的物镜，其中激光束的中心波长λ(单位：nm)落在下面的条件限定的范围内：390≤λ≤420，所述物镜的基质材料由树脂构成，树脂具有通过下面的条件限定的玻璃态转变温度Tg和在406nm波长处的每3mm光程的透光率T(单位：％)：Tg≥115℃，85≤T≤90，在所述物镜的光学表面上分别形成相同的抗反射膜或不同类型的抗反射膜；以及所述物镜上的每个抗反射膜在所述物镜的光轴附近具有100nm或更高的厚度。
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公开(公告)号：CN102044273A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN201010509251.4
申请日：2010-09-29
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B7/1374 , G02B13/16 , G11B7/1376
Abstract: 本发明公开一种光学信息记录/再现光学系统和光学信息记录/再现设备，包括：光源；光学元件，将激光束转换为实质上准直的光束；以及物镜，其中，激光束的波长λ(单位：nm)在400＜λ＜410的范围中，光学元件和物镜由具有玻璃态转变温度Tg＞115℃的相同的树脂材料或不同树脂材料制成，每个光学表面都被配置为不具有含有钛，钽，铪，锆，铌，钼，和铬元素的至少其中之一的光学薄膜，光学元件的每个光学表面具有抗反射膜，所述抗反射膜由二氧化硅、氧化铝、氟化铝和氟化镁的其中之一或者至少两种的混合物制成，且满足下列条件：
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公开(公告)号：CN102034502A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN201010299732.7
申请日：2010-09-28
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B7/1374 , G02B13/16 , G11B7/1353 , G11B7/1376
Abstract: 本发明公开了一种光学信息记录/再现光学系统和光学信息记录/再现装置，其中树脂材料的Tg＞115℃，在物镜的光盘侧以及光学元件的表面上分别形成第一膜、第二膜和第三膜，物镜的光源侧具有包括不含钛的四层或更多层的第四膜，第一膜、第二膜和第三膜中的每一个包括由二氧化硅、氧化铝、氟化铝和氟化镁中的其中之一或它们中的至少两种的混合物制成的非高折射率层，第一膜、第二膜和第三膜中的每一个不由Ti，Ta，Hf，Zr，Nb，Mo和Cr的其中之一制成，第四膜的最接近基质材料的层是非高折射率层。第四膜满足350＜λmax(2)＜420和600＜λmin(2)＜750，且其反射率单调下降。
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