放射线敏感性树脂组合物、间隔、及其形成方法以及液晶显示元件

    公开(公告)号:CN1696827A

    公开(公告)日:2005-11-16

    申请号:CN200510069112.3

    申请日:2005-05-10

    Abstract: 本发明提供可形成在高感光度下可以忠实再现掩膜图案的设计尺寸,且与基片的粘合性优异,在1500J/m2或以下的曝光量下也可以得到足够的间隔和膜厚,解决了在显影液中光聚合引发剂的析出问题,另外强度,耐热性等也优异的液晶显示元件用间隔的放射线敏感性树脂组合物。通过放射线敏感性树脂组合物实现,其特征在于该组合物是含有[A](a1)乙烯性不饱和羧酸和/或乙烯性不饱和羧酸酐和(a2)含有环氧基的乙烯性不饱和化合物和(a3)其它乙烯性不饱和化合物的共聚物,[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物,以及[C]光聚合物引发剂的感光性组合物,且[C]光聚合引发剂的含量相对于100重量份[B]为0.1~5重量份。

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