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公开(公告)号:CN101115559A
公开(公告)日:2008-01-30
申请号:CN200680004384.8
申请日:2006-02-14
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: B01J35/02 , B01J21/08 , B01J37/08 , C09D185/00 , C09D201/00
CPC classification number: B01J21/08 , B01J21/063 , B01J35/004 , B01J35/10 , B01J35/1019 , B01J37/0215 , Y10T428/2993
Abstract: 本发明提供一种光催化剂,所述光催化剂包含具有光催化剂活性的基体和被覆该基体的实质上无细孔的氧化硅膜,碱金属的含量为1ppm以上1000ppm以下。另外,本发明还提供一种光催化剂的制造方法作为所述光催化剂的制造方法,即,使用硅酸盐,在存在于水性介质中的具有光催化剂活性的基体上被覆氧化硅膜,此时将含有具有光催化剂活性的基体和硅酸盐二者的水性介质的pH维持在5以下。