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公开(公告)号：CN202685548U
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN201120548597.5
申请日：2011-12-23
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 佐佐木恒之
CPC classification number: B41J11/002 , B41J11/06
Abstract: 本实用新型提供一种流体喷射装置，该流体喷射装置采用了如下结构，即，具有：记录头，其向记录介质喷射流体；支承部件，其对所述记录介质进行支承；加热装置，其对所述支承部件进行加热，并且，所述支承部件的、对所述记录介质进行支承的支承面具备表面处理层，该表面处理层具有0.85以上的辐射率。
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