公开(公告)号：CN105131272A

公开(公告)日：2015-12-09

申请号：CN201510582273.6

申请日：2009-01-06

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 的石香 ,  中塚史朗 ,  永井直 ,  高木斗志彦 ,  福本晴彦 ,  中山德夫

IPC: C08G65/26 ,  A61K8/04 ,  A61K8/86 ,  C08F8/00 ,  C08L71/02 ,  C09D7/12 ,  C09D11/102 ,  C09D171/02

CPC classification number: C09D123/36 ,  A61K8/0241 ,  A61K8/86 ,  A61K2800/654 ,  A61Q5/02 ,  A61Q19/10 ,  C08F8/00 ,  C08G65/2609 ,  C08G65/2624 ,  C08G65/2648 ,  C08K3/34 ,  C08K5/057 ,  C08L71/02 ,  C08L2205/05 ,  C09D1/00 ,  C09D5/02 ,  C09D7/65 ,  C09D7/67 ,  C09D11/106 ,  C09D123/06 ,  C09D123/10 ,  C09D171/02 ,  Y10T428/2982 ,  Y10T428/31855 ,  C08F10/00

Abstract: 本发明涉及新型聚合物粒子及其用途。本发明提供一种包含下述通式(1)表示的数均分子量为2.5×104以下的末端支化共聚物的聚合物粒子，末端支化共聚物的聚烯烃链部分的熔点为80℃以上，所述粒子的50％体积平均粒径为1nm～100nm。通式(1)中，A表示聚烯烃链；R1和R2表示氢原子或碳原子数1～18的烷基，至少其中任一方是氢原子；X1和X2相同或者不同，表示直链或者支链的聚亚烷基二醇基。

公开(公告)号：CN102470637A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201080032100.2

申请日：2010-07-12

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 高木斗志彦 ,  福本晴彦

IPC: B32B9/00 ,  B32B27/00

Abstract: 根据本发明，提供一种层合体及其制造方法，所述层合体包括基材和形成于上述基材上的含硅膜，上述含硅膜具有由硅原子和氮原子形成的、或者由硅原子、氮原子和氧原子形成的氮高浓度区域，上述氮高浓度区域如下形成：在实质上不含氧或水蒸气的气氛下，对形成于基材上的聚硅氮烷膜进行能量线照射，将该膜的至少一部分改性。

公开(公告)号：CN101589121B

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN200780049997.8

申请日：2007-01-16

Applicant: 三井化学株式会社 ,  新加坡科技研究局

Inventor： 中山德夫 ,  高木斗志彦 ,  何超斌 ,  妙钦伊 ,  肖杨

IPC: C09D163/00 ,  G02B1/04 ,  C09D183/00

CPC classification number: C09D183/06 ,  C08G18/3876 ,  C08G18/7642 ,  C08K5/5435 ,  C08L63/00 ,  C08L83/02 ,  C08L2666/44 ,  C08L2666/02 ,  C08L2666/14

Abstract: 本发明提供一种硬涂层组合物，所述硬涂层组合物至少含有下述成分(A)～(E)。成分(A)：由链状脂肪族多元醇或链状脂肪族聚醚型多元醇衍生得到的聚(甲基)缩水甘油醚化合物，所述聚(甲基)缩水甘油醚化合物可以具有或不具有羟基；成分(B)：具有阳离子聚合性基团的硅倍半氧烷化合物；成分(C)：硅酸酯化合物；成分(D)：具有阳离子聚合性基团的硅烷化合物或其经部分缩合后的化合物或它们的混合物；成分(E)：阳离子光聚合引发剂。成分(A)～(D)的总量100重量份中，成分(A)为5～40重量份，成分(B)+成分(C)+成分(D)的总量为60～95重量份，相对于成分(A)～(D)的总量100重量份的成分(E)为0.1～10重量份。

公开(公告)号：CN101171297B

公开(公告)日：2012-04-25

申请号：CN200680015616.X

申请日：2006-05-23

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 西浦克典 ,  福田和幸 ,  高木斗志彦

IPC: C08L29/04 ,  B32B27/28 ,  B32B27/30 ,  C08L33/02 ,  C09D1/00 ,  C09D101/00 ,  C09D105/00 ,  C09D123/08 ,  C09D129/04 ,  C09D133/02

CPC classification number: C09D129/04 ,  B32B27/08 ,  B32B27/28 ,  C08J7/047 ,  C08J2369/00 ,  C08J2429/00 ,  C08K5/3155 ,  C08K5/5415 ,  C08K2201/008 ,  C08L29/04 ,  C08L29/06 ,  C08L33/02 ,  C08L2312/08 ,  C08L2666/04 ,  C09J133/06

Abstract: 本发明提供一种能够制造具有高湿度下的气体隔离性及高耐划痕性的树脂膜的气体隔离性组合物、及将该气体隔离性组合物的膜状物进行热处理形成的涂膜及其制造方法。本发明提供一种气体隔离性组合物及通过将该气体隔离性组合物的膜状物热处理得到的涂膜，所述气体隔离性组合物含有具有羟基的水溶性高分子(A)、具有羧基的水溶性高分子(B)、金属醇盐及/或其水解缩合物(C)及酯化催化剂(E)，(A)和(B)的重量比为97/3至3/97，相对于100重量份(A)和(B)的混合物，含有1重量份以上400重量份以下(C)成分，含有0.01重量份以上100重量份以下(E)成分。

公开(公告)号：CN104379340B

公开(公告)日：2016-06-15

申请号：CN201380026125.5

申请日：2013-07-03

Applicant: 三井化学株式会社 ,  三井化学东赛璐株式会社

Inventor： 福本晴彦 ,  小田川健二 ,  臼井英夫 ,  高桥英一 ,  高木斗志彦 ,  高野雅子 ,  中村修 ,  进藤清孝

IPC: B32B27/08 ,  B32B27/28 ,  H01L31/048 ,  B32B37/18

Abstract: 本发明涉及的层叠体包括基材(A)、在基材(A)的至少一个面上依次层叠的含硅层(B)、和由具有聚合性基团的有机酸金属盐得到的聚合物层(C)，含硅层(B)具有含有硅原子和氮原子、或硅原子和氮原子和氧原子、或硅原子和氮原子和氧原子和碳原子的氮高浓度区域，上述氮高浓度区域是通过在氧浓度为5％以下及/或室温23℃下的相对湿度为30％以下的条件下，对在基材(A)上形成的聚硅氮烷膜进行能量射线照射，将该膜的至少一部分改性而形成的。

公开(公告)号：CN104379340A

公开(公告)日：2015-02-25

申请号：CN201380026125.5

申请日：2013-07-03

Applicant: 三井化学株式会社 ,  三井化学东赛璐株式会社

Inventor： 福本晴彦 ,  小田川健二 ,  臼井英夫 ,  高桥英一 ,  高木斗志彦 ,  高野雅子 ,  中村修 ,  进藤清孝

IPC: B32B9/00 ,  B32B27/00 ,  B32B37/00 ,  H01L31/048

Abstract: 本发明涉及的层叠体包括基材(A)、在基材(A)的至少一个面上依次层叠的含硅层(B)、和由具有聚合性基团的有机酸金属盐得到的聚合物层(C)，含硅层(B)具有含有硅原子和氮原子、或硅原子和氮原子和氧原子、或硅原子和氮原子和氧原子和碳原子的氮高浓度区域，上述氮高浓度区域是通过在氧浓度为5％以下及/或室温23℃下的相对湿度为30％以下的条件下，对在基材(A)上形成的聚硅氮烷膜进行能量射线照射，将该膜的至少一部分改性而形成的。

公开(公告)号：CN102348641B

公开(公告)日：2014-03-19

申请号：CN201080011555.6

申请日：2010-03-12

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 中山德夫 ,  高木斗志彦 ,  福本晴彦 ,  的石香 ,  中塚史朗 ,  永井直 ,  高桥英一 ,  榎本友纪子

IPC: C01B37/00 ,  H01B3/00 ,  H01L31/04 ,  H01M4/48 ,  H01M4/62 ,  H01M14/00

CPC classification number: C01B37/00 ,  H01G9/2031 ,  H01M4/48 ,  H01M4/62 ,  H01M14/005 ,  Y02E10/542 ,  Y02P70/521

Abstract: 一种金属氧化物多孔质体，其特征在于，通过以下方式得到：在下述通式(1)所表示的数均分子量为2.5×104以下的末端支化型共聚物粒子的存在下，通过金属醇盐和/或其部分水解缩合物的溶胶-凝胶反应而得到有机无机复合物，并从所述有机无机复合物中除去前述末端支化型共聚物粒子。

公开(公告)号：CN102007185B

公开(公告)日：2013-04-24

申请号：CN200980113367.1

申请日：2009-04-16

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 西浦克典 ,  高木斗志彦

IPC: C08L101/14 ,  B32B9/00 ,  B32B27/30 ,  C08K3/00 ,  C08K3/22 ,  C08K5/00 ,  C08K5/057 ,  C08K5/544 ,  C08L1/00 ,  C08L3/00 ,  C08L29/04 ,  C08L33/02 ,  C09D7/12 ,  C09D201/06

CPC classification number: C08L29/04 ,  B32B2307/7244 ,  C08K3/22 ,  C08K5/057 ,  C08K5/544 ,  C08K2201/008 ,  C08L33/02 ,  C09D1/04 ,  C09D7/61 ,  C09D7/67 ,  C09D133/066 ,  Y10T428/31663 ,  C08L2666/04

Abstract: 本发明的气体隔离性组合物含有下述(i)及(ii)中的至少一方，并且含有金属醇盐及/或其水解缩合物(C)和酯化催化剂(E)，所述(i)为具有羟基的水溶性高分子(A)与具有羧基的水溶性高分子(B)的混合物，所述(ii)为具有羟基和羧基的水溶性高分子(AB)，相对于100重量份所述水溶性高分子，含有460重量份以上2700重量份以下的所述(C)成分及0.01重量份以上100重量份以下的所述(E)成分。

公开(公告)号：CN101400492B

公开(公告)日：2012-07-25

申请号：CN200780008981.2

申请日：2007-03-19

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 西野文晃 ,  西浦克典 ,  福田和幸 ,  高木斗志彦 ,  宫下武博

IPC: B29C41/12 ,  C08J5/18 ,  C08K3/22 ,  C08L101/00 ,  G02B5/02 ,  C01B33/18 ,  B29L11/00 ,  B29L7/00 ,  B29K105/16

CPC classification number: G02B5/0278 ,  C03C17/008 ,  C03C2218/113 ,  G02B5/0242 ,  Y10T428/24355

Abstract: 本发明提供一种光学膜的制造方法以及光学膜，该光学膜为薄膜，并且具有高的光线透过率与光扩散性，该光学膜包含透明树脂与金属氧化物。具体来讲，本发明涉及的光学膜的制造方法包括：(A)将通过溶胶-凝胶反应生成金属氧化物的金属化合物，在溶剂中进行溶胶-凝胶反应的工序；(B)准备以透明树脂为溶质的溶液的工序；(C)将在所述(A)工序中得到的混合物与在(B)工序中得到的溶液进行混合的工序；以及(D)将在所述(C)工序中得到的混合物在基板或容器上涂布或者展开后，进行加热使溶剂蒸发来形成膜的工序，该光学膜的全光线透过率为70％以上，且雾度值为20％以上。

公开(公告)号：CN101400492A

公开(公告)日：2009-04-01

申请号：CN200780008981.2

申请日：2007-03-19

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 西野文晃 ,  西浦克典 ,  福田和幸 ,  高木斗志彦 ,  宫下武博

IPC: B29C41/12 ,  C08J5/18 ,  C08K3/22 ,  C08L101/00 ,  G02B5/02 ,  B29K105/16 ,  B29L7/00 ,  B29L11/00 ,  C01B33/18

CPC classification number: G02B5/0278 ,  C03C17/008 ,  C03C2218/113 ,  G02B5/0242 ,  Y10T428/24355

Abstract: 本发明提供一种光学膜的制造方法以及光学膜，该光学膜为薄膜，并且具有高的光线透过率与光扩散性，该光学膜包含透明树脂与金属氧化物。具体来讲，本发明涉及的光学膜的制造方法包括：(A)将通过溶胶－凝胶反应生成金属氧化物的金属化合物，在溶剂中进行溶胶－凝胶反应的工序；(B)准备以透明树脂为溶质的溶液的工序；(C)将在所述(A)工序中得到的混合物与在(B)工序中得到的溶液进行混合的工序；以及(D)将在所述(C)工序中得到的混合物在基板或容器上涂布或者展开后，进行加热使溶剂蒸发来形成膜的工序，该光学膜的全光线透过率为70％以上，且雾度值为20％以上。