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公开(公告)号：CN112684677A
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN202110270751.5
申请日：2021-03-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构及其制备方法。所述制备方法包括：提供三维模型图；将所述三维模型图在高度方向上进行划分，获得至少一个高度区间；将三维模型图在平面上进行投影得到映射关系，映射关系包括三维模型图上每个点对应在平面上的坐标，三维模型图上每个点的高度对应高度区间里的高度值，根据所述映射关系，将映射关系与曝光剂量进行对应，基于所述曝光剂量进行光刻。这样，可以得到任意三维微纳形貌结构。
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公开(公告)号：CN112269271A
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：CN202011536267.4
申请日：2020-12-23
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B30/27
Abstract: 本发明提供一种裸眼三维显示装置，其包括：显示部件，其包括由多个显示单元阵列排布而成的显示单元阵列；和，视角调控器件，其包括由多个视角调控单元阵列排布而成的视角调控单元阵列，其中每个视角调控单元与多个显示单元相对应，所述显示单元被分为多组，每组显示单元发出的光线通过视角调控器件被汇聚为一个视角，不同组显示单元发出的光线通过视角调控器件被汇聚为不同视角，每组显示单元中的各个显示单元对应不同视角调控单元，每个视角调控单元对应的多个显示单元被分到不同组中。这样，可以实现在不同的视角下观看到的不同的三维显示效果，可再现全视差图像。
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公开(公告)号：CN112255820A
公开(公告)日：2021-01-22
申请号：CN202011513541.6
申请日：2020-12-21
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B30/27
Abstract: 本发明提供一种裸眼三维显示装置，其包括：显示部件，其包括由多个显示单元阵列排布而成的显示单元阵列；视角调控器件，其包括由多个谐衍射透镜子单元阵列排布而成的谐衍射透镜阵列，其中每个谐衍射透镜子单元与一个显示单元相对应，所述谐衍射透镜阵列的谐衍射透镜子单元被分成多组，同一组谐衍射透镜子单元射出的光线会汇聚成同一个视点，不同组谐衍射透镜子单元射出的光线会汇聚成的不同视点。这样，不仅可以实现在不同的视角下观看到的不同的三维显示效果，还可以提高光的利用效率。
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公开(公告)号：CN107908086B
公开(公告)日：2021-01-22
申请号：CN201711122043.7
申请日：2017-11-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明涉及一种基片的预对准方法，该基片的预对准方法通过在基片上投影一幅特征图像和测距图像来确定边缘上边缘点的坐标，并根据边缘点坐标来计算基片的倾斜角度和基片中心坐标，最后通过移动工件台来使基片中心坐标和成像中心坐标对准，实现快速高效高精度的预对准工作。与现有技术相比该基片的预对准方法有着无需增加现有直写设备硬件成本、步骤简单、预对准精度高的优势。
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公开(公告)号：CN112132948A
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN201910490271.2
申请日：2019-06-06
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开一种图像处理方法，该方法的具体步骤包括：S1：建成灰度模型图；S2：计算灰度模型图X方向的扫描线的集合；S3：计算X轴扫描线集合中每一条扫描线与灰度模型图的所有交点的坐标，并分组；S4：计算扫描线集合中相应区间的每一条扫描线的每一组交点内的所有像素点的物理高度；S5：转换各区间所有像素点的灰度值得到灰度位图。本发明还公开一种图像处理装置，设有上述图像处理方法；本发明还公开本发明还公开一种光刻系统，包括执行上述图像处理方法；本发明还公开一种计算机可读存储介质，包括储存上述图像处理方法。通过计算图像中每个像素点的灰度值，可以实现任一幅面具有立体浮雕效果的结构的图像处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111290217A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN201811489966.0
申请日：2018-12-06
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种用于光刻基片的承载台，包括基片承载部件，基片承载部件包括至少一个用于放置基片的放置区，放置区一侧设有至少两个标识放置结构，用于放置对位标识元件。本发明还公开一种光刻机，包括上述承载台、用于连接该承载台的工作台，工作台包括固定平台、调节转台，调节转台底部连接固定平台，调节转台顶部连接上述用于光刻基片的承载台，用于调节上述承载台上基片的角度。本发明还公开一种基片光刻方法，通过上述光刻机光刻放置在上述承载台上基片的正方两面。通过标识放置结构，使带有标识的元件可以重复使用，无需在每块待刻的基片上写入对位标识，简化了制作流程，节约了成本。
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公开(公告)号：CN111123608A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201811292758.1
申请日：2018-11-01
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学 , 苏州工业园区中为柔性光电子智能制造研究院有限公司
Abstract: 本发明涉及一种电致变色显示面板，包括依次设置的第一基板、电致变色像素阵列和第二基板，电致变色像素阵列包括电致变色单元，电致变色单元包括黑色结构层和彩色结构层，黑色结构层包括依次设置的第一电极、黑色电致变色像素层和第二电极，彩色结构层包括横向排布的RGB结构单元或RGBW结构单元；其中，第一电极具有与第二电极相对的第一相对面，第二电极具有与第一电极相对的第二相对面，第一相对面和/或第二相对面上设有不平整面。该电致变色显示面板及电子纸既能显示黑色，又能显示其他颜色，其显示颜色丰富，并在电极上设有不平整面，使两电极之间的电场的分布更均匀，从而加强其导电性效果、加快变色层的变色效果，且结构简单，易于制备。
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公开(公告)号：CN111123602A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201811292766.6
申请日：2018-11-01
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学 , 苏州工业园区中为柔性光电子智能制造研究院有限公司
Abstract: 本发明涉及一种电致变色显示面板及电子纸，包括依次设置的第一基板、电致变色像素阵列和第二基板，电致变色像素阵列包括若干阵列排布，独立控制的电致变色单元，电致变色单元包括黑色结构层和彩色结构层，第一电极具有与第二电极相对的第一相对面，第二电极具有与第一电极相对的第二相对面，第一相对面和/或第二相对面上设有不平整面。该电致变色显示面板及电子纸既能显示黑色，又能显示其他颜色，其显示颜色丰富，并在电致变色像素阵列中的电极上设有不平整面，使两电极之间的电场的分布更均匀，从而加强其导电性效果、加快变色层的变色效果，且结构简单，易于制备，节约了生产成本、提高了产品质量。
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公开(公告)号：CN110795968A
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201810869947.4
申请日：2018-08-02
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G06K9/00
Abstract: 本发明涉及生物特征识别技术，特别涉及用于获取指纹图像的装置。按照本发明一个方面的用于获取指纹图像的装置包含：第一光波导；设置于所述第一光波导下方的光源单元，其配置为提供以一定角度入射到所述第一光波导的平行光束，所述角度设定为当所述第一光波导的上表面未有物体覆盖时，使得所述平行光束在所述第一光波导内不满足全反射条件；设置于所述第一光波导表面的第一光耦合输出单元，其配置为当所述第一光波导的上表面有物体覆盖时，将所述第一光波导内发生全反射的光束引导到所述第一光波导外部并进行成像；以及设置于所述第一光耦合输出单元的成像位置处的图像接收单元。
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公开(公告)号：CN110531528A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201810560635.5
申请日：2018-05-25
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/22
Abstract: 本发明涉及显示技术，特别涉及用于实现裸眼三维图像的多视角显示的装置。按照本发明一个方面的三维显示装置，其特征在于，包含：光源模组，其配置为发出第一光束；位于所述第一光束传播方向上的空间光调制器，其配置为通过振幅调制方式将多视角混合图像信息加载到所述第一光束上以形成第二光束；以及位于所述第二光束传播方向上的位相板，其具有衍射结构，所述衍射结构配置为将所述第二光束所承载图像中的不同视角的图像投射至各自对应的多个观察位置。
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