电极制造方法以及电极制造装置

    公开(公告)号:CN101685854A

    公开(公告)日:2010-03-31

    申请号:CN200910175623.1

    申请日:2009-09-24

    Abstract: 本发明提供一种电极制造方法,该方法对在表面上具有突起物的薄片,能够均匀地涂布涂布液。根据借助于电极制造装置(100)的电极制造方法,具有:倾斜工序,通过挤压集电体薄片(2A)的表面,其中,所述集电体薄片(2A)具有从在一定方向上被传送的表面延伸至外面的突起部(4a),从而使该突起部(4a)在与集电体薄片(2A)的一定方向相反的方向上倾斜;和涂布工序,对通过倾斜工序使突起部倾斜并且在上述一定方向上被传送的集电体薄片(2A),由狭缝口模(12)来涂布涂布液(3A)。通过挤压集电体薄片(2A)的表面,使薄片表面的突起部(4a)在与传送方向相反的方向上倾斜之后,在该表面上涂布涂布液(3A)。因此,对集电体薄片(2A)能够均匀地涂布涂布液(3A)。

    阳极以及锂离子二次电池

    公开(公告)号:CN101276900A

    公开(公告)日:2008-10-01

    申请号:CN200810086923.8

    申请日:2008-03-28

    Abstract: 本发明提供一种能够形成实现高容量化(电极的高密度化)同时能够充分确保安全性(抑制枝晶)且具有高速率放电特性的锂离子二次电池的锂离子二次电池用的阳极。本发明的阳极是具备集电体和形成于该集电体上的活性物质含有层的锂离子二次电池用的阳极,上述活性物质含有层由配置在离所述集电体最远的一侧的最表面层和由配置于该最表面层与上述集电体之间的1个以上的层形成的下侧层构成,上述最表面层的弯曲度比上述下侧层的弯曲度小。

    液体涂布装置以及涂布方法

    公开(公告)号:CN101844125B

    公开(公告)日:2012-12-19

    申请号:CN201010147484.4

    申请日:2010-03-25

    Abstract: 本发明涉及液体涂布装置及涂布方法。该装置具备引导被涂布薄片(S)的导向辊(6)、从开口(24)将液体涂布于被涂布薄片(S)表面的狭缝口模(20)。狭缝口模(20)具有在导向辊(6)旋转方向上分离且在开口(24)合流的上层用流路(23a)和下层用流路(23b)。垂直于导向辊(6)轴(6a)的截面上,上层用流路(23a)中心线(23aa)与下层用流路(23b)中心线(23bb)成角(α)为0.5~25°,上层用流路(23a)中心线(23aa)及下层用流路(23b)中心线(23bb)交点(23x)和导向辊(6)轴(6a)的连接线(23xx)与上层用流路(23a)中心线(23aa)所成角(β)从该连接线朝向上层用流路中心线而与导向辊旋转方向相反的方向上测定为0~70°,两流路(23a,23b)合流点(23e)与开口(24)的距离(γ)为0.05~2.8mm。

    阳极以及锂离子二次电池

    公开(公告)号:CN101276900B

    公开(公告)日:2011-12-21

    申请号:CN200810086923.8

    申请日:2008-03-28

    Abstract: 本发明提供一种能够形成实现高容量化(电极的高密度化)同时能够充分确保安全性(抑制枝晶)且具有高速率放电特性的锂离子二次电池的锂离子二次电池用的阳极。本发明的阳极是具备集电体和形成于该集电体上的活性物质含有层的锂离子二次电池用的阳极,上述活性物质含有层由配置在离所述集电体最远的一侧的最表面层和由配置于该最表面层与上述集电体之间的1个以上的层形成的下侧层构成,上述最表面层的弯曲度比上述下侧层的弯曲度小。

    液体涂布装置
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101314157B

    公开(公告)日:2011-08-24

    申请号:CN200810109812.4

    申请日:2008-05-30

    CPC classification number: B05C5/0254

    Abstract: 本发明提供一种液体涂布装置。该液体涂布装置具有引导被涂布薄片(S)的引导辊(6)和缝模(20),缝模(20)将液体涂布于被引导辊(6)引导的被涂布薄片(S)的表面,该缝模(20)具有缝隙(23),该缝隙(23)具有沿引导辊(6)的轴方向延伸的开口(24)。缝模(20)在引导辊(6)的旋转方向(RD)上的开口(24)的后侧,还具有成为与引导辊(6)对应的凹面的前缘部(27),在引导辊(6)的旋转方向(RD)上,前缘部(27)与引导辊(6)相对的部分的长度(FA)被设定为,以引导辊(6)的轴(O)为中心的中心角(θ)为0.95~3.0°。

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