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公开(公告)号:CN106669048B
公开(公告)日:2019-07-16
申请号:CN201610914852.0
申请日:2016-10-20
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
Abstract: 本发明的粒子射线照射装置具备:加速器(2),其射出脉冲状的粒子射束;屏蔽构件(5),其具备将从该加速器(2)射出的脉冲状的粒子射束向照射对象物(4)的照射进行屏蔽的功能;数据库(7),其与加速器(2)的驱动条件对应地存储粒子射束的1个脉冲中的粒子数量的时间依存性;运算构件(8),其根据向照射对象物(4)照射的目标累积粒子数量和被存储在数据库(7)中的粒子射束的1个脉冲中的粒子数量的时间依存性,算出屏蔽构件(5)的屏蔽动作的时机;和屏蔽控制构件(6),其根据由运算构件(8)运算的屏蔽构件(5)的屏蔽动作的时机,控制屏蔽构件(5)。
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公开(公告)号:CN105102063B
公开(公告)日:2017-07-18
申请号:CN201480020418.7
申请日:2014-03-20
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1081 , A61N5/10 , A61N5/1077 , A61N2005/1087 , A61N2005/1094 , G21F7/005
Abstract: 粒子射线照射室(1)包括具有内壁侧的第一开口部(7)和外壁侧的第二开口部(8)的通路,室内具有等中心点(6),连结第一开口部(7)的中心和第二开口部(8)的中心的第一线段(9)通过通路(3)的内部,连结第一开口部(7)的中心和等中心点(6)的第二线段(10)与第一线段(9)之间所成的角度为180度以下,使通路(3)的宽度比第一开口部(7)的开口宽度要小。
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公开(公告)号:CN106669048A
公开(公告)日:2017-05-17
申请号:CN201610914852.0
申请日:2016-10-20
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1007 , A61N2005/1087 , A61N2005/1092 , A61N2005/1094
Abstract: 本发明的粒子射线照射装置具备:加速器(2),其射出脉冲状的粒子射束;屏蔽构件(5),其具备将从该加速器(2)射出的脉冲状的粒子射束向照射对象物(4)的照射进行屏蔽的功能;数据库(7),其与加速器(2)的驱动条件对应地存储粒子射束的1个脉冲中的粒子数量的时间依存性;运算构件(8),其根据向照射对象物(4)照射的目标累积粒子数量和被存储在数据库(7)中的粒子射束的1个脉冲中的粒子数量的时间依存性,算出屏蔽构件(5)的屏蔽动作的时机;和屏蔽控制构件(6),其根据由运算构件(8)运算的屏蔽构件(5)的屏蔽动作的时机,控制屏蔽构件(5)。
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公开(公告)号:CN105916554A
公开(公告)日:2016-08-31
申请号:CN201480072776.2
申请日:2014-01-10
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1043 , A61N5/1044 , A61N5/1071 , A61N2005/1087
Abstract: 本发明提供一种粒子射线照射装置,其对扫描装置实施如下控制,即将对照射对象的所有照射位置照射粒子射线的照射重复重新扫描次数,对各照射位置照射重新扫描次数的粒子射线,该粒子射线照射装置具备运算部,该运算部被输入重新扫描次数(n)和粒子射线的单位时间的剂量即射束强度(J)中的一方,求出对于所有照射位置满足下述条件(P1)的另一方的值中的最大值,并提示给用户。J*ti
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公开(公告)号:CN119731661A
公开(公告)日:2025-03-28
申请号:CN202280099180.6
申请日:2022-09-01
IPC: G06F30/20 , G06F111/06
Abstract: 设计辅助装置(2)构成为具有:数据取得部(11),其取得包含多个设计参数的多个设计候选数据作为电动机的设计数据的候选,并取得各个设计候选数据的第1评价值;以及数据生成部(13),其从由数据取得部(11)取得的多个设计候选数据中选择第1评价值相对高的上位若干个设计候选数据作为第1设计候选数据,根据各个第1设计候选数据生成包含多个设计参数的第2设计候选数据。此外,设计辅助装置(2)具有:评价值计算部(14),其根据各个第1设计候选数据中包含的多个设计参数计算各个第1设计候选数据的第2评价值,根据各个第2设计候选数据中包含的多个设计参数计算各个第2设计候选数据的第2评价值;以及设计数据选择部(15),其根据由评价值计算部(14)计算出的第2评价值,从多个第1设计候选数据和多个第2设计候选数据中选择用作电动机的设计数据的设计候选数据。
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公开(公告)号:CN116114144A
公开(公告)日:2023-05-12
申请号:CN202080105117.X
申请日:2020-09-24
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: H02K1/27 , H02K1/2789 , H02K1/2792 , H02K1/279 , H02K1/2753 , H02K1/2783 , H02K1/276 , H02K1/17 , H02K1/34 , H02K1/06
Abstract: 一种励磁元件,其特征在于,具有:多个主磁极永磁铁(41、51),它们在与后轭(5)的主面(5a)正交的方向被磁化,以磁化方向成为交替的方式排列;多个副磁极永磁铁(61、71),它们在与主磁极永磁铁(41、51)的磁化方向不同的方向进行磁化,以磁化方向成为交替的方式排列,并且在与主磁极永磁铁(41、51)的排列方向相同的方向与主磁极永磁铁(41、51)彼此差异地设置;以及非磁性层(6),其是非磁性的区域,副磁极永磁铁(61、71)的至少一部分在与主面(5a)正交的方向隔着非磁性层(6)而与主面(5a)相对,副磁极永磁铁(61、71)的与主面(5a)相对的面的位置是与从主面(5a)最远离的主磁极永磁铁(41、51)的面的位置相同的位置,副磁极永磁铁(61、71)的长度是比非磁性层(6)的长度长或相同的长度。
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公开(公告)号:CN108348768A
公开(公告)日:2018-07-31
申请号:CN201580084494.9
申请日:2015-11-17
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
Abstract: 治疗计划装置包括:预测根据假定的X射线强度得到的X射线图像的鲜明度并对患部的位置不确定性进行运算的X射线图像位置不确定性运算部;基于运算得到的患部的位置不确定性对治疗用放射线的照射参数进行运算的治疗用放射线照射参数运算部;根据假定的X射线强度对X射线拍摄装置照射于患者的X射线照射量进行运算的X射线照射量运算部;利用运算得到的治疗用放射线的照射参数对照射于患者的治疗用放射线的剂量分布进行运算的治疗用放射线剂量分布运算部;及对运算得到的X射线照射量和运算得到的治疗用放射线剂量分布进行显示的显示器。
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公开(公告)号:CN106163616A
公开(公告)日:2016-11-23
申请号:CN201480077893.8
申请日:2014-04-10
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1071 , A61N5/10 , A61N5/1044 , A61N5/1067 , A61N5/1077 , A61N2005/1087
Abstract: 粒子射线照射装置(50)对一个照射位置(12)多次照射粒子射线(10)。存储部(3)存储各次应照射的剂量(分割目标剂量)。剂量监视器(5)测量照射至照射位置(12)的粒子射线(10)的剂量。第1次照射时,利用剂量监视器(5)测量的剂量到达分割目标剂量后,控制部(4)发出遮断信号(15)。剂量监视器(5)测量从发出遮断信号(15)后至实际遮断粒子射线(10)的期间内照射的剂量(过剩剂量)(14)。然后设为校正剂量值=分割目标剂量‑过剩剂量。也可以改设为校正剂量值=分割目标剂量‑过剩剂量预测值。第2次照射时,利用剂量监视器(5)测量的剂量到达校正剂量值后,控制部(4)发出遮断信号(15)。通过该校正,减少点扫描法中超出所计划的剂量的照射剂量。
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