公开(公告)号：CN1347939A

公开(公告)日：2002-05-08

申请号：CN01130347.6

申请日：2001-09-30

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 大屿升 ,  丸山洋一郎 ,  坂部延行 ,  泽田克敏 ,  大喜多健三 ,  桥口裕一 ,  金森太郎 ,  河原弘二

IPC: C08L45/00 ,  C08J5/18 ,  C08K5/54

CPC classification number: C08G61/08

Abstract: 公开了一种组合物,它包括一种环烯烃的加成共聚物,含有由下述结构式(1)和(2)所示的重复单元,和至少一种选自下述化合物的化合物:(A)一种在加热到50℃或更高温度时可用作酸的化合物,(B)一种选自烷氧基化合物、芳氧基化合物、羰基化合物、β－二酮化合物、卤素化合物或氧化物的金属化合物,和(C)一种选自于下述物质组成的组中的化合物:有机羧酸、有机磷酸、有机磺酸、氨、伯胺至叔胺化合物和季铵盐氢氧化物。所述组合物具有优良的光学透明性、耐溶剂性能、尺寸稳定性性、耐热性、粘着到金属和无积材料上的粘着性,它适合用于光学透明材料和电子元件,可经由硅氧烷键通过交联所述组合物获得一种交联产品,并可由所述组合物制得薄膜、薄片或涂层。

公开(公告)号：CN100492597C

公开(公告)日：2009-05-27

申请号：CN03140681.5

申请日：2003-06-03

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 川桥信夫 ,  长谷川亨 ,  志保浩司 ,  河村知男 ,  河原弘二 ,  保坂幸生

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/04

CPC classification number: B24B37/26

Abstract: 本发明目的在于提供能有效抑制擦伤发生的抛光垫和多层抛光垫。本发明的抛光垫，其特征在于其中具有在抛光面侧形成的、且从呈环状、格状和螺旋状中选出至少一种形状的沟(a)、凹部(b)和贯穿抛光垫表里的通孔(c)中的至少一个部位，该部位内表面的表面粗糙度(Ra)处于20μm以下，用于化学机械抛光。

公开(公告)号：CN100478391C

公开(公告)日：2009-04-15

申请号：CN01130347.6

申请日：2001-09-30

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 大屿升 ,  丸山洋一郎 ,  坂部延行 ,  泽田克敏 ,  大喜多健三 ,  桥口裕一 ,  金森太郎 ,  河原弘二

IPC: C08L45/00 ,  C08J5/18 ,  C08K5/54 ,  C08G61/08 ,  C08F32/08

CPC classification number: C08G61/08

Abstract: 公开了一种组合物，它包括一种环烯烃的加成共聚物，含有由下述结构式(1)和(2)所示的重复单元，右式和至少一种选自下述化合物的化合物：(A)一种在加热到50℃或更高温度时可用作酸的化合物，(B)一种选自烷氧基化合物、芳氧基化合物、羰基化合物、β-二酮化合物、卤素化合物或氧化物的金属化合物，和(C)一种选自于下述物质组成的组中的化合物：有机羧酸、有机磷酸、有机磺酸、氨、伯胺至叔胺化合物和季铵盐氢氧化物。所述组合物具有优良的光学透明性、耐溶剂性能、尺寸稳定性性、耐热性、粘着到金属和无机材料上的粘着性，它适合用于光学透明材料和电子元件，可经由硅氧烷键通过交联所述组合物获得一种交联产品，并可由所述组合物制得薄膜、薄片或涂层。

公开(公告)号：CN100410017C

公开(公告)日：2008-08-13

申请号：CN200510054230.7

申请日：2005-02-05

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 冈本隆浩 ,  宫内裕之 ,  河原弘二 ,  志保浩司 ,  长谷川亨 ,  川桥信夫

IPC: B24D3/22 ,  C08J5/00 ,  B24B37/00 ,  H01L21/304

Abstract: 一种化学机械抛光垫，包含由(A)苯乙烯聚合物和(B)二烯聚合物构成的非水溶性基质。上述化学机械抛光垫的制造方法，其特征在于制备含有(A)苯乙烯聚合物、(B)二烯聚合物和(C)交联剂的组合物，将上述组合物成形为预定的形状，并在成形的同时或者成形后加热使其固化，以及一种化学机械抛光方法，其特征在于通过上述化学机械抛光垫对被抛光物的被抛光面进行抛光。根据本发明，可以提供一种化学机械抛光垫，其能够优选适用于金属膜的抛光或绝缘膜的抛光、特别是STI技术，在得到平坦的被抛光面的同时，还能达到较高的抛光速度，且具有足够长的寿命。

公开(公告)号：CN1701919A

公开(公告)日：2005-11-30

申请号：CN200510072918.8

申请日：2005-05-24

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 河原弘二 ,  长谷川亨 ,  樱井富士夫

IPC: B24B37/04 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/26

Abstract: 本发明提供一种化学机械研磨用垫，其适合应用在金属膜的研磨及绝缘膜的研磨中，可以得到平坦的研磨面，同时可以有效地除去浆料，具有足够长的寿命，可以提供高的研磨速度，且具有降低刮痕的效果。所述研磨垫的特征在于，在研磨面上具有槽，该槽设置在研磨面上，使自研磨面的中心部向周边部的一条假想直线和槽形成多次交叉，槽宽在0.1～1.5mm的范围，槽深在0.9～9.8mm的范围，与上述假想直线交叉的邻接交叉点间的最小距离在0.3～2.0mm的范围，并且上述槽深相对该研磨垫的厚度的比值为1/7～1/1.1的范围。

公开(公告)号：CN1654169A

公开(公告)日：2005-08-17

申请号：CN200510054230.7

申请日：2005-02-05

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 冈本隆浩 ,  宫内裕之 ,  河原弘二 ,  志保浩司 ,  长谷川亨 ,  川桥信夫

IPC: B24D3/22 ,  C08J5/00 ,  B24B37/00 ,  H01L21/304

Abstract: 一种化学机械抛光垫，包含由(A)苯乙烯聚合物和(B)二烯聚合物构成的非水溶性基质。上述化学机械抛光垫的制造方法，其特征在于制备含有(A)苯乙烯聚合物、(B)二烯聚合物和(C)交联剂的组合物，将上述组合物成形为预定的形状，并在成形的同时或者成形后加热使其固化，以及一种化学机械抛光方法，其特征在于通过上述化学机械抛光垫对被抛光物的被抛光面进行抛光。根据本发明，可以提供一种化学机械抛光垫，其能够优选适用于金属膜的抛光或绝缘膜的抛光、特别是STI技术，在得到平坦的被抛光面的同时，还能达到较高的抛光速度，且具有足够长的寿命。

公开(公告)号：CN1494983A

公开(公告)日：2004-05-12

申请号：CN03140681.5

申请日：2003-06-03

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 川桥信夫 ,  长谷川亨 ,  志保浩司 ,  河村知男 ,  河原弘二 ,  保坂幸生

IPC: B24B37/00 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/26

Abstract: 本发明目的在于提供能有效抑制擦伤发生的抛光垫和多层抛光垫。本发明的抛光垫，其特征在于其中具有在抛光面侧形成的、且从呈环状、格状和螺旋状中选出至少一种形状的沟(a)、凹部(b)和贯穿抛光垫表里的通孔(c)中的至少一个部位，该部位内表面的表面粗糙度(Ra)处于20μm以下，用于化学机械抛光。